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一种带有屏风的椅子的制作方法

2023-01-06 03:34:32 来源:中国专利 TAG:


1.本技术涉及椅子技术的领域,尤其是涉及一种带有屏风的椅子。


背景技术:

2.目前,大多数餐桌会占用餐馆大部分地方,包房的数量较少,而餐桌之间往往用于摆放适配的座椅,当处于公共场合用餐时易受到周围环境的影响同时能够影响周围的人。
3.针对上述中的相关技术,发明人认为相邻餐桌的顾客在用餐时,由于彼此的视线之间没有遮挡,私密性比较差。


技术实现要素:

4.本实用新型的目的是针对现有技术存在上述问题,提出了一种带有屏风的椅子,用以解决用餐时视线没有遮挡,私密性差的问题。
5.本实用新型的目的可通过下列的技术方案来实现:一种带有屏风的椅子,包括屏风、靠背、椅面和支撑腿;所述屏风包括顶杆、帘布和立柱;所述椅面安装于支撑腿的上方;所述靠背设于所述椅面的上方;所述屏风设于靠背的上方;所述立柱连接于椅面且与所述靠背相连接;所述顶杆连接于立柱远离椅面的一端;所述顶杆与所述帘布相连接。
6.通过采用上述的技术方案,带有屏风的椅子置于餐厅公共区域,相邻餐桌之间的顾客需要私密空间时,椅子上的屏风可以遮挡彼此的视线,提高用餐的私密性。
7.可选的,还包括配重杆;所述配重杆与所述帘布远离所述顶杆的一侧相连接。
8.通过采用上述技术方案,配重杆通过悬空带动帘布的伸展,加强遮挡效果;同时,帘布通过配重杆增加自身的重量,增强稳定性,降低摇晃的可能性。
9.可选的,所述立柱有两根;所述顶杆的两端各连接有一个所述立柱。
10.通过采用上述的技术方案,顶杆的两端各连接有一个立柱,提高顶杆的稳定性,从而提高屏风的稳固程度。
11.可选的,所述帘布包括扎带和遮挡帘;所述扎带至少有两个;其中至少一扎带连接于所述遮挡帘靠近所述顶杆的侧部;至少一扎带连接于所述遮挡帘靠近所述配重杆的侧部;所述遮挡帘通过所述扎带可拆卸连接所述顶杆和所述配重杆。
12.通过采用上述的技术方案,扎带可拆卸连接顶杆和配重杆,便于遮挡帘的拆卸、清洗和收纳。
13.可选的,所述扎带包括可粘扣的第一贴片和第二贴片。
14.通过采用上述的技术方案,连接帘布时第一贴片和第二贴片粘合,拆卸帘布时第一贴片和第二贴片分离,便于帘布的快速拆卸。
15.可选的,所述立柱的中间开通有条槽且所述条槽贯穿所述立柱;所述条槽的宽度不小于所述配重杆径向截面的宽度;所述配重杆端部朝所述立柱延伸至局部穿设于所述条槽。
16.通过采用上述的技术方案,配重杆端部延伸至局部穿设于贯穿立柱的条槽,通过
立柱的阻隔,提高配重杆的稳固程度;且配重杆通过条槽可以横向移动,便于拆卸配重杆。
17.可选的,所述立柱设有磁铁夹层;所述磁铁夹层的长度与所述条槽的长度相匹配,并嵌入所述条槽的两侧;所述配重杆设有配重磁块且所述配重杆的两端分别镶嵌有所述配重磁块;所述磁铁夹层与所述配重磁块相互吸附;所述配重杆沿所述条槽旋转收纳所述帘布。
18.通过采用上述的技术方案,配重杆可旋转至悬空位置且通过磁块与磁铁夹层的吸附功能固定于悬空位置,从而将帘布卷曲收纳,便于调节遮挡范围。
19.可选的,所述靠背包括靠垫和调节杆;所述调节杆位于配重杆靠近椅面的一侧且所述调节杆端部朝所述立柱延伸至局部穿设于所述条槽;所述调节杆设有调节磁块且所述调节杆的两端镶嵌有所述调节磁块;所述磁铁夹层与所述调节磁块相互吸附;所述靠垫铺设于所述调节杆且靠垫可调节。
20.通过采用上述的技术方案,调节杆可旋转至悬空位置且通过磁块与磁铁夹层的吸附功能固定于悬空位置,从而调节靠背的高度;同时,又通过立柱的阻隔作用,增加调节杆的稳定性,从而增强靠背的稳固性。
21.可选的,所述调节杆至少有两根;所有所述调节杆均位于所述配重杆下方且穿设于所述条槽;所述靠垫铺设于最高的所述调节杆;所有所述调节杆用于支撑所述靠垫。
22.通过采用上述的技术方案,在离椅面距离最远的调节杆和椅面之间增设调节杆,为靠垫增加支撑点,从而使靠垫的受力更加均匀,增加靠背的稳定性。
23.可选的,所述靠垫为可局部形变的柔性垫。
24.通过采用上述的技术方案,靠垫为柔性且可局部形变,在受到人体背部给予的压力时,能发生形变贴合人体背部的曲线,提升靠垫的舒适度。
25.综上所述,本技术包括以下至少一种有益技术效果:
26.1.带有屏风的椅子置于餐厅公共区域,相邻餐桌之间的顾客需要私密空间时,椅子上的屏风可以遮挡彼此的视线,提高用餐的私密性;
27.2.配重杆可旋转至悬空位置且通过磁块与磁铁夹层的吸附功能固定于悬空位置,从而将帘布卷曲收纳,便于调节遮挡范围;
28.3.调节杆可旋转至悬空位置且通过磁块与磁铁夹层的吸附功能固定于悬空位置,从而调节靠背的高度;同时,又通过立柱的阻隔作用,增加调节杆的稳定性,从而增强靠背的稳固性。
附图说明
29.图1是本技术实施例1的结构示意图。
30.图2是本技术实施例1中屏风与靠背的结构示意图。
31.图3是本技术实施例1中屏风与调节杆的结构示意图。
