组合物、组合物的制造方法、固化膜、转印膜及触摸面板的制造方法与流程

1.本发明涉及一种组合物、组合物的制造方法、固化膜、转印膜及触摸面板的制造方法。


背景技术：

2.在电子设备(例如，移动电话、汽车导航、个人电脑、售票机及银行终端等)的显示设备中，作为输入装置使用触摸面板的情况较多。
3.已知在这种触摸面板中，设置有用于保护包含金属配线的电极的保护膜。
4.例如，专利文献1中记载有一种转印材料，其具有临时支承体和层叠于临时支承体上的透明固化性树脂层，透明固化性树脂层在550nm的波长下的折射率为1.55以上。
5.以往技术文献
6.专利文献
7.专利文献1：日本特开2014-056311号公报


技术实现要素：

8.发明要解决的技术课题
9.本发明人等对专利文献1中记载的转印膜进行研究的结果，若弯曲转印膜，则有时会在透明固化性树脂层的表面发生破裂。发现，尤其在专利文献1中记载的膜的透明固化性树脂层包含金属氧化物粒子的情况下弯曲时，容易发生破裂。
10.本发明要解决的课题在于提供一种可获得在具有包含金属氧化物粒子的层时弯曲性得到改善的转印膜的组合物。并且，本发明要解决的课题在于提供该组合物的制造方法、该组合物的固化膜、使用该组合物的转印膜、使用该组合物的触摸面板的制造方法。
11.用于解决技术课题的手段
12.本发明人等为了解决上述课题而深入研究的结果，发现设为在含有金属氧化物粒子及具有酸基的粘合剂聚合物的组合物中具有包含连结链长在特定范围内的连接基的取代基且使用重均分子量在特定范围内的胺化合物的组合物，由此可获得在具有包含金属氧化物粒子的层时弯曲性得到改善的转印膜，并完成了本发明。
13.另外，专利文献1中没有关于包含金属氧化物粒子的透明固化性树脂层中含有胺化合物的记载。
14.能够解决上述课题的本发明的结构及本发明的优选方式如下。
15.[1]一种组合物，其含有：
[0016]
胺化合物、金属氧化物粒子及具有酸基的粘合剂聚合物，
[0017]
作为胺化合物的氮原子的取代基，具有包含连结链长为3以上的连接基的取代基，
[0018]
胺化合物的重均分子量为100以上。
[0019]
[2]根据[1]所述的组合物，其中，
[0020]
胺化合物为由下述通式n表示的化合物。
[0021]
[化学式1]
[0022][0023]
[3]根据[1]或[2]所述的组合物，其中，
[0024]
金属氧化物粒子的含量相对于组合物中的总固体成分为40～95质量％。
[0025]
[4]根据[1]至[3]中任一项所述的组合物，其中，
[0026]
金属氧化物粒子包含选自氧化锆粒子及氧化钛粒子中的至少1种。
[0027]
[5]根据[1]至[4]中任一项所述的组合物，其进一步含有具有6元杂环结构的化合物，
[0028]
具有6元杂环结构的化合物具有单环或多环的芳香族杂环结构。
[0029]
[6]根据[5]所述的组合物，其中，
[0030]
具有6元杂环结构的化合物具有在环结构内具有2个氮原子的6元杂环结构。
[0031]
[7]根据[5]或[6]所述的组合物，其中，
[0032]
具有6元杂环结构的化合物为腺嘌呤或嘧啶。
[0033]
[8]根据[1]至[7]中任一项所述的组合物，其进一步具有烯属不饱和化合物。
[0034]
[9]根据[8]所述的组合物，其进一步含有光聚合引发剂。
[0035]
[10]根据[1]至[9]中任一项所述的组合物，其用于形成触摸面板上的保护膜。
[0036]
[11]根据[1]至[10]中任一项所述的组合物，其用于形成触摸面板上的折射率调整层。
[0037]
[12]一种组合物的制造方法，其包括使用金属氧化物粒子、具有酸基的粘合剂聚合物及胺化合物制备组合物的工序，
[0038]
作为胺化合物的氮原子的取代基，具有包含连结链长为3以上的连接基的取代基，
[0039]
胺化合物的重均分子量为100以上。
[0040]
[13]一种[1]至[11]中任一项所述的组合物的固化膜。
[0041]
[14]一种转印膜，其具有临时支承体和包含[1]至[11]中任一项所述的组合物的折射率调整层。
[0042]
[15]根据[14]所述的转印膜，其中，
[0043]
折射率调整层的折射率为1.55～1.80。
[0044]
[16]根据[14]或[15]所述的转印膜，其在临时支承体与折射率调整层之间具有感光性树脂层。
[0045]
[17]根据[16]所述的转印膜，其中，
[0046]
感光性树脂层含有粘合剂聚合物、烯属不饱和化合物及光聚合引发剂。
[0047]
[18]一种触摸面板的制造方法，其包括：
[0048]
准备触摸面板用基板的工序，所述触摸面板用基板具有在基板上配置有触摸面板
用电极及触摸面板用配线中的至少一个的结构；
[0049]
在触摸面板用基板的配置有触摸面板用电极及触摸面板用配线中的至少一个的一侧的表面上，形成由[1]至[11]中任一项所述的组合物构成或干燥组合物而成的折射率调整层的工序；
[0050]
对形成于触摸面板用基板上的折射率调整层进行图案曝光的工序；及
[0051]
通过对经图案曝光的折射率调整层进行显影，获得保护触摸面板用电极及触摸面板用配线中的至少一个的至少一部分的固化膜的工序。
[0052]
发明效果
[0053]
根据本发明，能够提供一种可获得具有包含金属氧化物粒子的层时弯曲性得到改善的转印膜的组合物、组合物的制造方法、固化膜、转印膜、触摸面板的制造方法。
附图说明
[0054]
图1是表示本发明的转印膜的一例的概略剖视图。
[0055]
图2是表示使用本发明的转印膜制造的触摸面板的第1具体例的概略剖视图。
[0056]
图3是表示使用本发明的转印膜制造的触摸面板的第2具体例的概略剖视图。
具体实施方式
[0057]
以下，对本发明的内容进行详细说明。以下记载的构成要件的说明根据本发明的代表性实施方式而完成，但本发明并不限于这种实施方式。
[0058]
另外，在本发明中，表示数值范围的“～”，以将在其前后记载的数值作为下限值及上限值而包括的含义使用。
[0059]
在本说明书中阶段性记载的数值范围中，在一个数值范围中记载的上限值或下限值可以替换为另一阶段性记载的数值范围的上限值或下限值。并且，在本说明书中记载的数值范围中，其数值范围的上限值或下限值可以替换为实施例中示出的值。
[0060]
并且，在本发明中的基团(原子团)的标记中，未标有经取代及未经取代的标记包含不具有取代基的基团(原子团)，并且也包含具有取代基的基团(原子团)。例如，“烷基”是指，不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代烷基)，也包含具有取代基的烷基(经取代烷基)。
[0061]
并且，在本发明中，“质量％”与“重量％”的含义相同，“质量份”与“重量份”的含义相同。
[0062]
此外，在本发明中两个以上的优选方式的组合为更优选的方式。
[0063]
在本发明中，在组合物中存在多种与各成分对应的物质的情况下，若无特别说明，则组合物中的各成分的量表示组合物中存在的上述多种物质的总量。
[0064]
在本发明中，术语“工序”不仅包括独立的工序，而且即使在无法与其他工序明确地区分的情况下，只要能够实现工序所期望的目的，则也包括在本术语中。
[0065]
本发明中，“(甲基)丙烯酸”是包括丙烯酸及甲基丙烯酸这两者的概念，“(甲基)丙烯酸酯”是包括丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者的概念，“(甲基)丙烯酰基”是包括丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两者的概念。
[0066]
并且，关于本发明中的重均分子量(mw)及数均分子量(mn)，若无特别说明，则为如
下获得的分子量：通过使用了tskgel gmhxl、tskgel g4000hxl、tskgel g2000hxl(均为tosoh corporation制的商品名称)的管柱的凝胶渗透色谱(gpc)分析装置，利用溶剂thf(四氢呋喃)、差示折射仪进行检测，并将聚苯乙烯用作标准物质来进行换算。
[0067]
本发明中，若无特别说明，具有分子量分布的化合物的分子量是重均分子量。
[0068]
本发明中，若无特别说明，高分子的结构单元之比是摩尔比。
[0069]
本发明中，若无特别说明，折射率是通过椭偏仪在25℃下测定的波长550nm处的值。
[0070]
以下，对本发明进行详细说明。
[0071]
[组合物]
[0072]
本发明的组合物含有胺化合物、金属氧化物粒子及具有酸基的粘合剂聚合物，作为胺化合物的氮原子的取代基，具有包含连结链长为3以上的连接基的取代基，胺化合物的重均分子量为100以上。
[0073]
通过本发明的组合物可获得在具有包含金属氧化物粒子的层时弯曲性得到改善的转印膜。
[0074]
该理由的详细内容尚不明确，但本发明人等推测如下。
[0075]
通过使用金属氧化物粒子，能够对包含金属氧化物粒子的层赋予高折射率，但包含金属氧化物粒子的层容易破裂。在包含金属氧化物粒子的组合物中，具有包含连结链长相当长的连接基的取代基(例如，链状基)，重均分子量相当大的胺化合物与具有酸基的粘合剂聚合物的酸基进行反应而一部分或全部被导入到粘合剂聚合物中。其结果，认为降低粘合剂聚合物的玻璃化转变温度(tg)，并降低包含该组合物的膜的tg而使其变柔软，由此能够改善弯曲性(变得不易破裂)。
[0076]
另外，与用其他方法降低粘合剂聚合物的tg而使其变柔软的方法相比，本发明的组合物的配方的自由度高，且通过本发明的组合物的优选方式还能够进一步改善防锈性。
[0077]
本发明的组合物能够用于形成触摸面板上的任意膜，尤其优选用于形成触摸面板上的保护膜和/或折射率调整层。
[0078]
将本发明的组合物用于形成触摸面板上的保护膜及折射率调整层时，能够将由本发明的组合物的固化物构成的单层的折射率调整层用于触摸面板上的保护膜。用于形成触摸面板上的保护膜及折射率调整层时，本发明的组合物优选含有粘合剂聚合物、烯属不饱和化合物及光聚合引发剂。
[0079]
将本发明的组合物用于形成触摸面板上的折射率调整层时，能够将包含本发明的组合物的层或固化本发明的组合物而成的固化物的层用作折射率调整层，另外准备的感光性树脂层的固化物能够用于触摸面板上的保护膜。用于形成触摸面板上的折射率调整层时，本发明的组合物可以不含有光聚合引发剂，也可以既不含有光聚合引发剂也不含有烯属不饱和化合物。
[0080]
以下，对本发明的组合物的优选组成进行说明。根据需要，分为将由本发明的组合物的固化物构成的单层的折射率调整层用于触摸面板上的保护膜的情况和将本发明的组合物的固化物用作折射率调整层的情况(即将另外准备的感光性树脂层的固化物用作触摸面板上的保护膜的情况)来进行说明。
[0081]
〔胺化合物〕
[0082]
用于本发明的组合物的胺化合物具有包含连结链长为3以上的连接基的取代基作为胺化合物的氮原子的取代基，胺化合物的重均分子量为100以上。
[0083]
本发明的组合物中，所有量的胺化合物可以与具有酸基的粘合剂聚合物的酸基进行反应而不残留胺化合物。胺化合物作为具有酸基的粘合剂聚合物与胺化合物键合的化合物(包含盐)或胺化合物离子等的衍生物存在的方式也包括在本发明的组合物中。另外，本发明的组合物中，在除胺化合物以外也包含与具有酸基的粘合剂聚合物的酸基进行反应的化合物(例如氨)时，具有酸基的粘合剂聚合物可以形成铵盐及胺化合物盐这两种盐。
[0084]
本发明中，作为胺化合物的氮原子的取代基，具有包含连结链长为3以上的连接基的取代基。在胺化合物的氮原子的取代基中，至少1个取代基为包含连结链长为3以上的连接基的取代基即可。其中，连结链长表示连结链的原子数。
[0085]
作为包含连结链长为3以上的连接基的取代基，优选为包含连结链长3以上且包含杂原子的连接基的取代基。作为杂原子，能够举出氧原子、硫原子、硅原子等，优选为氧原子或硫原子，更优选为氧原子。连结链长为3以上的连接基具有杂原子时，可以在连接基的末端具有杂原子，也可以在连接基的链中具有杂原子。包含连结链长为3以上的连接基的取代基在连接基的末端具有杂原子时，优选具有-oh基或-sh基，从提高对水系溶剂的溶解性的观点考虑，更优选具有-oh基。包含连结链长为3以上的连接基的取代基在连接基的链中具有杂原子时，优选具有-o-键或-s-键，从改善弯曲性及图案形成性的观点考虑，更优选具有-o-键。
[0086]
包含连结链长为3以上的连接基的取代基可以分支而具有进一步的取代基。作为进一步的取代基，并没有特别限制，能够举出卤原子、烷基、羟基，优选烷基、羟基。
[0087]
连结链长为3以上的连接基的连结链长优选为3～12，更优选为3～10，尤其优选为3～8，更尤其优选为3～6，进一步优选为4～6。
[0088]
另外，在胺化合物中包含2以上的氮原子时，若将胺化合物中的特定氮原子作为起点，则不使用包含其他氮原子的取代基的总长的连结链长，而仅使用至其他氮原子为止的氮原子之间的连接基的连结链长(计数至不超过其他氮原子的原子为止)。例如，n,n,n’,n
’‑
四(2-羟丙基)乙二胺的情况下，视为具有连结链长为3的2-羟丙基4个和氮原子之间的连结链长为2的连接基1个。n,n,n’,n
’‑
四甲基-1,6-己二胺的情况下，视为具有连结链长为1的甲基4个和氮原子之间的连结链长为6的连接基1个(并非仅计数从作为起点的氮原子起连结链长为1的甲基4个)。
[0089]
另一方面，n,n,n’,n
’‑
四甲基乙二胺的情况下，视为具有连结链长为1的甲基4个和氮原子之间的连结链长为2的连接基1个，超出本发明中规定的胺化合物的范围(从作为起点的氮原子，不计数连结链长为1的甲基2个和包含其他氮原子的连结链长为4的取代基1个)。
[0090]
胺化合物的氮原子的取代基的个数并没有特别限制，可以为1个、2个、3个中的任一个。即，胺化合物可以为伯胺、仲胺、叔胺中的任一种。关于胺化合物，从破裂性的观点考虑，优选为仲胺或叔胺，从破裂性的观点考虑，更优选为叔胺。
[0091]
胺化合物为仲胺或叔胺时，氮原子的取代基分别可以相同，也可以不同。胺化合物的氮原子的取代基具有2个以上的包含连结链长为3以上的连接基的取代基时，优选分别相同。
[0092]
作为胺化合物的氮原子的取代基，可以具有除包含连结链长为3以上的连接基的取代基以外的其他取代基。作为其他取代基，能够举出连结链长为2以下的烷基及烷氧基，这些可以具有进一步的取代基。作为进一步的取代基，并没有特别限制，能够举出卤原子、烷基、羟基。作为其他取代基，优选连结链长为2以下的未经取代的烷基。
[0093]
从破裂性的观点考虑，胺化合物的氮原子的取代基优选不会相互键合而形成环(即，优选链状结构)。并且，从破裂性的观点考虑，胺化合物的氮原子的取代基优选为不具有环结构的取代基。
[0094]
本发明中，胺化合物优选为由下述通式n表示的化合物。
[0095]
[化学式2]
[0096][0097]
在通式n中，l1表示连结链长为3以上且包含氧原子的连接基，r1表示氢原子或卤原子。l2及l3分别独立地表示亚烷基或连结链长为3以上且包含氧原子的连接基，r2及r3分别独立地表示氢原子或卤原子。
[0098]
在通式n中，l1的优选范围与连结链长为3以上的连接基的优选范围相同。
[0099]
在通式n中，l2及l3表示连结链长为3以上且包含氧原子的连接基时，优选与l1所表示的连结链长为3以上且包含氧原子的连接基相同。l2及l3表示亚烷基时，优选为碳原子数1或2的亚烷基。
[0100]
在通式n中，r1～r3优选为氢原子。
[0101]
作为胺化合物的具体例，能够举出3-(二乙基氨基)-1,2-丙二醇、n-甲基二乙醇胺、2-[2-(二甲基氨基)乙氧基]乙醇、n,n,n’,n
’‑
四(2-羟丙基)乙二胺、三正丙胺、三异丙胺、三正丁胺、三(2-乙基己基)胺、n,n-二甲基正丙胺、n,n-二甲基异丙胺、n,n-二甲基十二胺、n,n,n’,n
’‑
四甲基-1,3-丙二胺、n,n-二甲基-n’,n
’‑
二甲基-1,3-丙二胺、n,n-二丁基乙醇胺、双(2-二甲基氨基乙基)醚、n,n,n’,n
’‑
四甲基-1,6-己二胺。这些之中，优选3-(二乙基氨基)-1,2-丙二醇、n-甲基二乙醇胺、2-[2-(二甲基氨基)乙氧基]乙醇、n,n,n’,n
’‑
四(2-羟丙基)乙二胺，从改善破裂性的观点考虑，更优选3-(二乙基氨基)-1,2-丙二醇、n-甲基二乙醇胺、2-[2-(二甲基氨基)乙氧基]乙醇。
[0102]
本发明中，胺化合物的重均分子量为100以上。胺化合物的重均分子量的上限并没有特别限制，例如能够设为500以下。关于胺化合物的重均分子量，从破裂性的观点考虑，优选为100～350，从进一步改善破裂性的观点考虑，更优选为110～250，尤其优选为120～200，更尤其优选为130～150。
[0103]
胺化合物可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
[0104]
从破裂性的观点考虑，胺化合物的含量相对于本发明的组合物中的总固体成分优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1.0质量％以上。并且，胺化合物的含量相对于本发明的感光性树脂组合物的总固体成分量，优选为10质量％以下，更优
选为5质量％以下。
[0105]
从破裂性的观点考虑，胺化合物的含量相对于具有酸基的粘合剂聚合物的总固体成分，优选为5质量％以上，更优选为10质量％以上。从防锈性的观点考虑，胺化合物的含量相对于具有酸基的粘合剂聚合物的总固体成分，优选为35质量％以下，更优选为25质量％以下。
[0106]
另外，本发明的组合物中的总固体成分表示除了溶剂等挥发性成分的量，并且，本发明的固体成分无需为固体，可以为液体，也可以为固体与液体的混合物。
[0107]
〔金属氧化物粒子〕
[0108]
作为金属氧化物粒子的种类，并没有特别限制，能够使用公知的金属氧化物粒子。
[0109]
金属氧化物粒子中的金属也包括b、si、ge、as、sb、te等半金属。
[0110]
作为金属氧化物粒子，具体而言，优选选自氧化锡粒子、氧化锆粒子(zro2粒子)、nb2o5粒子、氧化钛粒子(tio2粒子)及二氧化硅粒子(sio2粒子)中的至少1种。
[0111]
其中，从容易将折射率调整层的折射率调整为1.6以上的观点考虑，更优选金属氧化物粒子包含选自氧化锆粒子及氧化钛粒子中的至少1种。
[0112]
作为金属氧化物粒子的优选组合，能够举出氧化锆粒子和氧化锡粒子、氧化锆粒子和氧化硅粒子、氧化钛粒子和氧化锡粒子。
[0113]
金属氧化物粒子可以为合金的氧化物，作为具体例，能够举出锆与锡的合金的氧化物粒子、锆与硅的合金的氧化物粒子、钛与锡的合金的氧化物粒子。
[0114]
例如，从固化膜的透明性的观点考虑，金属氧化物粒子的平均一次粒径优选为1nm～200nm，更优选为3nm～80nm。
[0115]
利用电子显微镜测定任意200个金属氧化物粒子的粒径，并对测定结果进行算术平均，由此算出金属氧化物粒子的平均一次粒径。另外，金属氧化物粒子的形状不是球形的情况下，将最长边作为粒径。
[0116]
本发明的组合物可以仅包含1种金属氧化物粒子，也可以包含2种以上。
