清洗盘、基站和清洁系统的制作方法

本申请涉及家用电器，尤其涉及一种清洗盘、基站和清洁系统。

背景技术：

1、相关技术中，基站能够对清洁设备的清洁件进行维护。例如清洁设备在清扫过程中及作业后等情况需要维护清洁件，如清洗、烘干等维护作业，仍存在待改进之处。

技术实现思路

1、有鉴于此，本申请实施例期望提供一种清洗盘、基站和清洁系统，能够提高对清洁件的烘干效率。

2、本申请实施例的第一方面提供一种清洗盘，所述清洗盘具有:

3、进水口和进风口；

4、连通的导流槽和清洗槽，所述进水口和所述进风口均与所述导流槽连通，所述清洗槽用于放置清洁设备的清洁件；

5、其中，所述导流槽位于所述进风口侧的至少部分构造为封闭式。

6、一些实施例中，所述清洗盘包括：

7、盘体，所述导流槽和所述清洗槽均位于所述盘体；

8、第一盖体，设置于所述盘体并遮盖所述导流槽的至少部分，所述进水口和所述进风口均位于所述第一盖体。

9、一些实施例中，所述盘体还具有排水槽，位于所述盘体，所述排水槽与所述清洗槽连通。

10、一些实施例中，所述盘体还具有过流槽，所述清洗槽和所述排水槽通过所述过流槽连通。

11、一些实施例中，所述盘体包括：

12、盘主体，具有所述过流槽；

13、第二盖体，设置于所述盘主体并遮盖所述过流槽。

14、一些实施例中，所述导流槽位于所述盘主体和所述第二盖体。

15、一些实施例中，所述第一盖体盖设于所述盘体并遮盖所述导流槽的其中一部分，所述导流槽靠近所述清洗槽的其中另一部分上方留空。

16、一些实施例中，所述清洗盘还包括：

17、多个分流件，间隔设置于所述盘体并位于所述导流槽。

18、一些实施例中，多个所述分流件包括：

19、多个第一分流件，间隔设置于所述盘体，并沿所述进水口朝向所述清洗槽延伸；

20、多个第二分流件，间隔设置于所述盘体，位于所述第一分流件与所述清洗槽之间，相邻两个所述第二分流件形成分流口，多个所述分流口朝向所述清洗槽均匀间隔布置。

21、一些实施例中，位于所述导流槽两侧的两个所述第一分流件连接形成导向部，所述进水口沿出水方向位于所述盘体的投影至少部分位于所述导向部。

22、一些实施例中，所述第一盖体具有透气孔，所述透气孔与所述导流槽连通。

23、一些实施例中，所述进水口位于所述进风口与所述清洗槽之间。

24、一些实施例中，所述导流槽分布于所述排水槽的至少两侧；

25、所述进水口为两个，分别位于所述排水槽的两侧；所述进风口为两个，分别位于所述排水槽的两侧。

26、一些实施例中，所述导流槽的位置高于所述清洗槽的位置，所述清洗槽的位置高于所述排水槽的位置。

27、一些实施例中，所述导流槽朝向所述清洗槽的坡度为1～4°；和/或，

28、所述清洗槽的两端朝向中心的坡度为1.5～4.5°；和/或，

29、所述排水槽的周侧朝向中部的坡度为1.5～4.5°。

30、本申请实施例的第二方面提供一种基站，包括：

31、设备本体；

32、本申请实施例任一项所述的清洗盘，设置于所述设备本体；

33、供水组件，设置于所述设备本体，连通于所述进水口，用于向所述清洗槽提供清洗液；

34、供气组件，设置于所述设备本体，连通于所述进风口，用于向所述清洗槽方向供应气流。

35、一些实施例中，所述清洗盘与所述设备本体可拆卸连接，所述供水组件与所述进水口分离设置，所述供气组件与所述进风口分离设置。

36、一些实施例中，所述供气组件的出风口与所述进风口错位设置，以使所述进风口至少部分裸露，所述供气组件能够朝向所述盘体上方供用气流。

37、一些实施例中，所述基站还包括：

38、驱动装置，用于与所述清洁件驱动连接。

39、本申请实施例还提供一种基站，所述基站包括：

40、设备本体；

