一种方便清理的旋涂设备的制作方法

1.本实用新型涉及旋涂设备技术领域，具体为一种方便清理的旋涂设备。


背景技术：

2.在半导体制造及纳米压印领域，首先要在基片表面涂覆一层胶体成膜，然后再进行后续的光刻或者压印工艺，已形成预定的图形层。目前常用的旋涂方式有静态点胶旋涂，动态点胶旋涂。无论是静态点胶旋涂或者动态点胶旋涂，都会有多余的胶液从旋转的基片上甩出。
3.甩出的胶体残留在旋涂设备的旋涂腔内，粘度大，不易清理。胶体会挥发出许多对人体有害的气体，影响人的身体健康。一台旋涂设备可能旋涂多种胶体，不同胶体可能会在旋涂腔内交叉反应。有效及时的回收清理残留在旋涂腔内的胶体，是在设计旋涂设备时需要解决的问题。
4.现有的旋涂设备大多设置了旋涂腔体用于回收废液，但是其旋涂腔一般是固定在设备上的，清理不方便。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供一种方便清理的旋涂设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
6.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种方便清理的旋涂设备，包括旋转单元，所述旋转单元的外侧安装有可拆卸的旋涂腔体单元，且旋转单元固定安装在旋涂腔体单元的内部底端，所述旋转单元和旋涂腔体单元的下端固定安装有排放单元。
7.优选的，所述旋转单元包括吸盘、基片定位杆、真空槽、真空孔、定位销槽、支撑杆、定位销、旋转电机和真空泵，所述吸盘上表面边缘处设有基片定位杆，所述吸盘上表面中心处设有真空槽和真空孔，所述吸盘的下端设有定位销槽，所述真空孔与支撑杆连通，所述定位销槽的内部配合安装有定位销，所述支撑杆的下端固定连接有旋转电机，所述旋转电机的下端固定连接有真空泵。
8.优选的，所述旋涂腔体单元包括盖板、把手、旋转块、密封条、盆体固定圈、盆体、集液槽、防背溅盘、废液口和支撑块，所述盖板的上表面设有把手，所述盖板的一侧设有旋转块，所述盖板下表面设有密封条，所述密封条的下端紧密贴合有盆体固定圈，所述盆体固定圈的外侧固定安装有盆体，所述盆体中心处呈圆锥状，且支撑杆可穿过盆体中间区域，所述旋转块直接固定在设备壳体上，所述盆体的下方设有一圈集液槽，所述盆体中心圆锥状区域内固定安装有防背溅盘，且位于吸盘的下方，所述集液槽的底部废液口，所述盆体与废液口相对的另一边由支撑块支撑。
9.优选的，所述排放单元包括废液收集管、一级过滤阀、废气管道、排风扇、二级过滤阀、废液容器和废液排放阀，所述废液口的下端固定连接有废液收集管，且废液收集管呈z型，所述废液收集管的中间部分左端固定连接有一级过滤阀，所述一级过滤阀的左端固定
连接有废气管道，所述废气管道的左端固定连接有排风扇，所述排风扇的左端固定连接有二级过滤阀，所述废液收集管的底端固定安装有废液容器，所述废液容器的底端固定安装有废液排放阀。
10.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该方便清理的旋涂设备设计合理，旋涂腔体单元能有效回收旋涂时产生的废液，旋涂腔体可以从设备上拆下，方便彻底的清理旋涂腔，设置防背溅盘防止旋涂时胶体溅射在基片背面，污染基片，优化了旋涂设备的排气系统，排气系统在旋涂腔下方，废气向下吸收，避免人工点胶的时候吸入有毒气体，解决了无论是静态点胶旋涂或者动态点胶旋涂，都会有多余的胶液从旋转的基片上甩出，甩出的胶体残留在旋涂设备的旋涂腔内，粘度大，不易清理。胶体会挥发出许多对人体有害的气体，影响人的身体健康，旋涂腔一般是固定在设备上的，清理不方便的问题。
附图说明
11.图1本实用新型设备的结构示意图；
12.图2本实用新型设备的俯视图；
13.图中：1旋转单元、11吸盘、111基片定位杆、112真空槽、113真空孔、114定位销槽、12支撑杆、13定位销、14旋转电机、15真空泵、2旋涂腔体单元、21盖板、211把手、212旋转块、213密封条、22盆体固定圈、23盆体、231集液槽、24防背溅盘、25废液口、26支撑块、3排放单元、31废液收集管、32一级过滤阀、33废气管道、34排风扇、35二级过滤阀、36废液容器、37废液排放阀。
具体实施方式
14.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
15.请参阅图1