[0117]
从电极图案等被隐蔽物的隐蔽性变良好且能够有效改善被隐蔽物的视觉辨认性的观点考虑，金属氧化物粒子的含量相对于本发明的组合物中的总固体成分，优选为40质量％～95质量％，更优选为40质量％～90质量％，进一步优选为40质量％～85质量％。
[0118]
作为金属氧化物粒子，使用氧化锆粒子或氧化钛时，氧化锆粒子或氧化钛粒子的含量相对于折射率调整层的总质量，优选为40质量％～95质量％，更优选为40质量％～90质量％，进一步优选为40质量％～85质量％。
[0119]
作为金属氧化物粒子的市售品，能够举出：
[0120]
煅烧氧化锆粒子(cik nanotek corporation制，产品名：zrpgm15wt％-f04)、煅烧氧化锆粒子(cik nanotek corporation制，产品名：zrpgm15wt％-f74)、煅烧氧化锆粒子(cik nanotek corporation制，产品名：zrpgm15wt％-f75)、煅烧氧化锆粒子(cik nanotek corporation制，产品名：zrpgm15wt％-f76)、
[0121]
氧化锆粒子(nanouse oz-s30m，nissan chemical corporation制)、
[0122]
氧化锆粒子(nanouse oz-s30k，nissan chemical corporation制)。
[0123]
〔具有酸基的粘合剂聚合物〕
[0124]
＜具有酸基的粘合剂聚合物的种类＞
[0125]
具有酸基的粘合剂聚合物(以下，也简称为粘合剂聚合物)优选为碱溶性树脂。
[0126]
例如，从显影性的观点考虑，粘合剂聚合物优选为酸值为30～200mgkoh/g的粘合剂聚合物，更优选为酸值为30～200mgkoh/g的碱溶性树脂。
[0127]
另外，本发明中，“碱溶性”表示在22℃下碳酸钠对1质量％水溶液的溶解度为0.1质量％以上。
[0128]
并且，粘合剂聚合物的酸值为按照jis k0070：1992中记载的方法测定的值。
[0129]
并且，例如，从通过加热与交联成分进行热交联，并容易形成坚固膜的观点考虑，粘合剂聚合物进一步优选为具有酸值为30～160mgkoh/g的羧基的树脂(所谓含羧基树脂)，尤其优选为具有酸值为30～160mgkoh/g的羧基的丙烯酸树脂(所谓含羧基丙烯酸树脂)。
[0130]
另外，本发明中，丙烯酸树脂是指具有源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的树脂，上述结构单元的含量相对于树脂的总质量，优选为30质量％以上，更优选为50质量％以上。
[0131]
从所获得的固化膜的透湿度及弯曲性、以及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，粘合剂聚合物优选为丙烯酸树脂或苯乙烯-丙烯酸共聚物。
[0132]
另外，本发明中，苯乙烯-丙烯酸共聚物是指具有源自苯乙烯化合物的结构单元和源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的树脂，上述源自苯乙烯化合物的结构单元、上述源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的合计含量相对于上述共聚物的总质量，优选为30质量％以上，更优选为50质量％以上。
[0133]
并且，源自苯乙烯化合物的结构单元的含量相对于上述共聚物的总质量，优选为1质量％以上，更优选为5质量％以上，尤其优选为5质量％以上且80质量％以下。
[0134]
并且，上述源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的含量相对于上述共聚物的总质量，优选为5质量％以上，更优选为10质量％以上，尤其优选为20质量％以上且95质量％以下。
[0135]
此外，作为上述(甲基)丙烯酸化合物，可举出(甲基)丙烯酸酯化合物、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酰胺化合物、(甲基)丙烯腈等。其中，优选选自(甲基)丙烯酸酯化合物及(甲基)丙烯酸中的至少1种化合物。
[0136]-具有芳香环的结构单元-[0137]
从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点考虑，粘合剂聚合物优选含有具有芳香环的结构单元。
[0138]
作为形成具有芳香环的结构单元的单体，可举出苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯、甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、(甲基)丙烯酸苄酯等。
[0139]
其中，优选苯乙烯化合物，尤其优选苯乙烯。
[0140]
并且，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点考虑，粘合剂聚合物更优选具有由下述式(s)表示的结构单元(源自苯乙烯的结构单元)。
[0141]
[化学式3]
[0142][0143]
粘合剂聚合物包含具有芳香环的结构单元时，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点考虑，具有芳香环的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的总质量，优选为5质量％～90质量％，更优选为10质量％～70质量％，尤其优选为20质量％～50质量％。
[0144]
并且，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点考虑，具有芳香环的结构单元在粘合剂聚合物中的含量相对于粘合剂聚合物的总量，优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～60摩尔％，尤其优选为20摩尔％～50摩尔％。
[0145]
此外，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点考虑，由上述式(s)表示的结构单元在粘合剂聚合物中的含量相对于粘合剂聚合物的总量，优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～60摩尔％，尤其优选为20摩尔％～50摩尔％。
[0146]
另外，本发明中，以摩尔比规定“结构单元”的含量时，设为上述“结构单元”与“单体单元”的含义相同。并且，本发明中，上述“单体单元”可以在聚合后通过高分子反应等被修饰。以下也相同。
[0147]-具有脂肪族烃环的结构单元-[0148]
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，粘合剂聚合物优选含有具有脂肪族烃环的结构单元。
[0149]
作为具有脂肪族烃环的结构单元中的脂肪族烃环，可举出三环癸烷环、环己烷环、环戊烷环、降莰烷环、异佛尔酮环等。
[0150]
这些之中，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，优选为2环以上的脂肪族烃环缩合而成的环，尤其优选为四氢二环戊二烯环(三环[5.2.1.0
2,6
]癸烷环)。
[0151]
作为形成具有脂肪族烃环的结构单元的单体，可举出(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等。
[0152]
并且，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，粘合剂聚合物更优选具有由下述式(cy)表示的结构单元，尤其优选具有由上述式(s)表示的结构单元及由下述式(cy)表示的结构单元。
[0153]
[化学式4]
[0154][0155]
在式(cy)中，rm表示氢原子或甲基，r
cy
表示具有脂肪族烃环结构的一价基团。
[0156]
式(cy)中的rm优选为甲基。
[0157]
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，式(cy)中的r
cy
优选为具有碳原子数5～20的脂肪族烃环结构的一价基团，更优选为具有碳原子数6～16的脂肪族烃环结构的一价基团，尤其优选为具有碳原子数8～14的脂肪族烃环结构的一价基团。
[0158]
并且，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，式(cy)的r
cy
中的脂肪族烃环结构优选为环戊烷环结构、环己烷环结构、四氢二环戊二烯环结构、降莰烷环结构或异佛尔酮环结构，更优选为环己烷环结构或四氢二环戊二烯环结构，尤其优选为四氢二环戊二烯环结构。
[0159]
此外，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，式(cy)的r
cy
中的脂肪族烃环结构优选为2环以上的脂肪族烃环缩合而成的环结构，更优选为2环以上且4环以下的脂肪族烃环缩合而成的环。
[0160]
此外，并且，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，式(cy)中的r
cy
优选为式(cy)中的-c(＝o)o-的氧原子与脂肪族烃环结构直接键合的基团，即脂肪族烃环基，更优选为环己基或二环戊基，尤其优选为二环戊基。
[0161]
粘合剂聚合物可以单独具有1种具有脂肪族烃环的结构单元，也可以具有2种以上。
[0162]
粘合剂聚合物包含具有脂肪族烃环的结构单元时，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点考虑，具有脂肪族烃环的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的总质量，优选为5质量％～90质量％，更优选为10质量％～80质量％，尤其优选为20质量％～70质量％。
[0163]
并且，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点考虑，具有脂肪族烃环的结构单元在粘合剂聚合物中的含量相对于粘合剂聚合物的总量，优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～60摩尔％，尤其优选为20摩尔％～50摩尔％。
[0164]
此外，从所获得的固化膜的透湿度及强度的观点考虑，由上述式(cy)表示的结构单元在粘合剂聚合物中的含量相对于粘合剂聚合物的总量，优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～60摩尔％，尤其优选为20摩尔％～50摩尔％。
[0165]
粘合剂聚合物包含具有芳香环的结构单元及具有脂肪族烃环的结构单元时，从所获得的固化膜的透湿度、弯曲性及强度的观点考虑，具有芳香环的结构单元及具有脂肪族烃环的结构单元的总含量相对于粘合剂聚合物的总质量，优选为10质量％～90质量％，更优选为20质量％～80质量％，尤其优选为40质量％～75质量％。
[0166]
并且，从所获得的固化膜的透湿度、弯曲性及强度的观点考虑，具有芳香环的结构单元及具有脂肪族烃环的结构单元在粘合剂聚合物中的总含量相对于粘合剂聚合物的总量，优选为10摩尔％～80摩尔％，更优选为20摩尔％～70摩尔％，尤其优选为40摩尔％～60摩尔％。
[0167]
此外，从所获得的固化膜的透湿度、弯曲性及强度的观点考虑，由上述式(s)表示的结构单元及由上述式(cy)表示的结构单元在粘合剂聚合物中的总含量相对于粘合剂聚合物的总量，优选为10摩尔％～80摩尔％，更优选为20摩尔％～70摩尔％，尤其优选为40摩尔％～60摩尔％。
[0168]
并且，从所获得的固化膜的透湿度、弯曲性及强度的观点考虑，粘合剂聚合物中的
由上述式(s)表示的结构单元的摩尔量ns与由上述式(cy)表示的结构单元的摩尔量ncy优选满足下述式(scy)所示的关系，更优选满足下述式(scy-1)，尤其优选满足下述式(scy-2)。
[0169]
0.2≤ns/(ns ncy)≤0.8
ꢀꢀꢀ
式(scy)
[0170]
0.30≤ns/(ns ncy)≤0.75
ꢀꢀꢀ
式(scy-1)
[0171]
0.40≤ns/(ns ncy)≤0.70
ꢀꢀꢀ
式(scy-2)
[0172]-具有酸基的结构单元-[0173]
从所获得的固化膜的强度及显影性的观点考虑，具有酸基的粘合剂聚合物含有具有酸基的结构单元。
[0174]
作为上述酸基，可举出羧基、磺基、膦酸基、磷酸基等，优选羧基。
[0175]
作为具有上述酸基的结构单元，可优选地举出下述所示的源自(甲基)丙烯酸的结构单元，可更优选地举出源自甲基丙烯酸的结构单元。
[0176]
[化学式5]
[0177][0178]
粘合剂聚合物可以单独具有1种具有酸基的结构单元，也可以具有2种以上。
[0179]
粘合剂聚合物包含具有酸基的结构单元时，从所获得的固化膜的强度及显影性的观点考虑，具有酸基的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的总质量，优选为5质量％～50质量％，更优选为5质量％～40质量％，尤其优选为10质量％～30质量％。
[0180]
并且，从所获得的固化膜的强度及显影性的观点考虑，具有酸基的结构单元在粘合剂聚合物中的含量相对于粘合剂聚合物的总量，优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～50摩尔％，尤其优选为15摩尔％～30摩尔％。
[0181]
此外，从所获得的固化膜的强度及显影性的观点考虑，源自(甲基)丙烯酸的结构单元在粘合剂聚合物中的含量相对于粘合剂聚合物的总量，优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～50摩尔％，尤其优选为10摩尔％～30摩尔％。
[0182]-具有反应性基团的结构单元-[0183]
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，粘合剂聚合物优选具有反应性基团，更优选含有具有反应性基团的结构单元。
[0184]
作为反应性基团，优选自由基聚合性基团，更优选含有烯属不饱和键的基团。并且，粘合剂聚合物具有含有烯属不饱和键的基团时，粘合剂聚合物优选具有在侧链具有含有烯属不饱和键的基团的结构单元。
[0185]
本发明中，“主链”表示在构成树脂的高分子化合物的分子中相对最长的键合链，“侧链”表示从主链分支的原子团。
[0186]
作为含有烯属不饱和键的基团，优选烯丙基、(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰氧基，更优选烯丙基及(甲基)丙烯酰氧基，尤其优选烯丙基。
[0187]
作为具有反应性基团的结构单元的一例，可举出以下所示的结构单元，但并不限定于这些。
pure chemical corporation制)、arufon uc3920(toagosei co.,ltd.制)等。
[0198]
作为具有酸基的粘合剂聚合物，可优选地举出以下所示的聚合物。另外，以下所示的各结构单元的含有比率(a～d)及重均分子量mw等能够根据目的而适当变更。
[0199]
[化学式7]
[0200][0201]
[化学式8]
[0202][0203]
＜具有酸基的粘合剂聚合物的重均分子量＞
[0204]
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，具有酸基的粘合剂聚合物的重均分子量(mw)优选为5,000以上，更优选为10,000以上，进一步优选为10,000～50,000，尤其优选为20,000～30,000。
[0205]
＜具有酸基的粘合剂聚合物的含量＞
[0206]
本发明的组合物可以仅包含1种具有酸基的粘合剂聚合物，也可以包含2种以上。
[0207]
将由本发明的组合物的固化物构成的单层的折射率调整层用于触摸面板上的保护膜时，例如，从固化膜的强度及转印膜上的操作性的观点考虑，具有酸基的粘合剂聚合物的含量相对于本发明的组合物的总固体成分，优选为5质量％～50质量％，更优选为20质量％～40质量％，进一步优选为25质量％～35质量％。
[0208]
将本发明的组合物的固化物用作折射率调整层，将感光性树脂层的固化物用作触
摸面板上的保护膜时，具有酸基的粘合剂聚合物的含量相对于本发明的组合物中的总固体成分，优选为5质量％～50质量％，更优选为10质量％～40质量％，进一步优选为12质量％～35质量％。
[0209]
[残留单体]
[0210]
从提高图案形成性的观点考虑，粘合剂聚合物的各结构单元的残留单体的含量相对于粘合剂聚合物总质量，优选5,000质量ppm以下，更优选2,000质量ppm以下，进一步优选500质量ppm以下。下限并没有特别限制，优选1质量ppm以上，更优选10质量ppm以上。
[0211]
从图案形成性及可靠性的观点考虑，粘合剂聚合物的各结构单元的残留单体相对于感光性组合物层总质量，优选3,000质量ppm以下，更优选600质量ppm以下，进一步优选100质量ppm以下。下限并没有特别限制，优选0.1质量ppm以上，更优选1质量ppm以上。
[0212]
使在高分子反应中合成粘合剂聚合物时的单体的残留单体量也优选在上述范围。例如，使丙烯酸环氧丙酯与羧酸侧链反应来合成粘合剂聚合物时，优选使丙烯酸环氧丙酯的含量在上述范围。
[0213]
残留单体的量能够利用液相色譜法、气相色谱法等公知的方法测定。
[0214]
〔具有6元杂环结构的化合物〕
[0215]
从改善弯曲性及防锈性的观点考虑，本发明的组合物优选进一步含有具有6元杂环结构的化合物。
[0216]
本发明中，优选具有6元杂环结构的化合物具有单环或多环的芳香族杂环结构。
[0217]
作为具有6元杂环结构的化合物所具有的上述杂环结构，从显影残渣抑制性及防锈性的观点考虑，优选在环结构内具有氮原子及硫原子中的至少1种原子(本发明中，也称为“作为环元具有”。)，更优选在环结构内具有氮原子，进一步优选在环结构内具有1个或2个氮原子，尤其优选在环结构内具有2个氮原子。
[0218]
此外，从显影残渣抑制性及防锈性的观点考虑，具有6元杂环结构的化合物优选具有在环结构内具有氮原子的6元杂环结构作为上述杂环结构。本发明中，具有6元杂环结构的化合物更优选具有在环结构内具有2个氮原子的6元杂环结构。
[0219]
并且，作为具有6元杂环结构的化合物所具有的上述杂环结构，可以为脂肪族杂环结构，也可以为芳香族杂环结构，并且，可以为单环的杂环结构，也可以为至少1个杂环缩合而成的多环结构，但从挥发性及防锈性的观点考虑，优选芳香族杂环结构，更优选单环或2环结构的芳香族杂环结构。
[0220]
此外，具有6元杂环结构的化合物可以仅具有1个上述杂环结构，也可以具有2个以上，从显影残渣抑制性、挥发性及防锈性的观点考虑，优选仅具有1个。
[0221]
