具有分段的基板卡盘的承载头的制作方法

技术特征：
1.一种用于化学机械抛光装置的承载头，所述承载头包含：承载主体；外部膜组件，从所述承载主体支撑且界定第一多个独立可加压外部腔室；环状分段的卡盘，从所述外部膜组件支撑，所述基板卡盘包括能由所述外部膜组件的相应可加压腔室独立垂直移动的多个同心环，这些环中的至少两者具有穿过其中以将基板吸卡至所述卡盘的通路；以及内部膜组件，从所述承载主体支撑，所述内部膜组件由所述卡盘的所述多个同心环的最内部环围绕，所述内部膜组件界定第二多个独立可加压内部腔室且具有用于接触所述基板的下部表面。2.如权利要求1所述的承载头，进一步包含垫层，所述垫层在所述基板卡盘下方延伸且紧固至所述基板卡盘，且被配置成接触所述基板。3.如权利要求2所述的承载头，其中所述垫层由同心环组成。4.如权利要求2所述的承载头，其中所述垫层包括与穿过所述环的所述通路对齐的真空通道。5.如权利要求2所述的承载头，其中所述垫层横跨所述基板卡盘的相邻的同心环之间的间隙。6.如权利要求2所述的承载头，其中所述垫层在所述内部膜组件下方延伸。7.如权利要求6所述的承载头，其中所述垫层横跨所述内部膜组件的多个独立可加压腔室。8.如权利要求1所述的承载头，其中所述内部膜组件包括具有多个翼片的内部膜，以将所述承载主体下方的空间划分成多个内部腔室。9.如权利要求8所述的承载头，其中所述外部膜组件包括具有多个翼片的外部膜，以将所述承载主体下方的空间划分成多个外部腔室。10.如权利要求9所述的承载头，其中所述内部膜和所述外部膜为单体膜的部分。11.一种化学机械抛光系统，包含：平台，用于支撑抛光垫；承载头，包括：承载主体；外部膜组件，从所述承载主体支撑且界定第一多个独立可加压外部腔室；环状分段的基板卡盘，从所述外部膜组件支撑，卡盘包括能由所述外部膜组件的相应可加压腔室独立垂直移动的多个同心环，这些环中的至少两者具有穿过其中以将基板吸卡至所述卡盘的通路；以及内部膜组件，从所述承载主体支撑，所述内部膜组件由所述卡盘的所述多个同心环的最内部环围绕，所述内部膜组件界定第二多个独立可加压内部腔室且具有用于接触所述基板的下部表面；多个压力源，耦合至所述内部腔室和所述外部腔室；以及控制器，连接至所述压力源。12.如权利要求11所述的系统，进一步包含垫层，所述垫层在所述基板卡盘下方延伸且紧固至所述基板卡盘，且被配置成接触所述基板。
13.如权利要求12所述的系统，其中所述垫层包括与穿过所述环的所述通路对齐且连接至所述压力源的真空通道。14.如权利要求11所述的系统，其中所述承载头包含边缘控制环，所述边缘控制环围绕所述卡盘的所述多个同心环的最外部环且能相对于所述卡盘的所述多个同心环的最外部环垂直移动。15.一种用于化学机械抛光的方法，包含以下步骤：将基板放置在承载头中；使用来自外部膜组件的通过所述承载头的基板卡盘传输的压力和来自由所述卡盘围绕的所述承载头的内部膜组件的压力，来抛光所述基板；在抛光期间，通过使用所述卡盘将所述基板卡紧至所述承载头，从而防止所述基板横向移动。

技术总结
一种用于化学机械抛光装置的承载头，包括承载主体、外部膜组件、环状分段的卡盘及内部膜组件。外部膜组件从承载主体支撑且界定第一多个独立可加压外部腔室。环状分段的卡盘支撑在外部膜组件下方，且包括可由外部膜组件的各个可加压腔室独立垂直移动的多个同心环。环中的至少两者具有穿过其中以将基板吸卡至卡盘的通路。内部膜组件从承载主体支撑，且由卡盘的多个同心环的最内部环围绕。内部膜组件界定第二多个独立可加压内部腔室，且具有接触基板的下部表面。的下部表面。的下部表面。


技术研发人员：S
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2020.08.21
技术公布日：2022/5/10