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2，本实用新型提供一种技术方案：一种方便清理的旋涂设备，包括旋转单元1，旋转单元1的外侧安装有可拆卸的旋涂腔体单元2，且旋转单元1固定安装在旋涂腔体单元2的内部底端，旋转单元1和旋涂腔体单元2的下端固定安装有排放单元3。
16.旋转单元1包括吸盘11、基片定位杆111、真空槽112、真空孔113、定位销槽114、支撑杆12、定位销13、旋转电机14和真空泵15，吸盘11上表面边缘处设有基片定位杆111，吸盘11上表面中心处设有真空槽112和真空孔113，吸盘11的下端设有定位销槽114，真空孔113与支撑杆12连通，定位销槽114的内部配合安装有定位销13，支撑杆12的下端固定连接有旋转电机14，旋转电机14的下端固定连接有真空泵15，基片定位杆111用于定位基片的中心，防止基片在高速旋转时飞片，支撑杆12中空，与所述真空泵15连通，在吸盘11的真空槽112内形成负压吸附固定基片。
17.旋涂腔体单元2包括盖板21、把手211、旋转块212、密封条213、盆体固定圈22、盆体23、集液槽231、防背溅盘24、废液口25和支撑块26，盖板21的上表面设有把手211，盖板21的一侧设有旋转块212，盖板21下表面设有密封条213，密封条213的下端紧密贴合有盆体固定圈22，盆体固定圈22的外侧固定安装有盆体23，盆体23中心处呈圆锥状，且支撑杆12可穿过
盆体23中间区域，旋转块212直接固定在设备壳体上，盆体23的下方设有一圈集液槽231，盆体23中心圆锥状区域内固定安装有防背溅盘24，且位于吸盘11的下方，集液槽231的底部废液口25，盆体23与废液口25相对的另一边由支撑块26支撑，盖板21中间为玻璃材质，方便观察旋涂情况，密封条213与盆体固定圈22紧密贴合，防止废气排出，防背溅盘24防止旋涂时胶体溅射在基片背面，污染基片。
18.排放单元3包括废液收集管31、一级过滤阀32、废气管道33、排风扇34、二级过滤阀35、废液容器36和废液排放阀37，废液口25的下端固定连接有废液收集管31，且废液收集管31呈z型，废液收集管31的中间部分左端固定连接有一级过滤阀32，一级过滤阀32的左端固定连接有废气管道33，废气管道33的左端固定连接有排风扇34，排风扇34的左端固定连接有二级过滤阀35，废液收集管31的底端固定安装有废液容器36，废液容器36的底端固定安装有废液排放阀37，旋涂腔收集的废液沿废液口25流入废液收集管31，再沿废液收集管31流入废液容器36。废液容器36液满后，打开废液排放阀27将废液排除，一级过滤阀32设置的在废液收集管31中间出，废液会沿废液收集管31的下表面流动，避免大量的胶体流入废气管道33中。排风扇34用于将旋涂腔和废液收集管31内的废气抽入过滤阀中过滤，避免废气向上挥发，人体吸入。
19.工作原理：将盆体23放置在旋涂设备内，支撑杆12穿过盆体23的中心区域，废液口25与废液收集管31连接在一起。盆体23另一端通过支撑块26支撑。将防背溅盘24的中心区域穿过盆体23的中心区域，将防背溅盘24卡在盆体23上，安装吸盘11，吸盘的定位销槽114与定位销13卡接。在吸盘11上表面中心处设有真空槽112和真空孔113，真空孔113与支撑杆12连通。支撑杆12中空，与所述真空泵15连通，在吸盘11的真空槽112内形成负压吸附固定基片，在吸盘11上表面边缘处设有基片定位杆111，定位基片的中心，防止基片在高速旋转时飞片，通过真空泵15吸附固定基片后，在基片中心处点胶，旋转电机14带动支撑杆12旋转，从而带动吸盘11和基片旋转。旋转产生的废液沿盆体23的内壁流入集液槽231内，再通过废液口25流入废液收集管31内，废液会沿废液收集管31的下表面流动，流入废液容器36。废液容器36液满后，打开废液排放阀37将废液排除，在旋涂的过程中，排风扇34将旋涂腔和废液收集管31内的废气抽入一级，二级过滤阀中过滤，避免废气向上挥发，人体吸入，工作完成后对设备进行清理工作，首先将吸盘11从支撑杆12上拆下，再将防背溅盘24从盆体23上拆下，然后将盆体固定圈22从设备上拆下，最后将盆体23拆下，之后将吸盘11、支撑杆12、盆体固定圈22、盆体23和防背溅盘24进行清理即可。
20.对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
21.此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。