作为具有6元杂环结构的化合物所具有的上述杂环结构，具体而言，例如，可举出吡啶环结构、嘧啶环结构、1,3,5-三嗪环结构、喹啉环结构、异喹啉环结构、酞嗪环结构、萘啶环结构、喹喔啉环结构、喹唑啉环结构、噌啉环结构、嘌呤环结构、菲啶环结构、吖啶环结构等。
[0222]
其中，从显影残渣抑制性、挥发性及防锈性的观点考虑，优选为吡啶环结构、嘧啶环结构、1,3,5-三嗪环结构或嘌呤环结构，更优选为吡啶环结构或嘌呤环结构。
[0223]
具有6元杂环结构的化合物优选具有在环结构内具有氧原子、氮原子及硫原子中的至少1种原子的杂环结构和选自-sh、-oh、-cooh、-nh2及-conh2中的至少1种官能团。
[0224]
在具有6元杂环结构的化合物中，从显影残渣抑制性及防锈性的观点考虑，上述官能团优选为直接键合于上述杂环结构中的杂环的基团。
[0225]
作为具有6元杂环结构的化合物所具有的上述官能团，从显影残渣抑制性、对配线的吸附性及防锈性的观点考虑，优选为选自-sh、-oh、-cooh、-nh2及-conh2中的至少1种基团，更优选为选自-oh及-cooh中的至少1种基团，尤其优选为-cooh。
[0226]
从显影残渣抑制性及防锈性的观点考虑，具有6元杂环结构的化合物优选为具有合计1个～3个选自-sh、-oh、-cooh、-nh2及-conh2中的上述官能团的化合物，更优选为具有合计1个或2个选自-sh、-oh、-cooh、-nh2及-conh2中的上述官能团的化合物，尤其优选为具有1个选自-sh、-oh、-cooh、-nh2及-conh2中的上述官能团的化合物。
[0227]
并且，从显影残渣抑制性、对配线的吸附性、挥发性及防锈性的观点考虑，具有6元杂环结构的化合物优选为具有选自-oh及-cooh中的至少1种上述官能团的化合物，更优选为具有1个或2个选自-oh及-cooh中的上述官能团的化合物，作为上述官能团，尤其优选为具有1个-cooh的化合物。
[0228]
从挥发性及防锈性的观点考虑，具有6元杂环结构的化合物的分子量优选为500以下，更优选为80以上且300以下，进一步优选为100以上且200以下，尤其优选为100以上且150以下。
[0229]
具有6元杂环结构的化合物为具有吡啶环结构、嘧啶环结构或1,3,5-三嗪环结构的化合物时，从显影残渣抑制性及防锈性的观点考虑，优选为由下述式(a-1)～式(a-3)中的任一个表示的化合物，更优选为相当于具有嘧啶环结构的化合物的由下述式(a-2)表示的化合物。
[0230]
[化学式9]
[0231][0232]
在式(a-1)～式(a-3)中，ra分别独立地表示-sh、-oh、-cooh或-nh2，n1表示0～5的整数，n2表示0～4的整数，n3表示0～3的整数。
[0233]
在式(a-1)～式(a-3)中，从显影残渣抑制性、对配线的吸附性及防锈性的观点考虑，ra优选为-sh、-oh或-cooh，更优选为-oh或-cooh，尤其优选为-cooh。
[0234]
从显影残渣抑制性、对配线的吸附性、挥发性及防锈性的观点考虑，式(a-1)中的n1优选为1～3的整数，更优选为1或2，尤其优选为1。
[0235]
从显影残渣抑制性、对配线的吸附性、挥发性及防锈性的观点考虑，式(a-2)中的n2优选为0～3的整数，更优选为0。
[0236]
从显影残渣抑制性及防锈性的观点考虑，式(a-3)中的n3优选为1或3，更优选为1。
[0237]
具有6元杂环结构的化合物为具有嘌呤环结构的化合物时，从防锈性的观点考虑，优选腺嘌呤。
[0238]
作为具有6元杂环结构的化合物，并没有特别限制，具体而言，例如，可举出吡啶-2-羧酸(2-吡啶甲酸)、吡啶-3-羧酸(烟酸)、吡啶-4-羧酸(异烟酸)、2-羟基吡啶、3-羟基吡
啶、4-羟基吡啶、2-巯基吡啶、3-巯基吡啶、4-巯基吡啶、2-氨基吡啶、3-氨基吡啶、4-氨基吡啶、吡啶-3,5-二羧酸、2,3-二羟基吡啶、吡啶-2-羟基-3-羧酸、嘧啶、2-氨基嘧啶、4-羟基嘧啶、2-嘧啶硫醇、嘧啶-4-羧酸、4,6-二羟基嘧啶、4-氨基-6-羟基嘧啶、4,5-二氨基嘧啶、2,4-二氨基-1,3,5-三嗪、2,6-二羟基异烟酸、2-氨基-4,6-二羟基嘧啶、2,4-二氨基-6-羟基嘧啶、4,6-二氨基-2-巯基嘧啶、三聚氰酸(三羟基三嗪)、烟酰胺、6-甲基-烟酰胺、异烟酰胺、2-氨基-异烟酰胺、6-氨基-异烟酰胺、腺嘌呤等。
[0239]
其中，作为具有6元杂环结构的化合物，从显影残渣抑制性及防锈性的观点考虑，优选选自吡啶-2-羧酸、吡啶-3-羧酸、2-羟基吡啶、2-巯基吡啶、2-氨基吡啶、2,3-二羟基吡啶、吡啶-2-羟基-3-羧酸、嘧啶、2-氨基嘧啶、4-羟基嘧啶、嘧啶-4-羧酸、4,6-二羟基嘧啶、2,6-二羟基异烟酸及三聚氰酸中的至少1种化合物，更优选选自吡啶-2-羧酸、吡啶-3-羧酸、2-羟基吡啶、2,3-二羟基吡啶、吡啶-2-羟基-3-羧酸、4-羟基嘧啶、嘧啶-4-羧酸及4,6-二羟基嘧啶、腺嘌呤中的至少1种化合物，尤其优选选自吡啶-2-羧酸、吡啶-3-羧酸、2-羟基吡啶、2,3-二羟基吡啶及吡啶-2-羟基-3-羧酸、嘧啶、腺嘌呤中的至少1种化合物，本发明中更尤其优选嘧啶或腺嘌呤。
[0240]
并且，作为具有6元杂环结构的化合物，从通用性的观点考虑，优选吡啶-3-羧酸，并且，从挥发性与对配线的吸附性的平衡的观点考虑，优选选自吡啶-2-羧酸、2-羟基吡啶、2,3-二羟基吡啶、吡啶-2-羟基-3-羧酸、4-羟基嘧啶、嘧啶-4-羧酸及4,6-二羟基嘧啶中的至少1种化合物。
[0241]
具有6元杂环结构的化合物可以单独使用1种，也能够同时使用2种以上。
[0242]
从显影残渣抑制性及防锈性的观点考虑，具有6元杂环结构的化合物的含量相对于感光性树脂组合物中的总固体成分，优选为0.01质量％～20质量％，更优选为0.05质量％～10质量％，进一步优选为0.1质量％～2.0质量％，尤其优选为0.2质量％～1.8质量％。
[0243]
本发明的组合物可以包含除上述成分以外的其他成分。
[0244]
作为能够在本发明的组合物中包含的其他成分，可举出与在后述感光性树脂层中包含的各成分相同的成分。
[0245]
〔金属氧化抑制剂〕
[0246]
并且，从与折射率调整层接触的金属的氧化抑制性的观点考虑，本发明的组合物可以包含至少1种金属氧化抑制剂。
[0247]
作为金属氧化抑制剂，例如，可优选地举出除具有6元杂环结构的化合物以外的具有在分子内包含氮原子的芳香环的化合物。
[0248]
作为金属氧化抑制剂的例子，可举出咪唑、三唑、苯并咪唑、四唑、巯基噻二唑、苯并三唑等。
[0249]
〔烯属不饱和化合物〕
[0250]
关于本发明的组合物，将其固化物作为单层的折射率调整层而用于触摸面板上的保护膜时，优选进一步具有烯属不饱和化合物。
[0251]
作为烯属不饱和化合物，优选为具有含有烯属不饱和键的基团的自由基聚合性化合物。
[0252]
具有含有烯属不饱和键的基团的自由基聚合性化合物为有助于折射率调整层的
感光性(即，光固化性)及固化折射率调整层而成的固化膜的强度的成分。
[0253]
并且，烯属不饱和化合物为具有1个以上含有烯属不饱和键的基团的化合物。
[0254]
本发明的组合物优选包含2官能以上的烯属不饱和化合物作为烯属不饱和化合物。
[0255]
其中，2官能以上的烯属不饱和化合物表示在一分子中具有2个以上含有烯属不饱和键的基团的化合物。
[0256]
作为含有烯属不饱和键的基团，更优选(甲基)丙烯酰基。
[0257]
作为烯属不饱和化合物，优选(甲基)丙烯酸酯化合物。
[0258]
从固化后的固化性的观点考虑，本发明的组合物尤其优选含有2官能的烯属不饱和化合物(优选为2官能的(甲基)丙烯酸酯化合物)和3官能以上的烯属不饱和化合物(优选为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物)。
[0259]
作为2官能的烯属不饱和化合物，并没有特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。
[0260]
作为2官能的烯属不饱和化合物，可举出三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
[0261]
作为2官能的烯属不饱和化合物，更具体而言，可举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(商品名：nk ester a-dcp，shin-nakamura chemical co.,ltd.制)，三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(商品名：nk ester dcp，shin-nakamura chemical co.,ltd.制)，1,9-壬二醇二丙烯酸酯(商品名：nk ester a-nod-n，shin-nakamura chemical co.,ltd.制)，1,6-己二醇二丙烯酸酯(商品名：nk ester a-hd-n，shin-nakamura chemical co.,ltd.制)等。
[0262]
作为3官能以上的烯属不饱和化合物，并没有特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。
[0263]
作为3官能以上的烯属不饱和化合物，例如，可举出二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物等。
[0264]
其中，“(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯”是包括三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯及六(甲基)丙烯酸酯的概念，“(三/四)(甲基)丙烯酸酯”是包括三(甲基)丙烯酸酯及四(甲基)丙烯酸酯的概念。
[0265]
作为3官能以上的烯属不饱和化合物，可举出二季戊四醇六丙烯酸酯(dpha，toshin yushi co.,ltd.制)等。
[0266]
作为烯属不饱和化合物，也可举出(甲基)丙烯酸酯化合物的己内酯改性化合物(nippon kayaku co.,ltd.制kayarad(注册商标)dpca-20、shin-nakamura chemical co.,ltd.制a-9300-1cl等)、(甲基)丙烯酸酯化合物的亚烷基氧化物改性化合物(nippon kayaku co.,ltd.制kayarad rp-1040、shin-nakamura chemical co.,ltd.制atm-35e、a-9300、daicel-allnexltd.制ebecryl(注册商标)135等)、乙氧基化甘油三丙烯酸酯(shin-nakamura chemical co.,ltd.制a-gly-9e等)等。
[0267]
作为烯属不饱和化合物，也可举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物(优选为3官
能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物)。
[0268]
作为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，例如，可举出8ux-015a(taisei fine chemical co.,ltd.制)、nk ester ua-32p(shin-nakamura chemical co.,ltd.制)、nk ester ua-1100h(shin-nakamura chemical co.,ltd.制)、ah-600(kyoeisha chemical co.,ltd.制)、ua-306h、ua-306t、ua-306i、ua-510h、ux-5000(以上，nippon kayaku co.,ltd.制)等。
[0269]
并且，从提高显影性的观点考虑，烯属不饱和化合物优选包含具有酸基的烯属不饱和化合物。
[0270]
作为酸基，例如，可举出磷酸基、磺酸基及羧基，优选羧基。
[0271]
作为具有酸基的烯属不饱和化合物，例如，可举出具有酸基的3～4官能的烯属不饱和化合物(在季戊四醇三及四丙烯酸酯(peta)骨架中导入羧基的化合物(酸值＝80～120mgkoh/g))、具有酸基的5～6官能的烯属不饱和化合物(在二季戊四醇五及六丙烯酸酯(dpha)骨架中导入羧基的化合物(酸值＝25～70mgkoh/g))等。这些具有酸基的3官能以上的烯属不饱和化合物可根据需要与具有酸基的2官能的烯属不饱和化合物同时使用。
[0272]
作为具有酸基的烯属不饱和化合物，优选选自含有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物及其羧酸酐中的至少1种。由此显影性及固化膜的强度变高。
[0273]
含有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物并没有特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。
[0274]
作为含有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物，例如，能够优选地使用aronix(注册商标)to-2349(toagosei co.,ltd.制)、aronix m-520(toagosei co.,ltd.制)或aronix m-510(toagosei co.,ltd.制)。
[0275]
具有酸基的烯属不饱和化合物也优选为日本特开2004-239942号公报的0025～0030段中记载的具有酸基的聚合性化合物。该公报的内容编入本说明书中。
[0276]
＜化合物m＞
[0277]
本发明中，烯属不饱和化合物优选为由下述式(m)表示的化合物m(也简称为“化合物m”。)。
[0278]q2-r
1-q1ꢀꢀꢀ
式(m)
[0279]
在式(m)中，q1及q2分别独立地表示(甲基)丙烯酰氧基，r1表示具有链状结构的二价连接基。
[0280]
关于式(m)中的q1及q2，从合成容易性的观点考虑，q1及q2优选为相同基团。
[0281]
并且，从反应性的观点考虑，式(m)中的q1及q2优选为丙烯酰氧基。
[0282]
从所获得的固化膜的弯曲性的观点考虑，式(m)中的r1优选为亚烷基、亚烷基氧基亚烷基(-l
1-o-l
1-)或聚亚烷基氧基亚烷基(-(l
1-o)
p-l
1-)，更优选为碳原子数2～20的烃基或聚亚烷基氧基亚烷基，进一步优选为碳原子数4～20的亚烷基，尤其优选为碳原子数6～18的直链状亚烷基。上述烃基在至少一部分具有链状结构即可，作为除上述链状结构以外的部分，并没有特别限制，例如，可以为支链状、环状或直链状亚烷基、亚芳基、醚键及这些的组合中的任一种，从所获得的固化膜的弯曲性的观点考虑，优选为亚烷基或组合了2个以上的亚烷基和1个以上的亚芳基的基团，更优选为亚烷基，尤其优选为直链状亚烷基。
[0283]
另外，上述l1分别独立地表示亚烷基，优选为亚乙基、亚丙基或亚丁基，更优选为
亚乙基或1,2-亚丙基。p表示2以上的整数，优选为2～10的整数。
[0284]
并且，从所获得的固化膜的透湿度及弯曲性的观点考虑，化合物m中的连结q1与q2之间的最短的连结链的原子数优选为3个～50个，更优选为4个～40个，进一步优选为6个～20个，尤其优选为8个～12个。
[0285]
本发明中，“连结q1与q2之间的最短的连结链的原子数”是连结从与q1连结的r1中的原子至与q2连结的r1中的原子的最短的原子数。
[0286]
作为化合物m的具体例，可举出1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、四亚甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,7-庚二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,8-辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-环己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚a的二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚f的二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇/丙二醇)二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯。上述酯单体也能够用作混合物。
[0287]
在上述化合物中，从所获得的固化膜的弯曲性的观点考虑，优选为选自1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯及新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯中的至少1种化合物，更优选为选自1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯及1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯中的至少1种化合物，尤其优选为选自1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯及1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯中的至少1种化合物。
[0288]
化合物m可以单独使用1种，也能够同时使用2种以上。
[0289]
作为烯属不饱和化合物的重均分子量(mw)，优选200～3,000，更优选250～2,600，进一步优选280～2,200，尤其优选300～2,200。
[0290]
并且，用于本发明的组合物的烯属不饱和化合物中，相对于本发明的组合物中含有的所有烯属不饱和化合物，重均分子量300以下的烯属不饱和化合物的含量的比例优选30质量％以下，更优选25质量％以下，进一步优选20质量％以下。
[0291]
烯属不饱和化合物可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
[0292]
将由本发明的组合物的固化物构成的单层的折射率调整层用于触摸面板上的保护膜时，从以单层确保转印性(粘合于基材)及固化性的观点考虑，本发明的组合物中烯属不饱和化合物的含量相对于本发明的组合物的总质量，优选1质量％～60质量％，更优选5质量％～50质量％，进一步优选10质量％～40质量％，尤其优选10质量％～20质量％。
[0293]
将本发明的组合物的固化物用作折射率调整层，将感光性树脂层的固化物用于触摸面板上的保护膜时，由于感光性树脂层负责转印性及固化性，因此能够减少折射率调整层的烯属不饱和化合物。此时，烯属不饱和化合物的含量相对于本发明的组合物的总质量，优选0.1质量％～60质量％，更优选0.5质量％～10质量％，尤其优选1.0质量％～5质量％。