32.图4是图1中a的放大图。
33.图5是本技术实施例2的结构示意图。
34.附图标记说明:1、屏风;11、顶杆;12、帘布;121、扎带;1211、第一贴片;1212、第二贴片;122、遮挡帘;13、立柱;131、条槽;132、磁铁夹层;14、配重杆;141、配重磁块;2、靠背;21、靠垫;22、调节杆;221、调节磁块;3、椅面;4、支撑腿。
具体实施方式
35.以下结合附图1-5对本技术作进一步详细说明。
36.实施例1
37.本技术实施例公开一种带有屏风的椅子。
38.参照图1,带有屏风的椅子包括支撑腿4、椅面3、靠背2和屏风1;本实施例中椅面3安装于支撑腿4的上方,而靠背2设于椅面3一侧边的上面,屏风1固定于靠背2的上方。
39.参照图2和图3,屏风1包括顶杆11、配重杆14、帘布12和立柱13。靠背2包括靠垫21和调节杆22;立柱13设有条槽131和磁铁夹层132;配重杆14设有配重磁块141;调节杆22设有调节磁块221。在不同的实施例中,立柱13与靠背2下方的支撑腿4可以是一体的,立柱13与支撑腿4也可以是分别设置。
40.本实施例中立柱13有两根;顶杆11的两端各连接有一根立柱13;立柱13连接于椅面3且位于靠背2的两端;靠背2与屏风1共用两根立柱13。立柱13的中间开通有条槽131且条槽131贯穿立柱13;磁铁夹层132嵌于条槽131的两侧,条槽131的长度与磁铁夹层132的长度相匹配。条槽131的宽度不小于配重杆14径向截面的宽度;配重杆14端部朝立柱13延伸至局部穿设于条槽131。同时,配重磁块141镶嵌于配重杆14的端部;由此,通过配重磁块141与磁铁夹层132的磁吸连接,可使调整配重杆14根据需要沿条槽131调整高度。使用时,配重杆14沿自身轴线转动,收卷帘布12,调整屏风1中利用帘布12的遮挡范围,最后将配重杆14磁吸于立柱13的磁铁夹层132,使调整后的帘布12的遮挡范围得以保持。
41.在本实施例中调节杆22至少有一根;调节杆22位于配重杆14靠近椅面3的一侧且调节杆22端部朝立柱13延伸至局部穿设于条槽131,同时,调节杆22的两端镶嵌有调节磁块221从而磁铁夹层132与调节磁块221相互吸附;靠垫21铺设于与椅面3距离最远的调节杆22。所有调节杆22用于支撑靠垫21。顶杆11的外周壁与帘布12相连接,配重杆14的外周壁与帘布12远离顶杆11的一侧相连接,配重杆14沿条槽131旋转收纳帘布12。
42.帘布12包括扎带121和遮挡帘122;扎带121至少有两个,其中至少一扎带121连接于遮挡帘122靠近顶杆11的侧部,至少另有一扎带121连接于遮挡帘122靠近配重杆14的侧部;遮挡帘122通过扎带121可拆卸连接顶杆11和配重杆14。
43.参考图4,具体的扎带121可以是借助魔术贴、纽扣或者磁性扣件等连接件,使遮挡帘122保持与顶杆11和/或配重杆14的连接状态,并可解开使遮挡帘122与顶杆11和/或配重杆14脱离的部件。扎带121也可以是绑缚带,通过系绑于顶杆11或配重杆14。
44.本实施例中,扎带121为借助魔术贴实现与顶杆11和/或配重杆14连接。而且,遮挡帘122的两侧各设有7个扎带121。
45.本技术实施例一种带有屏风的椅子的实施原理为:
46.展开屏风1:将帘布12自然展开,通过配重磁块141与磁铁夹层132的吸附作用将配重杆14固定,同时,将调节杆22沿条槽131上移,通过调节磁块221与磁铁夹层132的吸附作用将调节杆22固定,从而增大帘布12与靠背2的遮挡程度,提高用餐私密性。
47.收纳屏风1:将配重杆14沿条槽131旋转卷曲帘布12,旋转后通过配重磁块141与磁铁夹层132的吸附作用将配重杆14固定,降低视线遮挡程度,方便交流。
48.实施例2
49.本实施例公开一种带有屏风的椅子。
50.参考图5,基于实施例1,本实施例与实施例1的区别在于,椅面3的结构、椅面3与靠背2的连接结构不同,具体如下:
51.椅面3安装于支撑腿4的上方,而靠背2设置于椅面3中间,可将椅面3分隔成共用同一靠背2的两个座位,相当于两个背靠背2的座位。屏风1通过立柱13设于靠背2上方,即,使得同一个椅面3的两侧的座位共用一个屏风1。
52.本技术实施例一种带有屏风的椅子的实施原理为:
53.相邻餐桌的座椅共用一个靠背2,在需要开放空间时,不需调节双方椅子上的屏风1,只需调节一次共用的屏风1。将配重杆14沿条槽131旋转卷曲帘布12,旋转后通过配重磁块141与磁铁夹层132的吸附作用将配重杆14固定,同时,将调节杆22沿条槽131向下移动,移动后通过调节磁块221与磁铁夹层132的吸附作用将调节杆22固定,降低靠背2高度,降低视线遮挡程度,方便交流。
54.以上均为本技术的较佳实施例,并非依此限制本技术的保护范围,故:凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本技术的保护范围之内。
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