湿法机台实验室以及硅片生产线的制作方法

摘要: 本申请涉及太阳能电池,具体而言,涉及一种湿法机台实验室以及硅片生产线。背景技术:1、湿法机台作为硅片制造工艺中的重要设备,能够通过化学液体进行硅片清洗、湿法刻蚀...
湿法机台实验室以及硅片生产线的制作方法

本申请涉及太阳能电池,具体而言,涉及一种湿法机台实验室以及硅片生产线。

背景技术:

1、湿法机台作为硅片制造工艺中的重要设备,能够通过化学液体进行硅片清洗、湿法刻蚀或者抛光辅助,是保证硅片表面质量和后续工艺精度的核心设备。这些加工环节对洁净度要求极高,任何微小的污染物都可能影响硅片的加工质量,因此需要将湿法机台放置于洁净的实验室内,提供必要的洁净环境。另外,实验室内设有台架,工人可从洁净门进入实验室,借助登高梯登上台架,进行检修维护作业等等。

2、然而,常规的登高梯无法通过洁净门,如果在实验室内部设置台阶,又导致空间上的浪费,增加实验室运行成本。

技术实现思路

1、为此,本申请提出一种湿法机台实验室以及硅片生产线,洁净室配有登高梯,登高梯的高度可调节,既能够顺利通过洁净门,又能够与台架对接,具有较高的便易性。

2、本申请第一方面实施例湿法机台实验室包括:洁净室,具有洁净门;湿法机台,设置于所述洁净室的内部;台架,设置于所述洁净室的内部;登高梯,包括梯子主体和支脚组件,所述支脚组件设置于所述梯子主体的底部,所述支脚组件的高度可调节,以使所述登高梯的总高度h在h1和h2之间变化;当h=h1时,所述登高梯能够通过所述洁净门;当h=h2时,所述梯子主体能够与所述台架对接。

3、可选地,所述支脚组件包括:支架,设置于所述梯子主体的底部,所述支架设有螺纹孔;升降杆,与所述螺纹孔螺纹配合;支脚,设置于所述升降杆的底部;所述升降杆被配置为通过绕自身轴线转动以带动所述支脚升降。

4、可选地,所述升降杆上设置有把手,用于供人手持带动所述升降杆转动。

5、可选地,所述梯子主体包括:框架,所述支脚组件设置于所述框架的底部;对接板,设置于所述框架的前端,用于与所述台架对接;踏板组件,设置于所述框架,用于衔接地面与所述对接板。

6、可选地,所述对接板的端部具有连接部,用于与所述台架可拆卸地连接。

7、可选地,所述对接板可折叠地设置于所述框架,以在伸出位置和收起位置之间切换;当所述对接板位于伸出位置时,所述对接板向远离所述框架的方向延伸;当所述对接板位于收起位置时,所述对接板与所述框架贴合设置。

8、可选地,所述梯子主体包括连接组件,所述连接组件包括:铰接组件,所述铰接组件的一侧与所述框架连接,另一侧与所述对接板连接;止动件,用于将所述对接板固定于伸出位置。

9、可选地,所述对接板与所述铰接组件可拆卸地连接。

10、可选地,所述台架距离所述洁净门的间距为l1,所述梯子主体的长度为l2,满足:l1<l2。

11、本申请第二方面实施例的硅片生产线包括本申请第一方面实施例所述的湿法机台实验室。

12、相对于现有技术,本方案具有以下有益效果:

13、本申请实施例的湿法机台实验室的登高梯与洁净室分离设置,且登高梯能够通过支脚组件调节总高度,一方面,登高梯能够顺利通过洁净门且与台架对接,以便工作人员通过登高梯登上台架进行检修作业;另一方面,在不需要检修维护时可以放置于洁净室的外部,不占用洁净室的内部空间。该湿法机台实验室配备有能够调整总高度的登高梯,不仅具有较高的便易性,且具有较多的洁净空间来布置湿法机台,提高了硅片处理效率。

14、本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实践了解到。

1.一种湿法机台实验室(100),其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的湿法机台实验室(100),其特征在于,所述支脚组件(142)包括:

3.根据权利要求2所述的湿法机台实验室(100),其特征在于,所述升降杆(1423)上设置有把手(1425),用于供人手持带动所述升降杆(1423)转动。

4.根据权利要求1所述的湿法机台实验室(100),其特征在于,所述梯子主体(141)包括:

5.根据权利要求4所述的湿法机台实验室(100),其特征在于,所述对接板(1412)的端部具有连接部(1415),用于与所述台架(130)可拆卸地连接。

6.根据权利要求5所述的湿法机台实验室(100),其特征在于,所述对接板(1412)可折叠地设置于所述框架(1411),以在伸出位置和收起位置之间切换;

7.根据权利要求6所述的湿法机台实验室(100),其特征在于,所述梯子主体(141)包括连接组件(143),所述连接组件(143)包括:

8.根据权利要求7所述的湿法机台实验室(100),其特征在于,所述对接板(1412)与所述铰接组件(1431)可拆卸地连接。

9.根据权利要求1所述的湿法机台实验室(100),其特征在于,所述台架(130)距离所述洁净门(111)的间距为l1,所述梯子主体(141)的长度为l2,满足:

10.一种硅片生产线,其特征在于,包括如权利要求1至9任一项所述的湿法机台实验室(100)。