[0294]
并且，本发明的组合物含有2官能的烯属不饱和化合物和3官能以上的烯属不饱和化合物时，2官能的烯属不饱和化合物的含量相对于在本发明的组合物中包含的所有烯属不饱和化合物，优选10质量％～90质量％，更优选20质量％～85质量％，进一步优选30质量％～80质量％。
[0295]
并且，此时，3官能以上的烯属不饱和化合物的含量相对于在本发明的组合物中包
含的所有烯属不饱和化合物，优选10质量％～90质量％，更优选15质量％～80质量％，进一步优选20质量％～70质量％。
[0296]
并且，此时，2官能以上的烯属不饱和化合物的含量相对于2官能的烯属不饱和化合物和3官能以上的烯属不饱和化合物的总含量，优选为40质量％以上且低于100质量％，更优选为40质量％～90质量％，进一步优选为50质量％～80质量％，尤其优选为50质量％～70质量％。
[0297]
并且，本发明的组合物含有2官能以上的烯属不饱和化合物时，本发明的组合物可以进一步含有单官能烯属不饱和化合物。
[0298]
此外，本发明的组合物含有2官能以上的烯属不饱和化合物时，在本发明的组合物中含有的烯属不饱和化合物中，优选2官能以上的烯属不饱和化合物为主成分。
[0299]
具体而言，本发明的组合物含有2官能以上的烯属不饱和化合物时，2官能以上的烯属不饱和化合物的含量相对于本发明的组合物中含有的烯属不饱和化合物的总含量，优选60质量％～100质量％，更优选80质量％～100质量％，尤其优选90质量％～100质量％。
[0300]
并且，本发明的组合物优选含有具有酸基的烯属不饱和化合物(优选为含有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物或其羧酸酐)。具有酸基的烯属不饱和化合物的含量相对于本发明的组合物，优选1质量％～50质量％，更优选1质量％～20质量％，进一步优选1质量％～10质量％。
[0301]
烯属不饱和化合物可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
[0302]
〔光聚合引发剂〕
[0303]
本发明的组合物可以包含光聚合引发剂。
[0304]
尤其，将由本发明的组合物的固化物构成的单层的折射率调整层用于触摸面板上的保护膜时，本发明的组合物优选包含光聚合引发剂。
[0305]
作为光聚合引发剂，并没有特别限制，能够使用公知的光聚合引发剂。
[0306]
作为光聚合引发剂，可举出具有肟酯结构的光聚合引发剂(以下，也称为“肟系光聚合引发剂”。)、具有α-氨基烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，也称为“α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂”。)、具有α-羟烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，也称为“α-羟烷基苯酮系聚合引发剂”。)、具有酰基氧化膦结构的光聚合引发剂(以下，也称为“酰基氧化膦系光聚合引发剂”。)、具有n-苯甘氨酸结构的光聚合引发剂(以下，也称为“n-苯甘氨酸系光聚合引发剂”。)等。
[0307]
光聚合引发剂优选包含选自肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂、α-羟烷基苯酮系聚合引发剂及n-苯甘氨酸系光聚合引发剂中的至少1种，更优选包含选自肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂及n-苯甘氨酸系光聚合引发剂中的至少1种。
[0308]
并且，作为光聚合引发剂，例如，可以使用日本特开2011-95716号公报的0031～0042段及日本特开2015-014783号公报的0064～0081段中记载的聚合引发剂。
[0309]
作为光聚合引发剂的市售品，可举出1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛烷二酮-2-(o-苯甲酰基肟)〔商品名：irgacure(注册商标)oxe-01，basf公司制〕、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9h-咔唑-3-基]乙酮-1-(o-乙酰肟)〔商品名：irgacure(注册商标)oxe-02，basf公司制〕、irgacure(注册商标)oxe03(basf公司制)、irgacure(注册商标)oxe04(basf公司
制)、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮〔商品名：irgacure(注册商标)379eg，basf公司制〕、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮〔商品名：irgacure(注册商标)907，basf公司制〕、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苄基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮〔商品名：irgacure(注册商标)127，basf公司制〕、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)丁酮-1〔商品名：irgacure(注册商标)369，basf公司制〕、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮〔商品名：irgacure(注册商标)1173，basf公司制〕、1-羟基环己基苯基酮〔商品名：irgacure(注册商标)184，basf公司制〕、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮〔商品名：irgacure 651，basf公司制〕等、肟酯系的〔商品名：lunar(注册商标)6，dksh japan k.k.制〕、1-[4-(苯硫基)苯基]-3-环戊基丙烷-1,2-二酮-2-(o-苯甲酰基肟)(商品名：tr-pbg-305，changzhou tronly new electronic materials co.,ltd.制)、1,2-丙二酮，3-环己基-1-[9-乙基-6-(2-呋喃基羰基)-9h-咔唑-3-基]-，2-(o-乙酰肟)(商品名：tr-pbg-326、changzhou tronly new electronic materials co.,ltd.制)、3-环己基-1-(6-(2-(苯甲酰基氧基亚胺基)己酰基)-9-乙基-9h-咔唑-3-基)-丙烷-1,2-二酮-2-(o-苯甲酰基肟)(商品名：tr-pbg-391、changzhou tronly new electronic materials co.,ltd.制)、(1-(联苯基-4-基)-2-甲基-2-吗啉基丙烷-1-酮(商品名：api-307、shenzhen uv-chemtechltd.制)等。
[0310]
光聚合引发剂的含量并没有特别限制，相对于本发明的组合物的总固体成分量，优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1.0质量％以上。
[0311]
并且，光聚合引发剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分量，优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下。
[0312]
光聚合引发剂可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
[0313]
〔表面活性剂〕
[0314]
本发明的组合物可以包含表面活性剂。
[0315]
作为表面活性剂，并没有特别限制，能够使用公知的表面活性剂。
[0316]
作为表面活性剂，可举出日本专利第4502784号公报的0017段及日本特开2009-237362号公报的0060～0071段中记载的表面活性剂。
[0317]
作为表面活性剂，优选氟系表面活性剂或硅系表面活性剂。
[0318]
作为氟系表面活性剂的市售品，例如，可举出：
[0319]
megaface f-171、f-172、f-173、f-176、f-177、f-141、f-142、f-143、f-144、f-437、f-475、f-477、f-479、f-482、f-551-a、f-552、f-554、f-555-a、f-556、f-557、f-558、f-559、f-560、f-561、f-565、f-563、f-568、f-575、f-780、exp、mfs-330、r-41、r-41-lm、r-01、r-40、r-40-lm、rs-43、tf-1956、rs-90、r-94、rs-72-k、ds-21(以上，dic corporation制)、
[0320]
fluorad fc430、fc431、fc171(以上，sumitomo 3m limited制)、
[0321]
surflon s-382、sc-101、sc-103、sc-104、sc-105、sc-1068、sc-381、sc-383、s-393、kh-40(以上，agc inc.制)、
[0322]
polyfox pf636、pf656、pf6320、pf6520、pf7002(以上，omnova solutions inc.制)、
[0323]
futergent 710fm、610fm、601ad、601adh2、602a、215m、245f、251、212m、250、209f、222f、208g、710la、710fs、730lm、650ac、681(以上，neos company limited制)等。
[0324]
并且，氟系表面活性剂也能够优选地使用如下丙烯酸系化合物：具有分子结构(具有含有氟原子的官能团)且加热时含有氟原子的官能团的一部分被切断，由此氟原子挥发。作为这种氟系表面活性剂，可举出dic corporation制的megaface ds系列(化学工业日报(2016年2月22日)、nikkei business daily(2016年2月23日))，例如megaface ds-21。
[0325]
并且，关于氟系表面活性剂，也优选使用具有氟化烷基或氟化亚烷基醚基的含氟原子乙烯基醚化合物与亲水性乙烯基醚化合物的聚合物。
[0326]
氟系表面活性剂也能够使用嵌段聚合物。氟系表面活性剂也能够优选使用包含源自具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元、源自具有2个以上(优选为5个以上)亚烷氧基(优选为亚乙氧基、亚丙氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元的含氟高分子化合物。
[0327]
氟系表面活性剂也能够使用在侧链具有含有烯属不饱和键的基团的含氟聚合物。可举出megaface rs-101、rs-102、rs-718k、rs-72-k(以上，dic corporation制)等。
[0328]
作为硅酮系表面活性剂，可举出由硅氧烷键构成的直链状聚合物及在侧链或末端导入有机基团的改性硅氧烷聚合物。
[0329]
作为硅酮系表面活性剂的市售品，可举出：
[0330]
dowsil 8032additive、toray silicone dc3pa、toray silicone sh7pa、toray silicone dc11pa、toray silicone sh21pa、toray silicone sh28pa、toray silicone sh29pa、toray silicone sh30pa、toray silicone sh8400(以上，dow toray co.,ltd.制)以及
[0331]
x-22-4952、x-22-4272、x-22-6266、kf-351a、k354l、kf-355a、kf-945、kf-640、kf-642、kf-643、x-22-6191、x-22-4515、kf-6004、kp-341、kf-6001、kf-6002(以上，shin-etsu chemical co.,ltd.制)、
[0332]
f-4440、tsf-4300、tsf-4445、tsf-4460、tsf-4452(以上，momentive performance materials inc.制)、
[0333]
byk307、byk323、byk330(以上，byk-chemie gmbh制)等。
[0334]
作为非离子系表面活性剂，可举出：
[0335]
甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷以及这些的乙氧基化物及丙氧基化物(例如，甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯十八烷基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、壬基酚聚氧乙烯醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、山梨糖醇酐脂肪酸酯等。
[0336]
作为非离子系表面活性剂的市售品，可举出pluronic l10、l31、l61、l62、10r5、17r2、25r2(以上，basf公司制)、
[0337]
tetronic 304、701、704、901、904、150r1(以上，basf公司制)、
[0338]
solsperse 20000(以上，lubrizol japan ltd.制)、ncw-101、ncw-1001、ncw-1002(以上，fujifilm wako pure chemical corporation制)、
[0339]
pionin d-6112、d-6112-w、d-6315(以上，takemoto oil&fat co.,ltd.制)、
[0340]
olfin e1010、surfynol 104、400、440(以上，nissan chemical industries,ltd.制)等。
[0341]
本发明的组合物可以仅包含1种表面活性剂，也可以包含2种以上。
[0342]
包含表面活性剂时，表面活性剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分量，优选为0.01质量％～3.0质量％，更优选为0.05质量％～1.0质量％，进一步优选为0.10质量％～0.80质量％。
[0343]
〔溶剂〕
[0344]
本发明的组合物优选包含溶剂。
[0345]
若本发明的组合物包含溶剂，则具有基于涂布的折射率调整层的形成变得更容易的倾向。
[0346]
作为溶剂，能够没有特别限制地使用通常使用的溶剂。
[0347]
作为溶剂，优选水系溶剂或有机溶剂。
[0348]
能够根据用本发明的组合物形成转印膜时的该基底层的种类，适当选择溶剂的种类。
[0349]
例如，用本发明的组合物形成转印膜时的折射率调整层的基底层为临时支承体的情况下，能够选择水系溶剂或有机溶剂中的任一种。或者折射率调整层的基底层为后述中间层的情况下，能够适当选择不溶解中间层的溶剂。
[0350]
另一方面，本发明的转印膜在折射率调整层与临时支承体之间具有感光性树脂层时，例如，使用包含有机溶剂的方式的感光性树脂组合物来形成感光性树脂层的情况下、本发明的组合物优选选择水系溶剂。
[0351]
作为水系溶剂，能够使用日本特开2018-024226号公报的0161段及0162段中记载为水性溶剂的溶剂，该说明书的内容编入本发明中。例如，作为水系溶剂，优选水或碳原子数1～3的低级醇与水的混合溶剂。优选包含水及碳原子数1～3的醇，更优选包含碳原子数1～3的醇/水的质量比为20/80～80/20的水或混合溶剂。作为混合溶剂，优选水与甲醇的混合溶剂、水与乙醇的混合溶剂，从干燥及涂布性的观点考虑，优选水与甲醇的混合溶剂。尤其，形成折射率调整层时，使用水与甲醇(meoh)的混合溶剂的情况下，meoh/水的质量比(质量％比率)优选为20/80～80/20，更优选为30/70～75/30，进一步优选为40/60～70/30。通过控制在上述范围内，感光性树脂层与折射率调整层不会在界面相互层溶混合而能够实现涂布和迅速的干燥。
[0352]
作为有机溶剂，可举出甲基乙基酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯(别称：1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)、二乙二醇乙基甲醚、环己酮、甲基异丁酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺、正丙醇、2-丙醇等。
[0353]
作为溶剂，优选甲基乙基酮与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂或二乙二醇乙基甲醚与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂。
[0354]
作为溶剂，能够使用美国专利申请公开第2005/282073号说明书的0054段及0055段中记载的溶剂，该说明书的内容编入本发明中。
[0355]
并且，作为溶剂，根据需要，也能够使用沸点为180℃～250℃的有机溶剂(高沸点溶剂)。
[0356]
本发明的组合物包含溶剂时，可以仅包含1种溶剂，也可以包含2种以上。
[0357]
包含溶剂时，本发明的组合物的固体成分量相对于本发明的组合物的总质量，优选为0.5质量％～80质量％，更优选为1.0质量％～40质量％，尤其优选为1.5质量％～30质量％。
[0358]
本发明的组合物包含溶剂时，例如，从涂布性的观点考虑，本发明的组合物在25℃下的粘度优选为1mpa
·
s～50mpa
·
s，更优选为2mpa
·
s～40mpa
·
s，进一步优选为3mpa
·
s～30mpa
·
s。
[0359]
使用粘度计测定粘度。作为粘度计，例如，能够优选地使用toki sangyo co.,ltd制的粘度计(商品名：viscometer tv-22)。然而，粘度计并不限定于此。
[0360]
本发明的组合物包含溶剂时，例如，从涂布性的观点考虑，本发明的组合物在25℃下的表面张力优选为5mn/m～100mn/m，更优选为10mn/m～80mn/m，进一步优选为15mn/m～40mn/m。
[0361]
表面张力使用表面张力计测定。作为表面张力计，例如，能够优选地使用kyowa interface science co.,ltd制的表面张力计(商品名：automatic surface tensiometer cbvp-z)。然而，表面张力计并不限定于此。