41、本申请实施例任一项所述的清洗盘，设置于所述设备本体；

42、供水组件，设置于所述设备本体，连通于所述进水口，用于向所述清洗槽提供清洗液；

43、排水组件，设置于所述设备本体，连通于所述排水槽，用于从所述排水槽排出清洗液；

44、供气组件，设置于所述设备本体，连通于所述进风口，用于向所述清洗槽方向供应气流。

45、一些实施例中，所述供气组件的出风口与所述进风口错位设置，以使所述供气组件能够朝向所述排水槽方向供用气流。

46、一些实施例中，所述清洗盘与所述设备本体可拆卸连接，所述排水组件与所述排水槽分离设置。

47、本申请实施例的第三方面提供一种清洁系统，包括：

48、清洁设备，包括设备主体和设置于所述设备主体的清洁件；

49、本申请实施例任一项所述的基站，所述清洁件能够位于所述基站的清洗槽。

50、本申请实施例提供的清洗盘、基站和清洁系统，由于导流槽位于进风口侧的至少部分构造为封闭式，相比气流直接从导流槽向上扩散，能够减少气流流到清洁件时的损失量，减少气流的压降带来的热量损失，提高对清洁件的清洗效率或烘干效率。

1.一种清洗盘，其特征在于，所述清洗盘具有：

2.根据权利要求1所述的清洗盘，其特征在于，所述清洗盘包括：

3.根据权利要求2所述的清洗盘，其特征在于，所述盘体还具有排水槽，位于所述盘体，所述排水槽与所述清洗槽连通。

4.根据权利要求3所述的清洗盘，其特征在于，所述盘体还具有过流槽，所述清洗槽和所述排水槽通过所述过流槽连通。

5.根据权利要求4所述的清洗盘，其特征在于，所述盘体包括：

6.根据权利要求5所述的清洗盘，其特征在于，所述导流槽位于所述盘主体和所述第二盖体。

7.根据权利要求2所述的清洗盘，其特征在于，所述第一盖体盖设于所述盘体并遮盖所述导流槽的其中一部分，所述导流槽靠近所述清洗槽的其中另一部分上方留空。

8.根据权利要求2所述的清洗盘，其特征在于，所述清洗盘还包括：

9.根据权利要求8所述的清洗盘，其特征在于，多个所述分流件包括：

10.根据权利要求9所述的清洗盘，其特征在于，位于所述导流槽两侧的两个所述第一分流件连接形成导向部，所述进水口沿出水方向位于所述盘体的投影至少部分位于所述导向部。

11.根据权利要求2所述的清洗盘，其特征在于，所述第一盖体具有透气孔，所述透气孔与所述导流槽连通。

12.根据权利要求1至11任一项所述的清洗盘，其特征在于，所述进水口位于所述进风口与所述清洗槽之间。

13.根据权利要求3至6任一项所述的清洗盘，其特征在于，所述导流槽分布于所述排水槽的至少两侧；

14.根据权利要求3至6任一项所述的清洗盘，其特征在于，所述导流槽的位置高于所述清洗槽的位置，所述清洗槽的位置高于所述排水槽的位置。

15.根据权利要求3至6任一项所述的清洗盘，其特征在于，所述导流槽朝向所述清洗槽的坡度为1~4°；和/或，

16.一种基站，其特征在于，包括：

17.根据权利要求16所述的基站，其特征在于，所述清洗盘与所述设备本体可拆卸连接，所述供水组件与所述进水口分离设置，所述供气组件与所述进风口分离设置。

18.根据权利要求16所述的基站，其特征在于，所述供气组件的出风口与所述进风口错位设置，以使所述进风口至少部分裸露，所述供气组件能够朝向所述盘体上方供用气流。

19.根据权利要求16所述的基站，其特征在于，所述基站还包括：

20.一种基站，其特征在于，包括：

21.根据权利要求20所述的基站，其特征在于，所述供气组件的出风口与所述进风口错位设置，以使所述供气组件能够朝向所述排水槽方向供用气流。

22.根据权利要求20所述的基站，其特征在于，所述清洗盘与所述设备本体可拆卸连接，所述排水组件与所述排水槽分离设置。

23.一种清洁系统，其特征在于，包括：