[0362]
〔其他成分〕
[0363]
关于本发明的组合物的其他成分，能够参考日本特开2014-108541号公报的0019～0040段及0144～0150段中记载的固化性第二的树脂层的成分、日本特开2014-10814号公报的0024～0035段及0110～0112段中记载的透明层的成分、国际公开第2016/009980号的0034～0056段中记载的具有铵盐的组合物的成分等。
[0364]
〔杂质〕
[0365]
本发明的组合物中，从提高可靠性和图案形成性的观点考虑，优选本发明的组合物及后述感光性树脂层的杂质的含量少。
[0366]
作为杂质的具体例，可举出钠、钾、镁、钙、铁、锰、铜、铝、钛、铬、钴、镍、锌、锡及这些的离子、以及卤化物离子(氯化物离子、溴化物离子、碘化物离子等)等。其中，钠离子、钾离子、氯化物离子容易作为杂质混入，因此尤其优选设为下述含量。
[0367]
各层中的杂质的含量以质量基准计，优选1,000ppm以下，更优选200ppm以下，尤其优选40ppm以下，更尤其优选10ppm以下，进一步更尤其优选5ppm以下。下限并没有特别限定，但从实际可减少的极限及测定极限的观点考虑，以质量基准计，能够设为10ppb以上，也能够设为100ppb以上。
[0368]
作为将杂质减少至上述范围的方法，可举出选择各层的原料中不包含杂质、形成层时防止杂质的混入，清洗并去除等。通过这种方法，能够使杂质量在上述范围内。
[0369]
关于杂质，例如，能够通过icp(inductively coupled plasma：电感耦合等离子体)发光分光分析法、原子吸光分光法、离子色谱法等公知的方法进行定量。
[0370]
并且，优选各层中的苯、甲醛、三氯乙烯、1,3-丁二烯、四氯化碳、氯仿、n,n-二甲基甲酰胺、n,n-二甲基乙酰胺、己烷等化合物的含量少。作为这些化合物在各层中的含量，以质量基准计，优选1,000ppm以下，更优选200ppm以下，尤其优选40ppm以下，更尤其优选10ppm以下，进一步更尤其优选5ppm以下。下限并没有特别限定，但从实际可减少的极限及测定极限的观点考虑，以质量基准计，能够设为10ppb以上，也能够设为100ppb以上。
[0371]
化合物的杂质能够通过与上述金属的杂质相同的方法抑制含量。并且，能够通过公知的测定法进行定量。
[0372]
[组合物的制造方法]
[0373]
本发明的组合物的制造方法包括使用金属氧化物粒子、具有酸基的粘合剂聚合物
及胺化合物制备组合物的工序，作为胺化合物的氮原子的取代基，具有包含连结链长为3以上的连接基的取代基，胺化合物的重均分子量为100以上。
[0374]
作为使用金属氧化物粒子、具有酸基的粘合剂聚合物及胺化合物制备组合物的工序，并没有特别限制，能够利用公知的方法制备组合物。
[0375]
本发明的组合物的制造方法的其他优选方式与本发明的组合物的优选方式相同。
[0376]
[固化膜]
[0377]
本发明的固化膜为本发明的组合物的固化膜。
[0378]
关于本发明的固化膜的优选方式，除了组合物含有烯属不饱和化合物时烯属不饱和化合物固化的情况、组合物含有聚合引发剂时聚合引发剂分解的情况以外，与本发明的组合物的优选方式实质上相同。
[0379]
[转印膜]
[0380]
本发明的转印膜具有临时支承体和包含本发明的组合物的折射率调整层。
[0381]
以下，对本发明的转印膜所具有的各层进行详细说明。
[0382]
〔临时支承体〕
[0383]
本发明的转印膜具有临时支承体。
[0384]
临时支承体优选为膜，更优选为树脂膜。作为临时支承体，能够使用具有挠性且在加压下或加压及加热下不发生显著的变形、收缩或拉伸的膜。
[0385]
作为这种膜，例如，可举出聚对苯二甲酸乙二酯膜(例如，双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜)、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚酰亚胺膜及聚碳酸酯膜。
[0386]
这些之中，作为临时支承体，尤其优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。
[0387]
并且，用作临时支承体的膜中优选没有褶皱等变形、划伤等。
[0388]
从能够经由临时支承体进行图案曝光的观点考虑，优选临时支承体的透明性高，优选365nm的透射率为60％以上，更优选为70％以上。
[0389]
从经由临时支承体的图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点考虑，优选临时支承体的雾度小。具体而言，临时支承体的雾度值优选为2％以下，更优选为0.5％以下，尤其优选为0.1％以下。
[0390]
从经由临时支承体的图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点考虑，优选在临时支承体中包含的微粒子、异物或缺陷的数量少。直径1μm以上的微粒子、异物或缺陷的数量优选为50个/10mm2以下，更优选为10个/10mm2以下，进一步优选为3个/10mm2以下，尤其优选为0个/10mm2。
[0391]
本发明的转印膜所具有的临时支承体的折射率调整层侧的表面的算术平均粗糙度ra为50nm以下，优选为1～20nm，更优选为1～12nm。
[0392]
其中，算术平均粗糙度ra为利用光学式的表面性状测定器测定的按照jis b0601：2001的算术平均粗糙度。
[0393]
本发明中，从将临时支承体的折射率调整层侧的表面的算术平均粗糙度ra调整在上述范围内的观点考虑，可以在临时支承体中含有粒子，也可以作为在临时支承体中包含的层结构而具有构成折射率调整层侧的表面的含粒子层。
[0394]
从进一步提高操作性的观点考虑，临时支承体优选在与形成折射率调整层的一侧相反一侧的表面具有直径0.5μm以上且5μm以下的粒子存在1个/mm2以上的层，更优选存在1
～50个/mm2。
[0395]
作为在临时支承体(尤其含粒子层)中含有的粒子，可以为有机系粒子，也可以为无机系粒子。
[0396]
作为有机系粒子，具体而言，例如，可举出聚酰亚胺系树脂、烯烃或改性烯烃系树脂、交联聚苯乙烯系树脂及硅酮树脂等。
[0397]
作为无机系粒子，具体而言，例如，可举出氧化硅、碳酸钙、凝聚氧化铝、硅酸铝、云母、粘土、滑石及硫酸钡等。
[0398]
并且，通过调整在临时支承体中含有的粒子数或粒径，能够将临时支承体的折射率调整层侧的表面的算术平均粗糙度ra调整在上述范围内。
[0399]
临时支承体的厚度并没有特别限制，优选为5μm～200μm，从易操作性及通用性的观点考虑，更优选为10μm～150μm，进一步优选为10～50μm。
[0400]
作为临时支承体的优选方式，例如，在日本特开2014-85643号公报的0017～0018段、日本特开2016-27363号公报的0019～0026段、国际公开第2012/081680号的0041～0057段、国际公开第2018/179370号的0029～0040段中有记载，这些公报的内容编入本说明书中。
[0401]
关于临时支承体，例如，能够作为toray industries,inc.制的lumirror(注册商标)16fb40及toray industries,inc.制的lumirror(注册商标)16qs62(16ks40)获得。
[0402]
并且，作为临时支承体的尤其优选方式，能够举出厚度16μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜、厚度12μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜及厚度10μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。
[0403]
〔折射率调整层〕
[0404]
本发明的转印膜具有包含本发明的组合物的折射率调整层。
[0405]
折射率调整层的折射率优选为1.50以上，更优选为1.55以上，进一步优选为1.60以上，尤其优选为1.70以上。
[0406]
折射率调整层的折射率的上限并没有特别限制，优选为2.10以下，更优选为1.85以下，进一步优选为1.78以下，尤其优选为1.74以下。
[0407]
折射率调整层可以具有光固化性(即，感光性)，也可以具有热固性，也可以具有光固化性及热固性两者，但从形成强度优异的固化膜的观点考虑，优选具有光固化性。
[0408]
折射率调整层优选具有碱溶性(例如，对弱碱性水溶液的溶解性)。
[0409]
作为折射率调整层的厚度，并没有特别限制。
[0410]
将由本发明的组合物的固化物构成的单层的折射率调整层用于触摸面板上的保护膜时，从使其发挥充分的表面保护能力的观点考虑，折射率调整层的厚度优选0.5～20μm，更优选0.8～10μm，尤其优选1～5μm。
[0411]
将本发明的组合物的固化物用作折射率调整层时(即将另外准备的感光性树脂层的固化物用于触摸面板上的保护膜时)，折射率调整层的厚度优选为50nm以上且500nm以下，更优选为55nm以上且110nm以下，进一步优选为60nm以上且100nm以下。
[0412]
折射率调整层的厚度作为通过基于扫描型电子显微镜(sem)的剖面观察测定的任意5处的平均值来算出。
[0413]
本发明中，除了使用金属氧化物粒子及粘合剂聚合物以外，控制折射率调整层的
折射率的方法并没有特别限制，例如，可举出使用任意折射率的粘合剂聚合物和金属氧化物粒子的方法、使用规定的高折射率的粘合剂聚合物和金属氧化物粒子的方法、使用金属氧化物粒子与粘合剂聚合物的复合体的方法、在这些方法中进一步使用金属粒子和金属盐的方法等。
[0414]
作为折射率调整层的形成方法，并没有特别限定。
[0415]
作为折射率调整层的形成方法的一例，可举出如下方法：在形成于临时支承体上的后述感光性树脂层上涂布包含水系溶剂的方式的折射率调整层形成用组合物(水系树脂组合物)，根据需要使其干燥，由此形成折射率调整层。
[0416]
作为涂布的方法，能够利用公知的方法。
[0417]
作为涂布的方法，可举出印刷法、喷涂法、辊涂法、棒涂法、帘涂法、旋涂法及模涂法(即，狭缝涂布法)等。
[0418]
这些之中，作为涂布的方法，优选模涂法。
[0419]
作为干燥的方法，能够利用自然干燥、加热干燥、减压干燥等公知的方法，能够单独利用这些方法或组合利用多种。
[0420]
本发明中，“干燥”表示去除在组合物中包含的溶剂的至少一部分。
[0421]
[折射率调整层的颜色]
[0422]
折射率调整层及其固化膜优选为无彩色。具体而言，全反射(入射角8
°
、光源：d-65(2
°
视场))在cie1976(l*，a*，b*)色彩空间中，l
*
值优选为10～90，a
*
值优选为-1.0～1.0，b
*
值优选为-1.0～1.0。
[0423]
〔感光性树脂层〕
[0424]
本发明的转印膜优选在折射率调整层与临时支承体之间具有感光性树脂层。感光性树脂层的折射率优选比折射率调整层低。
[0425]
本发明的转印膜所具有的感光性树脂层优选含有粘合剂聚合物、烯属不饱和化合物及光聚合引发剂，更优选使用含有粘合剂聚合物、聚合性单体及光聚合引发剂的感光性树脂组合物来形成。
[0426]
＜粘合剂聚合物＞
[0427]
作为在感光性树脂层中包含的粘合剂聚合物，能够使用与在本发明的组合物中包含的具有酸基的粘合剂聚合物相同的粘合剂聚合物，优选种类也相同。例如，从固化膜的强度及转印膜上的操作性的观点考虑，感光性树脂层中的粘合剂聚合物的含量相对于感光性树脂层的总质量(或感光性树脂组合物的总固体成分)，优选为10质量％～90质量％，更优选为20质量％～80质量％，进一步优选为30质量％～70质量％。
[0428]
＜烯属不饱和化合物＞
[0429]
作为在感光性树脂层中包含的烯属不饱和化合物，能够使用与在本发明的组合物中包含的具有含有烯属不饱和键的基团的自由基聚合性化合物相同的化合物，优选种类也相同。
[0430]
然而，作为感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物中包含的烯属不饱和化合物，从感光性树脂层的固化物的透湿度及弯曲性、以及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，优选包含具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物，更优选包含具有2环以上的脂肪族烃环缩合而成的环结构的2官能烯属不饱和化合物，尤其优选包含三环
癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯。
[0431]
从感光性树脂层的固化物的透湿度及弯曲性、以及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，上述脂肪族烃环结构优选为环戊烷环结构、环己烷环结构、三环癸烷环结构、降莰烷环结构或异佛尔酮环结构，更优选为环己烷环结构或三环癸烷环结构，尤其优选为三环癸烷环结构。
[0432]
感光性树脂组合物可以单独含有1种具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物，也可以含有2种以上。
[0433]
从所获得的固化膜的透湿度及弯曲性、以及感光性树脂层的固化物的粘结性的观点考虑，具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物的含量相对于感光性树脂组合物的总固体成分，优选为1质量％～50质量％，更优选为5质量％～40质量％，进一步优选为10质量％～30质量％，尤其优选为15质量％～25质量％。
[0434]
感光性树脂层中的烯属不饱和化合物的含量相对于感光性树脂层的总质量，优选1质量％～70质量％，更优选5质量％～70质量％，进一步优选10质量％～70质量％，尤其优选20质量％～60质量％，最优选20质量％～50质量％。
[0435]
感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物可以单独使用1种烯属不饱和化合物，也可以同时使用2种以上，优选同时使用2种以上。
[0436]
在感光性树脂层或感光性树脂组合物中，作为烯属不饱和化合物，从基板密合性、显影残渣抑制性及防锈性的观点考虑，优选同时使用由上述式(m)表示的化合物(化合物m)、具有酸基的烯属不饱和化合物及3官能以上的烯属不饱和化合物，更优选同时使用连接基为直链状的亚烷基的化合物m、具有脂肪族烃环结构的化合物m、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物及二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯，尤其优选同时使用1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯的琥珀酸改性体及二季戊四醇六丙烯酸酯。
[0437]
从感光性树脂层的固化物的透湿度及弯曲性的观点考虑，化合物m的含量相对于感光性树脂组合物中的烯属不饱和化合物的总质量，优选为10质量％～90质量％，更优选为20质量％～80质量％，进一步优选为40质量％～75质量％，尤其优选为60质量％～70质量％。
[0438]
并且，从感光性树脂层的固化物的透湿度及弯曲性的观点考虑，化合物m的含量相对于感光性树脂组合物中的总固体成分，优选为1质量％～45质量％，更优选为15质量％～40质量％，进一步优选为20质量％～35质量％，尤其优选为25质量％～33质量％。
[0439]
此外，在感光性树脂层或感光性树脂组合物中，作为上述烯属不饱和化合物，从所获得的固化膜的强度、基板密合性、显影残渣抑制性及防锈性的观点考虑，优选同时使用化合物m、具有酸基的烯属不饱和化合物、3官能以上的烯属不饱和化合物及后述热交联性化合物，更优选同时使用连接基为直链状的亚烷基的化合物m、具有脂肪族烃环结构的化合物m、具有酸基的烯属不饱和化合物、3官能以上的烯属不饱和化合物及后述封端异氰酸酯化合物。
[0440]
并且，在感光性树脂层或感光性树脂组合物中，从感光性树脂层的固化物的透湿度及弯曲性、以及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，优选同时使用具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物及含有具有脂肪族烃环的结构单元的粘合剂聚合物。
[0441]
＜光聚合引发剂＞
[0442]
本发明的转印膜所具有的感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物可以包含光聚合引发剂。
[0443]
作为在感光性树脂层中包含的光聚合引发剂，能够使用与在本发明的组合物中包含的光聚合引发剂相同的光聚合引发剂，优选种类也相同。
[0444]
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以仅包含1种光聚合引发剂，也可以包含2种以上，优选同时使用2种以上。
[0445]
在感光性树脂层或感光性树脂组合物中，作为光聚合引发剂，从基板密合性、显影残渣抑制性及防锈性的观点考虑，优选同时使用肟系光聚合引发剂及α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂，更优选同时使用1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9h-咔唑-3-基]乙酮-1-(o-乙酰肟)及2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮。
[0446]
光聚合引发剂的含量并没有特别限制，相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1.0质量％以上。
[0447]
并且，光聚合引发剂的含量相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下。
[0448]
＜热交联性化合物＞
[0449]
从固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲裁加工性变得更良好的理由考虑，本发明的转印膜所具有的感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物优选含有通过加热能够与酸基或羟基进行反应的基团而产生的化合物(以下，也简称为“热交联性化合物”。)。
[0450]
作为热交联性化合物，例如，可举出环氧化合物、氧杂环丁烷化合物、羟甲基化合物、封端异氰酸酯化合物等。其中，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘结性的观点考虑，优选以下所示的封端异氰酸酯化合物。
[0451]
封端异氰酸酯化合物是指“具有用封端剂保护(所谓遮蔽)异氰酸酯的异氰酸酯基的结构的化合物”。
[0452]
封端异氰酸酯化合物的解离温度并没有特别限制，优选为100℃～160℃，更优选为130℃～150℃。
[0453]
其中，封端异氰酸酯的解离温度表示“利用差示扫描量热计，通过dsc(differential scanning calorimetry：差示扫描量热法)分析测定时的伴随封端异氰酸酯的脱保护反应的吸热峰的温度”。
[0454]
作为差示扫描量热计，例如，能够优选地利用seiko instruments inc.制的差示扫描量热计(型号：dsc6200)。然而，差示扫描量热计并不限定于此。
[0455]
作为解离温度为100℃～160℃的封端剂，可举出活性亚甲基化合物〔丙二酸二酯(丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、丙二酸二-2-乙基己酯等)等〕、肟化合物(甲醛肟、乙醛肟、丙酮肟、甲基乙基酮肟、环己酮肟等在分子内具有由-c(＝n-oh)-表示的结构的化合物)等。
[0456]
这些之中，作为解离温度为100℃～160℃的封端剂，例如，从保存稳定性的观点考虑，优选选自肟化合物的至少1种。
[0457]
例如，从改善膜的脆性、提高与被转印体的密合力等观点考虑，封端异氰酸酯化合物优选具有异氰脲酸酯结构。
[0458]
例如，对六亚甲基二异氰酸酯进行异氰脲酸酯化来保护，由此获得具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物。
[0459]
在具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物中，与不具有肟结构的化合物相比，更容易将解离温度控制在优选范围内且容易减少显影残渣的观点考虑，优选将肟化合物用作封端剂的具有肟结构的化合物。
[0460]
例如，从固化感光性树脂层而成的固化膜的强度的观点考虑，封端异氰酸酯化合物优选具有聚合性基团，更优选具有自由基聚合性基团。
[0461]
作为聚合性基团，并没有特别限制，能够使用公知的聚合性基团。
[0462]
作为聚合性基团，可举出(甲基)丙烯酰氧基、(甲基)丙烯酸酰胺基、苯乙烯基等含有烯属不饱和键的基团、环氧丙基等具有环氧基的基团等。
[0463]
这些之中，作为聚合性基团，从固化感光性树脂层而成的固化膜的表面的面状、显影速度及反应性的观点考虑，优选含有烯属不饱和键的基团，更优选(甲基)丙烯酰氧基，尤其优选丙烯酰氧基。
[0464]
作为封端异氰酸酯化合物，能够使用市售品。
[0465]
作为封端异氰酸酯化合物的市售品的例子，可举出karenz(注册商标)aoi-bm、karenz(注册商标)moi-bm、karenz(注册商标)moi-bp等(以上，showa denko k.k.制)、嵌段型的duranate系列(例如，duranate(注册商标)tpa-b80e，asahi kasei corporation制)等。
[0466]
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以仅包含1种热交联性化合物，也可以包含2种以上。
[0467]
包含热交联性化合物时，热交联性化合物的含量相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，优选为1质量％～50质量％，更优选为5质量％～30质量％。
[0468]
＜硫醇化合物＞
[0469]
从固化转印后的感光性树脂层而成的固化膜的冲裁加工性变得更良好的理由考虑，转印膜所具有的感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物优选含有能够进行迈克尔加成反应的化合物，具体而言，更优选含有以下所示的硫醇化合物。
[0470]
作为硫醇化合物，可优选地使用单官能硫醇化合物或多官能硫醇化合物。其中，从固化后的硬度的观点考虑，优选包含2官能以上的硫醇化合物(多官能硫醇化合物)，更优选为多官能硫醇化合物。
[0471]
其中，多官能硫醇化合物表示在分子内具有2个以上巯基(硫醇基)的化合物。
[0472]
作为多官能硫醇化合物，优选分子量100以上的低分子化合物，具体而言，更优选分子量100～1,500，进一步优选150～1,000。
[0473]
作为多官能硫醇化合物的官能团数，从固化后的硬度的观点考虑，优选2官能～10官能，更优选2官能～8官能，进一步优选2官能～6官能。
[0474]
并且，作为多官能硫醇化合物，从粘性、以及固化后的弯曲性及硬度的观点考虑，优选脂肪族多官能硫醇化合物。
[0475]
此外，作为硫醇化合物，从感光性转印材料的保存稳定性的观点考虑，更优选仲硫
醇化合物。
[0476]
作为多官能硫醇化合物，具体而言，能够例示三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、1,4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、1,3,5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1h,3h,5h)-三酮、三羟甲基乙烷三(3-巯基丁酸酯)、三[(3-巯基丙酰氧基)乙基]异氰脲酸酯、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、四乙二醇双(3-巯基丙酸酯)、二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)、乙二醇双硫基丙酸酯、1,2-苯二硫醇、1,3-苯二硫醇、1,2-乙烷二硫醇、1,3-丙烷二硫醇、1,6-六亚甲基二硫醇、2,2
’‑
(亚乙基二硫代)二乙烷硫醇、内消旋-2,3-二巯基丁二酸、对二甲苯二硫醇、间二甲苯二硫醇、二(巯基乙基)醚等。
[0477]
这些之中，可优选地举出三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、1,4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、1,3,5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1h,3h,5h)-三酮、三羟甲基乙烷三(3-巯基丁酸酯)、三[(3-巯基丙酰氧基)乙基]异氰脲酸酯、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、四乙二醇双(3-巯基丙酸酯)及二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)。
[0478]
作为单官能硫醇化合物，能够使用脂肪族硫醇化合物及芳香族硫醇化合物中的任一种。
[0479]
作为单官能脂肪族硫醇化合物，具体而言，可举出1-辛硫醇、1-十二烷硫醇、β-巯基丙酸、甲基-3-巯基丙酸酯、2-乙基己基-3-巯基丙酸酯、正辛基-3-巯基丙酸酯、甲氧基丁基-3-巯基丙酸酯、硬脂基-3-巯基丙酸酯等。
[0480]
作为单官能芳香族硫醇化合物，可举出苯硫醇、甲苯硫醇、二甲苯硫醇等。
[0481]
从粘性、以及固化后的弯曲性及硬度的观点考虑，上述硫醇化合物优选为具有酯键的硫醇化合物，更优选包含由下述式1表示的化合物。
[0482]
[化学式10]
[0483][0484]
在式1中，n表示1～6的整数，a表示碳原子数1～15的n价的有机基团或由下述式2表示的基团，r1分别独立地表示碳原子数1～15的二价有机基团。
[0485]
[化学式11]
[0486][0487]
在式2中，r2～r4分别独立地表示碳原子数1～15的二价有机基团，波浪线部分表示与上述式1中和a相邻的氧原子的键合位置。其中，a表示由式2表示的基团时，n表示3。
[0488]
从固化后的硬度的观点考虑，式1中的n优选为2～6的整数。
[0489]
从粘性、以及固化后的弯曲性及硬度的观点考虑，式1中的a优选为碳原子数1～15的n价的脂肪族基或由上述式2表示的基团，更优选为碳原子数4～15的n价的脂肪族基或由上述式2表示的基团，进一步优选为碳原子数4～10的n价的脂肪族基或由上述式2表示的基团，尤其优选为由上述式2表示的基团。
[0490]
并且，从粘性、以及固化后的弯曲性、硬度及透湿性的观点考虑，式1中的a优选为由氢原子及碳原子构成的n价基团或由氢原子、碳原子及氧原子构成的n价基团，更优选为由氢原子及碳原子构成的n价基团，尤其优选为n价的脂肪族烃基。
[0491]
从粘性、以及固化后的弯曲性及硬度的观点考虑，式1中的r1分别独立地优选为碳原子数1～15的亚烷基，更优选为碳原子数2～4的亚烷基，进一步优选为碳原子数3的亚烷基，尤其优选为1,2-亚丙基。上述亚烷基可以为直链状，也可以具有分支。
[0492]
从粘性、以及固化后的弯曲性及硬度的观点考虑，式2中的r2～r4分别独立地优选为碳原子数2～15的脂肪族基，更优选为碳原子数2～15的亚烷基或碳原子数3～15的聚亚烷基氧基烷基，进一步优选为碳原子数2～15的亚烷基，尤其优选为亚乙基。
[0493]
并且，作为多官能硫醇化合物，优选具有2个以上由下述式s-1表示的基团的化合物。
[0494]
[化学式12]
[0495][0496]
在式s-1中，r
1s
表示氢原子或烷基，a
1s
表示-co-或-ch
2-，波浪线部分表示与其他结构的键合位置。
[0497]
作为多官能硫醇化合物，优选具有2个以上且6个以下的由式s-1表示的基团的化合物。
[0498]
作为式s-1中的r
1s
的烷基为直链、分支或环状的烷基，作为碳原子数的范围，优选1～16，更优选1～10。作为烷基的具体例，是甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、2-乙基己基等，优选甲基、乙基、丙基或异丙基。
[0499]
作为r
1s
，尤其优选氢原子、甲基、乙基、丙基或异丙基，最优选甲基或乙基。
[0500]
此外，作为多官能硫醇化合物，尤其优选为具有多个由上述式s-1表示的基团的由下述式s-2表示的化合物。
[0501]
[化学式13]
[0502][0503]
在式s-2中，r
1s
分别独立地表示氢原子或烷基，a
1s
分别独立地表示-co-或-ch
2-，l
1s
表示ns价的连接基，ns表示2～8的整数。从合成上的观点考虑，所有r
1s
优选为相同基团，并且，所有a
1s
优选为相同基团。
[0504]
式s-2中的r
1s
的含义与上述式s-1中的r
1s
相同，优选范围也相同。ns优选2～6的整数。
[0505]
作为式s-2中的ns价的连接基l
1s
，例如可举出-(ch2)ms-(ms表示2～6的整数。)、-(ch2)ms{(ch2)mso}mt(ch2)ms-(ms及mt分别独立地表示2～6的整数。)等二价连接基、三羟
甲基丙烷残基、具有3个-(ch2)ps-(ps表示2～6的整数。)的异氰脲酸环等三价连接基、季戊四醇残基等四价连接基、二季戊四醇残基等五价或六价的连接基。
[0506]
作为硫醇化合物，具体而言，可优选地举出以下化合物，但并不限定于此。
[0507]
[化学式14]
[0508][0509]
[化学式15]
[0510][0511]
＜杂环化合物＞
[0512]
本发明的转印膜所具有的感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物优选含有杂环化合物。
[0513]
杂环化合物有助于提高对基材(尤其，铜基板)的密合性及金属(尤其，铜)的腐蚀抑制性。
[0514]
杂环化合物所具有的杂环可以为单环及多环中的任一种。
[0515]
作为杂环化合物所具有的杂原子，可举出氮原子、氧原子、硫原子等。杂环化合物优选具有选自氮原子、氧原子及硫原子中的至少1种原子，更优选具有氮原子。
[0516]
作为杂环化合物，例如，可优选地举出三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、绕丹宁化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物、苯并噁唑化合物或嘧啶化合物。上述中，杂环化合物优选为选自三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、绕丹宁化合物、噻唑化合物、苯并咪唑化合物及苯并噁唑化合物中的至少1种化合物，更优选为选自三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物及苯并噁唑化合物中的至少1种化合物。
[0517]
以下示出杂环化合物的优选具体例。作为三唑化合物及苯并三唑化合物，能够例示以下化合物。
[0518]
[化学式16]
[0519][0520]
作为四唑化合物，能够例示以下化合物。
[0521]
[化学式17]
[0522][0523]
作为噻二唑化合物，能够例示以下化合物。
[0524]
[化学式18]
[0525][0526]
作为三嗪化合物，能够例示以下化合物。
[0527]
[化学式19]
[0528][0529]
作为绕丹宁化合物，能够例示以下化合物。
[0530]
[化学式20]
[0531][0532]
作为噻唑化合物，能够例示以下化合物。
[0533]
[化学式21]
[0534][0535]
作为苯并噻唑化合物，能够例示以下化合物。
[0536]
[化学式22]
[0537][0538]
作为苯并咪唑化合物，能够例示以下化合物。
[0539]
[化学式23]
[0540][0541]
作为苯并噁唑化合物，能够例示以下化合物。
[0542]
[化学式24]
[0543][0544]
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以仅包含1种杂环化合物，也可以包含2种以上。
[0545]
含有杂环化合物时，杂环化合物的含量相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分，优选为0.01质量％～20质量％，更优选为0.1质量％～10质量％，进一步优
选为0.3质量％～8质量％，尤其优选为0.5质量％～5质量％。通过使杂环化合物的含量在上述范围内，能够提高对基材(尤其，铜基板)的密合性及金属(尤其，铜)的腐蚀抑制性。
[0546]
＜表面活性剂＞
[0547]
本发明的转印膜所具有的感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物可以包含表面活性剂。
[0548]
作为在感光性树脂层中包含的表面活性剂，能够使用与在折射率调整层中包含的表面活性剂相同的表面活性剂，优选范围也相同。
[0549]
＜供氢化合物＞
[0550]
本发明的转印膜所具有的感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物优选包含供氢化合物。
[0551]
其中，供氢化合物具有进一步提高光聚合引发剂对活化光线的灵敏度、抑制由氧导致的聚合性化合物的聚合阻碍等作用。
[0552]
作为供氢化合物，可举出胺类，例如，m.r.sander等著“journal of polymer society”第10卷3173页(1972)、日本特公昭44-20189号公报、日本特开昭51-82102号公报、日本特开昭52-134692号公报、日本特开昭59-138205号公报、日本特开昭60-84305号公报、日本特开昭62-18537号公报、日本特开昭64-33104号公报、research disclosure 33825号等中记载的化合物等。
[0553]
作为供氢化合物的具体例，可举出三乙醇胺、对二甲基氨基苯甲酸乙酯、对甲酰基二甲基苯胺、对甲硫基二甲基苯胺等。
[0554]
并且，作为供氢化合物，也可举出氨基酸化合物(n-苯甘氨酸等)、日本特公昭48-42965号公报中记载的有机金属化合物(乙酸三丁锡等)、日本特公昭55-34414号公报中记载的供氢体、日本特开平6-308727号公报中记载的硫化合物(三噻烷等)等。
[0555]
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以仅包含1种供氢化合物，也可以包含2种以上。
[0556]
包含供氢化合物时，例如，从通过聚合生长速度和链转移的平衡来提高固化速度的观点考虑，供氢化合物的含量相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，优选为0.01质量％～10质量％，更优选为0.03质量％～5质量％，进一步优选为0.05质量％～3质量％。
[0557]
＜溶剂＞
[0558]
形成本发明的转印膜所具有的感光性树脂层的感光性树脂组合物优选包含溶剂。
[0559]
若感光性树脂组合物包含溶剂，则具有基于涂布的感光性树脂层的形成变得更容易的倾向。
[0560]
作为在感光性树脂层中包含的溶剂，能够使用与在本发明的组合物中包含的溶剂相同的溶剂，优选范围也相同。感光性树脂组合物包含溶剂时，感光性树脂组合物的固体成分量相对于感光性树脂组合物的总质量，优选为5质量％～80质量％，更优选为5质量％～40质量％，尤其优选为5质量％～30质量％。
[0561]
＜其他成分＞
[0562]
本发明的转印膜所具有的感光性树脂层或形成感光性树脂层的感光性树脂组合物可以包含除已述成分以外的成分(所谓其他成分)。
[0563]
作为其他成分，可举出粒子(例如，金属氧化物粒子)、着色剂等。
[0564]
并且，作为其他成分，例如，也可举出日本专利第4502784号公报的0018段中记载的热聚合抑制剂、日本特开2000-310706号公报的0058～0071段中记载的其他添加剂等。
[0565]-粒子-[0566]
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以以调整折射率、透光性等为目的，包含粒子(例如，金属氧化物粒子；以下相同)。
[0567]
金属氧化物粒子中的金属也包括b、si、ge、as、sb、te等半金属。
[0568]
例如，从固化膜的透明性的观点考虑，粒子的平均一次粒径优选为1nm～200nm，更优选为3nm～80nm。
[0569]
利用电子显微镜测定任意200个粒子的粒径，并对测定结果进行算术平均，由此算出粒子的平均一次粒径。另外，粒子的形状不是球形的情况下，将最长边作为粒径。
[0570]
感光性树脂层或感光性树脂组合物在包含粒子时，可以仅包含1种金属种类、大小等不同的粒子，也可以包含2种以上。
[0571]
感光性树脂层或感光性树脂组合物优选不包含粒子、或者粒子的含量相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量超过0质量％且35质量％以下，更优选不包含粒子、或者粒子的含量相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量超过0质量％且10质量％以下，进一步优选不包含粒子、或者粒子的含量相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量超过0质量％且5质量％以下，进一步优选不包含粒子、或者粒子的含量相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量超过0质量％且1质量％以下，尤其优选不包含粒子。
[0572]
使用具有不包含粒子的感光性树脂层的转印膜时，能够进一步防止转印膜在转印时的气泡的混入。
[0573]-着色剂-[0574]
感光性树脂层或感光性树脂组合物可以包含微量的着色剂(颜料、染料等)，例如，从透明性的观点考虑，优选实质上不包含着色剂。
[0575]
包含着色剂时，着色剂的含量相对于感光性树脂层或感光性树脂组合物的总固体成分量，优选低于1质量％，更优选低于0.1质量％。
[0576]
＜感光性树脂层的厚度＞
[0577]
感光性树脂层的厚度并没有特别限制，优选为20μm以下，更优选为15μm以下，进一步优选为12μm以下。
[0578]
若感光性树脂层的厚度为20μm以下，则在转印膜整体的薄膜化、提高感光性树脂层或所获得的固化膜的透射率、抑制感光性树脂层或所获得的固化膜变黄等方面有利。
[0579]
例如，从制造适应性的观点考虑，感光性树脂层的厚度优选为1μm以上，更优选为2μm以上，尤其优选为3μm以上。
[0580]
感光性树脂层的厚度作为通过基于扫描型电子显微镜(sem)的剖面观察测定的任意5处的平均值来算出。
[0581]
＜感光性树脂层的折射率＞
[0582]
感光性树脂层的折射率并没有特别限制，优选为1.47～1.56，更优选为1.50～1.53，进一步优选为1.50～1.52，尤其优选为1.51～1.52。
[0583]
＜感光性树脂层的形成方法＞
[0584]
作为感光性树脂层的形成方法，并没有特别限定，能够利用公知的方法。
[0585]
作为感光性树脂层的形成方法的一例，可举出如下方法：在临时支承体上涂布包含溶剂的方式的感光性树脂组合物，根据需要使其干燥，由此形成感光性树脂层。
[0586]
感光性树脂层的形成方法中的涂布及干燥的方法的具体例分别与折射率调整层的形成方法中的涂布及干燥的具体例相同。
[0587]
[感光性树脂层的颜色]
[0588]
感光性树脂层优选为无彩色。具体而言，全反射(入射角8
°
、光源：d-65(2
°
视场))在cie1976(l*，a*，b*)色彩空间中，l
*
值优选为10～90，a
*
值优选为-1.0～1.0，b
*
值优选为-1.0～1.0。
[0589]
〔保护膜〕
[0590]
本发明的转印膜优选具有保护膜。
[0591]
作为保护膜，可举出聚对苯二甲酸乙二酯膜、聚丙烯膜、聚乙烯膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等。
[0592]
作为保护膜，例如，可以使用日本特开2006-259138号公报的0083～0087段及0093段中记载的膜。
[0593]
关于保护膜，例如，也能够作为oji f-tex co.,ltd.制的alphan(注册商标)fg-201、alphan(注册商标)e-201f、toray advanced film co.,ltd.制的cerapeel(注册商标)25wz及toray industries,inc.制的lumirror(注册商标)16qs62来获得。
[0594]
并且，关于保护膜，在保护膜中包含的直径80μm以上的鱼眼数优选为5个/m2以下。另外，“鱼眼”是对材料进行热熔融，并通过混炼、挤出、双轴拉伸及流延法等方法制造膜时，材料的异物、未溶解物、氧化劣化物等进入膜中的物质。
[0595]
在保护膜中包含的直径3μm以上的粒子数优选为30个/mm2以下，更优选为10个/mm2以下，进一步优选为5个/mm2以下。由此，能够抑制由在保护膜中包含的粒子导致的凹凸被转印到感光性树脂层而产生的缺陷。
[0596]
从赋予卷取性的观点考虑，保护膜中与和折射率调整层接触的面相反一侧的表面的算术平均粗糙度ra优选为0.01μm以上，更优选为0.02μm以上，进一步优选为0.03μm以上。另一方面，优选低于0.50μm，更优选为0.40μm以下，进一步优选为0.30μm以下。
[0597]
从抑制转印时的缺陷的观点考虑，保护膜中与折射率调整层接触的面的表面粗糙度ra优选为0.01μm以上，更优选为0.02μm以上，进一步优选为0.03μm以上。另一方面，优选低于0.50μm，更优选为0.40μm以下，进一步优选为0.30μm以下。
[0598]
本发明中，从将保护膜的折射率调整层侧的表面的算术平均粗糙度ra调整在上述范围内的观点考虑，可以在保护膜中包含粒子，也可以作为在临时支承体中包含的层结构而具有构成折射率调整层侧的表面的含粒子层。
[0599]
作为在保护膜(尤其含粒子层)中含有的粒子，可举出与例示为在临时支承体中含有的粒子相同的粒子。
[0600]
〔热塑性树脂层〕
[0601]
本发明的转印膜可以在临时支承体与折射率调整层之间、或者临时支承体与感光性树脂层之间进一步具有热塑性树脂层。
[0602]
若转印膜进一步具有热塑性树脂层，则在将转印膜转印于基板上来形成层叠体时，不易产生由层叠导致的气泡。将该层叠体用于图像显示装置时，不易发生图像不均等，可获得优异的显示特性。
[0603]
热塑性树脂层优选具有碱溶性。
[0604]
热塑性树脂层在转印时，作为吸收基板表面的凹凸的缓冲材料发挥功能。
[0605]
基板表面的凹凸中也包括已形成的图像、电极、配线等。
[0606]
热塑性树脂层优选具有能够根据凹凸变形的性质。
[0607]
热塑性树脂层优选包含日本特开平5-72724号公报中记载的有机高分子物质，更优选包含基于维卡(vicat)法(具体而言，基于美国试验材料协会(astm international)astm d 1235的聚合物软化点测定法)的软化点在约80℃以下的有机高分子物质。
[0608]
例如，热塑性树脂层的厚度优选为3μm～30μm，更优选为4μm～25μm，进一步优选为5μm～20μm。
[0609]
若热塑性树脂层的厚度为3μm以上，则对基板表面的凹凸的追随性进一步提高，因此能够更有效地吸收基板表面的凹凸。
[0610]
若热塑性树脂层的厚度为30μm以下，则制造适应性进一步提高，因此，例如进一步减轻在临时支承体上涂布形成热塑性树脂层时的干燥(所谓用于去除溶剂的干燥)的负荷，并且，进一步缩短转印后的热塑性树脂层的显影时间。
[0611]
热塑性树脂层的厚度作为通过基于扫描型电子显微镜(sem)的剖面观察测定的任意5处的平均值来算出。
[0612]
热塑性树脂层能够通过如下方法形成：将包含溶剂及热塑性的有机高分子的热塑性树脂层形成用组合物涂布于临时支承体上，并根据需要使其干燥。
[0613]
热塑性树脂层的形成方法中的涂布及干燥的方法的具体例分别与感光性树脂层的形成方法中的涂布及干燥的具体例相同。
[0614]
溶剂只要为溶解形成热塑性树脂层的高分子成分的溶剂，则并没有特别限制。
[0615]
作为溶剂，可举出有机溶剂(例如，甲基乙基酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇及2-丙醇)。
[0616]
在100℃下测定的热塑性树脂层的粘度优选为1,000pa
·
s～10,000pa
·
s。并且，优选在100℃下测定的热塑性树脂层的粘度低于在100℃下测定的感光性树脂层的粘度。
[0617]
〔中间层〕
[0618]
本发明的转印膜可以在临时支承体与折射率调整层之间、或者临时支承体与感光性树脂层之间进一步具有中间层。
[0619]
本发明的转印膜具有热塑性树脂层时，中间层优选配置于热塑性树脂层与感光性树脂层之间。
[0620]
作为在中间层中包含的成分，例如，可举出选自聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮及纤维素中的至少1种聚合物。
[0621]
并且，作为中间层，也能够使用日本特开平5-72724号公报中记载为“分离层”的层。
[0622]
制造在临时支承体上依次具有热塑性树脂层、中间层、感光性树脂层、折射率调整层的方式的转印膜时，中间层能够如下形成：例如，涂布包含不溶解热塑性树脂层的溶剂及
作为中间层的成分的上述聚合物的中间层形成用组合物，并根据需要使其干燥。详细而言，首先，在临时支承体上涂布热塑性树脂层形成用组合物并根据需要使其干燥，由此形成热塑性树脂层。接着，在所形成的热塑性树脂层上涂布中间层形成用组合物并根据需要使其干燥，由此形成中间层。接着，在所形成的中间层上涂布包含有机溶剂的方式的感光性树脂组合物(所谓感光性树脂层形成用组合物)并使其干燥，由此形成感光性树脂层。另外，在感光性树脂层形成用组合物中包含的有机溶剂优选为不溶解中间层的有机溶剂。接着，在所形成的感光性树脂层上涂布包含水系溶剂的方式的本发明的组合物(所谓折射率调整层形成用组合物)并使其干燥，由此形成折射率调整层。另外，在本发明的组合物中包含的水系溶剂优选为不溶解感光性树脂层的水系溶剂。
[0623]
另一方面，制造在临时支承体上依次具有热塑性树脂层、中间层、单层的折射率调整层的方式的转印膜时，首先，在临时支承体上涂布热塑性树脂层形成用组合物并根据需要使其干燥，由此形成热塑性树脂层。接着，在所形成的热塑性树脂层上涂布中间层形成用组合物并根据需要使其干燥，由此形成中间层。接着，在所形成的中间层上涂布包含有机溶剂的方式的本发明的组合物(所谓折射率调整层形成用组合物)并使其干燥，由此形成折射率调整层。另外，在本发明的组合物中包含的有机溶剂优选为不溶解中间层的有机溶剂。
[0624]
中间层的形成方法中的涂布及干燥的方法的具体例分别与折射率调整层的形成方法中的涂布及干燥的具体例相同。
[0625]
〔转印膜的具体例〕
[0626]
图1是表示本发明的转印膜的一例的概略剖视图。
[0627]
如图1所示，转印膜10具有保护膜16/折射率调整层20a/感光性树脂层18a/临时支承体12的层叠结构(即，依次配置有临时支承体12、感光性树脂层18a、折射率调整层20a、保护膜16的层叠结构)。
[0628]
然而，本发明的转印膜并不限定于转印膜10，例如，可以省略感光性树脂层18a。并且，在临时支承体12与感光性树脂层18a之间可以具有已述热塑性树脂层及中间层中的至少一个。
[0629]
折射率调整层20a是从感光性树脂层18a观察时配置于与存在临时支承体12的一侧相反的一侧的层。折射率调整层20a优选为波长550nm处的折射率为1.50以上的层。
[0630]
转印膜10是负型材料(所谓负型膜)。
[0631]
〔转印膜的制造方法〕
[0632]
转印膜10的制造方法并没有特别限制。
[0633]
在将由本发明的组合物的固化物构成的单层的折射率调整层用于触摸面板上的保护膜时，例如，转印膜10的制造方法优选依次包括在临时支承体12上形成折射率调整层20a的工序和在折射率调整层20a上形成保护膜16的工序。
[0634]
在将本发明的组合物的固化物用作折射率调整层时(即将另外准备的感光性树脂层的固化物用于触摸面板上的保护膜时)，转印膜10的制造方法优选依次包括在临时支承体12上形成感光性树脂层18a的工序、在感光性树脂层18a上形成折射率调整层20a的工序、在折射率调整层20a上形成保护膜16的工序。
[0635]
转印膜10的制造方法可以在形成折射率调整层20a的工序与形成保护膜16的工序之间包括国际公开第2016/009980号的0056段中记载的使氨挥发的工序。
[0636]
〔用途〕
[0637]
本发明的转印膜的用途并没有特别限制，由于弯曲性优异，因此能够优选地用作触摸面板用的转印膜，能够更优选地用作触摸面板上的保护膜形成用的转印膜，能够尤其优选地用作触摸面板上的电极保护膜形成用的转印膜。
[0638]
＜层叠体＞
[0639]
通过使用本发明的转印膜，在具有电极的基板上转印本发明的转印膜所具有的折射率调整层，由此能够制造层叠有折射率调整层固化而成的固化膜的层叠体。
[0640]
例如本发明的转印膜具有保护膜时，层叠体的制造方法优选具有：
[0641]
从上述本发明的转印膜剥离保护膜的第1剥离工序、
[0642]
将剥离了保护膜的转印膜从折射率调整层侧转印在具有电极的基板上的转印工序、
[0643]
固化经转印的折射率调整层的至少一部分来形成固化膜的固化工序、固化工序后剥离临时支承体，在具有电极的基板上获得层叠有固化膜的层叠体的第2剥离工序。
[0644]
另外，层叠体的制造方法所具有的第1剥离工序、转印工序及第2剥离工序中的具体的方法可举出与在后述的本发明的触摸面板的制造方法所具有的第1剥离工序、转印工序及第2剥离工序中说明的方法相同的方法。
[0645]
具有电极的基板优选为包含静电容量型输入装置的电极的基板。
[0646]
并且，静电容量型输入装置的电极可以为透明电极图案，也可以为迂回布线。
[0647]
＜触摸面板＞
[0648]
层叠体能够用作静电容量型输入装置的部件。
[0649]
作为静电容量型输入装置，可优选地举出触摸面板。层叠体优选用作触摸面板部件。
[0650]
作为触摸面板用电极，例如，可举出至少配置于触摸面板的图像显示区域的透明电极图案。触摸面板用电极可以从图像显示区域延伸至触摸面板的框部。
[0651]
作为触摸面板用配线，例如，可举出配置于触摸面板的框部的迂回布线(所谓引出配线)。
[0652]
作为触摸面板用基板及触摸面板的方式，优选通过在透明电极图案的触摸面板的框部延伸的部分层叠有迂回布线的一部分而透明电极图案与迂回布线电连接的方式。
[0653]
作为透明电极图案的材质，优选ito(氧化铟锡)、izo(氧化铟锌)等金属氧化膜或金属网、银纳米线等金属细线。
[0654]
作为金属细线，可举出银、铜等的细线。其中，优选银网、银纳米线等银导电性材料。
[0655]
作为迂回布线的材质，优选金属。
[0656]
作为迂回布线的材质的金属，可举出金、银、铜、钼、铝、钛、铬、锌及锰、以及由这些金属元素的2种以上构成的合金。作为迂回布线的材质，优选铜、钼、铝或钛，尤其优选铜。
[0657]
＜触摸面板的第1具体例＞
[0658]
图2是表示具有用本发明的转印膜进行转印及固化而形成的固化膜(折射率调整层的固化物)的触摸面板的第1具体例的概略剖视图。更详细而言，图2是触摸面板30的图像显示区域的概略剖视图。
[0659]
如图2所示，触摸面板30具有依次配置有基板32、第二折射率调整层36、作为触摸面板用电极的透明电极图案34、用作第一折射率调整层的固化膜20(折射率调整层的固化物)、触摸面板用电极保护膜18的结构。
[0660]
在触摸面板30中，触摸面板用电极保护膜18及固化膜20覆盖整个透明电极图案34。
[0661]
第二折射率调整层36及固化膜20优选分别直接或经由其他层连接包覆存在透明电极图案34的第1区域40及不存在透明电极图案34的第2区域42。根据这种方式，透明电极图案34变得更不易视觉辨认。
[0662]
第二折射率调整层36及固化膜20与经由其他层包覆第1区域40及第2区域42这两者相比，优选直接包覆。
[0663]
作为“其他层”，可举出除绝缘层、透明电极图案34以外的电极图案等。
[0664]
固化膜20跨越第1区域40及第2区域42这两者而层叠。固化膜20与第二折射率调整层36相邻，此外，也与透明电极图案34相邻。
[0665]
与第二折射率调整层36接触的部位的透明电极图案34的端部的形状为如图2所示的锥形状时，优选沿锥形状(即，以与锥角相同的倾斜度)层叠固化膜20。
[0666]
作为透明电极图案34，优选ito透明电极图案。
[0667]
例如，能够通过以下方法形成透明电极图案34。
[0668]
在形成有第二折射率调整层36的基板32上，通过溅射形成电极用薄膜(例如，ito膜)。接着，在所形成的电极用薄膜上，通过涂布蚀刻用感光性抗蚀剂或通过转印蚀刻用感光性膜，形成蚀刻保护层。接着，通过曝光及显影，将所形成的蚀刻保护层图案化为所希望的图案形状。接着，通过蚀刻去除电极用薄膜中未覆盖图案化的蚀刻保护层的部分，将电极用薄膜设为所希望的形状的图案(即，透明电极图案34)。接着，去除利用剥离液图案化的蚀刻保护层。
[0669]
＜触摸面板的第2具体例＞
[0670]
图3是表示具有用本发明的转印膜进行转印及固化而形成的固化膜(折射率调整层的固化物；图3中未图示)及感光性树脂层的固化物的触摸面板的第2具体例的概略剖视图。
[0671]
如图3所示，触摸面板90具有图像显示区域74及图像非显示区域75(即，框部)。
[0672]
并且，触摸面板90在基板32的两面具备触摸面板用电极。详细而言，触摸面板90在基板32的一面具备第1透明电极图案70，在另一面具备第2透明电极图案72。
[0673]
在触摸面板90中，第1透明电极图案70及第2透明电极图案72上分别连接有迂回布线56。迂回布线56例如为铜配线。
[0674]
在触摸面板90中，在基板32的一面形成有未图示的固化膜(折射率调整层的固化物、即第一折射率调整层)及触摸面板用电极保护膜18以覆盖第1透明电极图案70及迂回布线56，在基板32的另一面，形成有未图示的固化膜(折射率调整层的固化物)及触摸面板用电极保护膜18以覆盖第2透明电极图案72及迂回布线56。
[0675]
在基板32的一面及另一面分别可以形成有第1具体例中的第二折射率调整层。
[0676]
[触摸面板的制造方法]
[0677]
本发明的触摸面板的制造方法包括：准备触摸面板用基板的工序，该触摸面板用
基板具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用配线中的至少一个的结构；在触摸面板用基板的配置有触摸面板用电极及触摸面板用配线中的至少一个的一侧的表面上，形成由本发明的组合物构成或干燥组合物而成的折射率调整层的工序；对形成于触摸面板用基板上的折射率调整层进行图案曝光的工序；及通过对经图案曝光的折射率调整层进行显影，获得保护触摸面板用电极及触摸面板用配线中的至少一个的至少一部分的固化膜的工序。
[0678]
〔第1剥离工序〕
[0679]
本发明的转印膜具有保护膜时，触摸面板的制造方法优选包括从本发明的转印膜剥离保护膜的第1剥离工序。
[0680]
第1剥离工序是从上述的本发明的转印膜剥离保护膜的工序，剥离的方法并没有特别限定，能够适当采用公知的方法。
[0681]
〔转印工序〕
[0682]
转印工序是在触摸面板用基板的配置有触摸面板用电极及触摸面板用配线中的至少一个的一侧的表面上，形成由本发明的组合物构成或干燥组合物而成的折射率调整层(转印)的工序。
[0683]
转印膜在折射率调整层与临时支承体之间具有感光性树脂层时，优选通过该转印工序同时形成(转印)折射率调整层及感光性树脂层。
[0684]
作为转印的方法，可举出如下方法：将上述的本发明的转印膜层压在触摸面板用基板的配置有触摸面板用电极及触摸面板用配线中的至少一个的一侧的表面上，并将转印膜上的折射率调整层转印在上述表面上，由此在上述表面上形成折射率调整层。
[0685]
层压(所谓折射率调整层的转印)能够利用真空层压机、自动切割层压机等公知的层压机来进行。
[0686]
作为层压条件，能够适用通常的条件。
[0687]
层压温度优选为80℃～150℃，更优选为90℃～150℃，进一步优选为100℃～150℃。
[0688]
利用具备橡胶辊的层压机时，层压温度是指橡胶辊的温度。
[0689]
层压时的基板温度并没有特别限制。
[0690]
作为层压时的基板温度，优选为10℃～150℃，更优选为20℃～150℃，进一步优选为30℃～150℃。
[0691]
作为基板使用树脂基板时，作为层压时的基板温度，优选10℃～80℃，更优选20℃～60℃，进一步优选30℃～50℃。
[0692]
并且，作为层压时的线压，优选0.5n/cm～20n/cm，更优选1n/cm～10n/cm，进一步优选1n/cm～5n/cm。
[0693]
并且，作为层压时的传送速度(层压速度)，优选0.5m/分钟～5m/分钟，更优选1.5m/分钟～3m/分钟。
[0694]
通过转印工序，转印膜的折射率调整层被转印至触摸面板用基板的配置有电极等的一侧的表面上，由此形成具有临时支承体/折射率调整层/电极等/基板的层叠结构的层叠体。或者，转印膜在折射率调整层与临时支承体之间具有热塑性树脂层时，形成具有临时支承体/热塑性树脂层/折射率调整层/电极等/基板的层叠结构的层叠体。或者，转印膜在
折射率调整层与临时支承体之间具有感光性树脂层时，形成具有临时支承体/感光性树脂层/折射率调整层/电极等/基板的层叠结构的层叠体。
[0695]
在这些层叠结构中，“电极等/基板”的部分是触摸面板用基板。
[0696]
〔曝光工序〕
[0697]
曝光工序是对形成于触摸面板用基板上的折射率调整层进行图案曝光的工序。
[0698]
转印膜在折射率调整层与临时支承体之间具有感光性树脂层时，优选通过该曝光工序对折射率调整层及感光性树脂层同时进行图案曝光。
[0699]“图案曝光”是指以图案状进行曝光的方式，即，存在曝光部和非曝光部的方式的曝光。
[0700]
在触摸面板用基板上的折射率调整层中，图案曝光中的曝光部被固化，最终成为固化膜。
[0701]
另一方面，在触摸面板用基板上的折射率调整层中，未使图案曝光中的非曝光部固化，而在接下来的显影工序中通过显影液溶解去除。非曝光部能够在显影工序后形成固化膜的开口部。
[0702]
图案曝光可以为经由掩模的曝光，也可以为利用激光等的数字曝光。
[0703]
作为图案曝光的光源，只要能够照射可固化折射率调整层的波长范围的光(例如，365nm或405nm)，则能够适当选择使用。
[0704]
作为光源，可举出各种激光、发光二极管(led)、超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯等。
[0705]
曝光量优选为5mj/cm2～200mj/cm2，更优选为10mj/cm2～200mj/cm2。
[0706]
〔第2剥离工序〕
[0707]
触摸面板的制造方法优选具有第2剥离工序，该第2剥离工序在曝光工序后剥离临时支承体并获得在具有电极的基板上层叠有固化膜的层叠体。
[0708]
第2剥离工序是曝光工序后剥离临时支承体的工序，剥离的方法并没有特别限定，能够适当采用公知的方法。
[0709]
〔显影工序〕
[0710]
显影工序优选在第2剥离工序后进行。
[0711]
显影工序是通过对经图案曝光的折射率调整层进行显影而获得保护触摸面板用电极及触摸面板用配线中的至少一个的至少一部分的固化膜(触摸面板用保护膜)的工序。
[0712]
转印膜在折射率调整层与临时支承体之间具有感光性树脂层时，优选通过该显影工序对经图案曝光的折射率调整层及经图案曝光的感光性树脂层同时进行显影。
[0713]
显影中使用的显影液并没有特别限制，能够使用日本特开平5-72724号公报中记载的显影液等公知的显影液。
[0714]
作为显影液，优选使用碱性水溶液。
[0715]
作为能够在碱性水溶液中包含的碱性化合物，可举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、胆碱(2-羟乙基三甲基氢氧化铵)等。
[0716]
碱性水溶液在25℃下的ph优选为8～13，更优选为9～12，尤其优选为10～12。
[0717]
碱性化合物在碱性水溶液中的含量相对于碱性水溶液的总质量，优选为0.1质
量％～5质量％，更优选为0.1质量％～3质量％。
[0718]
显影液可以包含对水具有混和性的有机溶剂。
[0719]
作为有机溶剂，可举出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单正丁基醚、苯甲醇、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、n-甲基吡咯烷酮等。
[0720]
有机溶剂的浓度优选为0.1质量％～30质量％。
[0721]
显影液可以包含公知的表面活性剂。
[0722]
表面活性剂的浓度优选为0.01质量％～10质量％。
[0723]
显影液的液温优选为20℃～40℃。
[0724]
作为显影的方式，例如，可举出旋覆浸没式显影、喷淋显影、喷淋及旋转显影、浸渍显影等方式。
[0725]
进行喷淋显影时，对图案曝光后的折射率调整层以喷淋状喷洒显影液，由此去除折射率调整层的非曝光部。
[0726]
使用具备折射率调整层(及任意感光性树脂层)和热塑性树脂层及中间层中的至少一个的转印膜时，可以在这些层转印至基板上之后且在折射率调整层(及感光性树脂层)的显影之前，以喷淋状喷洒对折射率调整层(及感光性树脂层)的溶解性低的碱性液体，预先去除热塑性树脂层及中间层中的至少一个(存在两者时为两者)。
[0727]
并且，显影之后，优选通过喷淋喷洒清洗剂等，同时用刷子等擦拭、从而去除显影残渣。
[0728]
显影液的液温优选为20℃～40℃。
[0729]
显影工序可以包括进行上述显影的阶段和对通过上述显影获得的固化膜进行加热处理(以下，也称为“后烘烤”。)的阶段。
[0730]
基板为树脂基板时，后烘烤的温度优选为100℃～160℃，更优选为130℃～160℃。
[0731]
通过该后烘烤，也能够调整透明电极图案的电阻值。
[0732]
折射率调整层或感光性树脂层包括含羧基(甲基)丙烯酸树脂时，能够通过后烘烤将含羧基(甲基)丙烯酸树脂的至少一部分改变成羧酸酐。若如此改变，则显影性及固化膜的强度优异。
[0733]
显影工序可以包括进行上述显影的阶段和对通过上述显影获得的固化膜进行曝光(以下，也称为“后曝光”。)的阶段。
[0734]
显影工序包括进行后曝光的阶段及进行后烘烤的阶段这两者时，优选后曝光之后实施后烘烤。
[0735]
关于图案曝光、显影等，例如，也能够参考日本特开2006-23696号公报的0035～0051段中的记载。
[0736]
本发明的触摸面板的制造方法可以包括除已述工序以外的工序(所谓其他工序)。
[0737]
作为其他工序，可举出有时设置于通常的光刻工序中的公知的工序(例如，清洗工序)。
[0738]
实施例
[0739]
以下，举出实施例对本发明进行进一步详细的说明。以下的实施例中所示出的材
料、使用量、比例、处理内容、处理步骤等只要不脱离本发明的主旨，则能够适当进行变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。另外，只要没有特别指定，“份”、“％”为质量基准。
[0740]
另外，在以下实施例中，树脂的重均分子量是通过基于凝胶渗透色谱(gpc)的聚苯乙烯换算求出的重均分子量。并且，酸值使用了理论酸值。
[0741]
[实施例1]
[0742]
〔组合物的制备〕
[0743]
制备下述配方201即折射率调整层用涂布液作为实施例1的组合物。
[0744]
其中，实施例1的组合物使用金属氧化物粒子、具有酸基的粘合剂聚合物、氨水溶液、胺化合物、甲醇及蒸馏水的混合溶剂来制备，具有酸基的粘合剂聚合物用氨水溶液及胺化合物中和，由此制备了包含具有酸基的粘合剂聚合物的铵盐及胺化合物盐的水系树脂组合物即折射率调整层用涂布液。
[0745]-折射率调整层用涂布液：配方201(水系树脂组合物)-[0746]
·
金属氧化物粒子(zro2粒子，nanouse oz-s30m，固体成分30.5％，甲醇69.5％，折射率为2.2，平均粒径：约12nm，nissan chemical corporation制)：80.00份(固体成分量)
[0747]
·
具有酸基的粘合剂聚合物(丙烯酸树脂，zb-015m，fujifilm wako pure chemical corporation制，甲基丙烯酸/甲基丙烯酸烯丙酯的共聚树脂，重均分子量2.5万，组成比(摩尔比)＝20/80，固体成分5.00％，氨水溶液)：12.85份(固体成分量)
[0748]
·
具有酸基的粘合剂聚合物(丙烯酸树脂，arufon uc3920，toagosei co.,ltd.制)：0.47份
[0749]
·
烯属不饱和化合物(具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物，aronix to-2349，toagosei co.,ltd.制)：2.00份
[0750]
·
具有6元杂环结构的化合物(腺嘌呤，tokyo chemical industry co.,ltd.制)：2.00份
[0751]
·
表面活性剂(氟系表面活性剂，megaface f-444，dic corporation制)：0.68份
[0752]
·
胺化合物(n-1，n-甲基二乙醇胺，tokyo chemical industry co.,ltd.制)：2.00份
[0753]
·
溶剂：添加甲醇与蒸馏水的7:3(质量比)混合溶剂，以使折射率调整层用涂布液的固体成分浓度成为1.66质量％。
[0754]
〔转印膜的制作〕
[0755]
＜感光性树脂层的形成＞
[0756]
在厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜(临时支承体，16qs62，toray industries,inc.制)上，利用狭缝状喷嘴，将下述配方101即感光性树脂层用涂布液调整并涂布至干燥后的厚度成为5.5μm，利用具有75℃至120℃的温度梯度的热风对流式干燥机进行干燥并去除溶剂，由此形成了感光性树脂层。
[0757]-感光性树脂层用涂布液：配方101(有机溶剂系树脂组合物)-[0758]
·
烯属不饱和化合物
[0759]
a-nod-n(m-1，1,9-壬二醇二丙烯酸酯，shin-nakamura chemical co.,ltd.制)：
2.73份
[0760]
a-dcp(m-2，三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯，shin-nakamura chemical co.,ltd.制)：17.90份
[0761]
aronix to-2349(m-3，具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物，toagosei co.,ltd.制)：2.98份
[0762]
dpha(m-4，二季戊四醇六丙烯酸酯，toshin yushi co.,ltd.制)：7.99份
[0763]
·
粘合剂聚合物
[0764]
p-1(以下所示的树脂，源自苯乙烯的结构单元(st)/源自甲基丙烯酸二环戊酯的结构单元(dcpma)/源自甲基丙烯酸的结构单元(maa)/源自甲基丙烯酸的结构单元加成甲基丙烯酸环氧丙酯而成的结构单元(gma-maa)＝41.0/15.2/23.9/19.9(mol％)，mw＝17,000)：52.67份(固体成分量)
[0765]
·
光聚合引发剂
[0766]
1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9h-咔唑-3-基]乙酮-1-(o-乙酰肟)(d-1，irgacure oxe-02，basf公司制)：0.36份
[0767]
2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮(d-2irgacure 907，basf公司制)：0.73份
[0768]
·
热交联性化合物
[0769]
duranate wt32-b75p(e-3，封端异氰酸酯化合物，asahi kasei corporation制)：12.50份
[0770]
·
化合物a-1
[0771]
异烟酰胺：0.52份
[0772]
·
化合物a-2
[0773]
苯并咪唑：0.13份
[0774]
·
其他添加剂
[0775]
供氢化合物(ad-1，n-苯甘氨酸，junsei chemical co.,ltd.制)：0.10份
[0776]
苯乙烯/马来酸酐＝4:1(摩尔比)的共聚物(ad-2，sma ef-40，酸酐价1.94mmol/g，重均分子量10,500，cray valley公司制)：1.20份
[0777]
表面活性剂(ad-3，氟系表面活性剂，megaface f-551a，dic corporation制)：0.19份
[0778]
·
有机溶剂：添加1-甲氧基-2-丙基乙酸酯与甲基乙基酮的1:1(质量比)混合溶剂，以使感光性树脂层形成用涂布液的固体成分浓度成为25质量％。
[0779]
[化学式25]
[0780][0781]
＜折射率调整层的形成＞
[0782]
接着，在上述感光性树脂层上，利用狭缝状喷嘴，将实施例1的组合物(上述配方201即折射率调整层用涂布液)调整并涂布至干燥后的厚度成为70nm，利用具有40℃至95℃的温度梯度的热风对流式干燥机进行干燥并去除溶剂，由此形成了与感光性树脂层直接接触配置的折射率调整层。折射率调整层的折射率在25℃、波长550nm下为1.68。
[0783]
＜保护膜的形成＞
[0784]
对如上获得的在临时支承体上依次设置有感光性树脂层和与感光性树脂层直接接触配置的折射率调整层的层叠体，向其折射率调整层压接厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜(保护膜，16qs62，toray industries,inc.制)，由此制作了实施例1的转印膜。
[0785]
[实施例2～6、8～18及比较例1～3]
[0786]
将用作折射率调整层的组合物的配方变更为下述表1所示，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了转印膜。另外，在表1中省略了溶剂，但各实施例及比较例的组合物的溶剂及固体成分浓度与实施例1的组合物的溶剂及固体成分浓度相同。
[0787]
[实施例7]
[0788]
制备了下述表1中记载的实施例7的组合物。在实施例7的组合物中，作为光聚合引发剂，添加了oxe-01(商品名：irgacure(注册商标)oxe-01，basf公司制)0.58份。另外，在表1中省略了溶剂，但实施例7的组合物的溶剂及固体成分浓度与配方101即感光性树脂层用涂布液的有机溶剂及固体成分浓度相同。
[0789]
在厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜(临时支承体，16qs62，toray industries,inc.制)上，利用狭缝状喷嘴，将实施例7的组合物(折射率调整层用涂布液)调整并涂布至干燥后的厚度成为4.0μm，利用具有75℃至120℃的温度梯度的热风对流式干燥机进行干燥并去除溶剂，由此形成了单层的折射率调整层。
[0790]
对如上获得的在临时支承体上设置有直接接触的单层的折射率调整层的层叠体压接厚度30μm的聚丙烯膜(保护膜，alphan e-201f，oji f-tex co.,ltd.制)，由此制作了实施例7的转印膜。
[0791]
[实施例16]
[0792]-感光性树脂层用涂布液：配方102(有机溶剂系树脂组合物)-[0793]
·
烯属不饱和化合物
[0794]
a-nod-n(m-1，1,9-壬二醇二丙烯酸酯，shin-nakamura chemical co.,ltd.制)：2.79份
[0795]
a-dcp(m-2，三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯，shin-nakamura chemical co.,ltd.制)：9.13份
[0796]
aronix to-2349(m-3，具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物，toagosei co.,ltd.制)：3.04份
[0797]
dpha(m-4，二季戊四醇六丙烯酸酯，toshin yushi co.,ltd.制)：1.73份
·
粘合剂聚合物
[0798]
p-2(以下所示的树脂，源自苯乙烯的结构单元(st)/源自甲基丙烯酸的结构单元(maa)/源自甲基丙烯酸的结构单元加成甲基丙烯酸环氧丙酯而成的结构单元(gma-maa)/甲基丙烯酸甲酯的结构单元(mma)
[0799]
＝55.1/26.5/16.9/1.5(mol％)，mw＝17,000)：49.04份(固体成分量)
[0800]
p-2
[0801][0802]
·
光聚合引发剂
[0803]
1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9h-咔唑-3-基]乙酮-1-(o-乙酰肟)(d-1，irgacure oxe-02，basf公司制)：0.37份
[0804]
2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮(d-2irgacure 907，basf公司制)：0.74份
[0805]
·
热交联性化合物
[0806]
duranate wt32-b75p(封端异氰酸酯化合物，asahi kasei corporation制)：12.50份
[0807]
下述结构的化合物：3.00份
[0808][0809]
·
化合物a-1
[0810]
异烟酰胺：0.52份
[0811]
·
化合物a-2
[0812]
苯并咪唑：0.13份
[0813]
·
其他添加剂
[0814]
供氢化合物(ad-1，n-苯甘氨酸，junsei chemical co.,ltd.制)：0.10份
[0815]
苯乙烯/马来酸酐＝4:1(摩尔比)的共聚物(ad-2，sma ef-40，酸酐价1.94mmol/g，重均分子量10,500，cray valley公司制)：1.20份
[0816]
表面活性剂(ad-3，氟系表面活性剂，megaface f-551a，dic corporation制)：0.19份
[0817]
·
有机溶剂：添加1-甲氧基-2-丙基乙酸酯与甲基乙基酮的1:1(质量比)混合溶剂，以使感光性树脂层形成用涂布液的固体成分浓度成为25质量％。
[0818]
〔转印膜的制作〕
[0819]
＜感光性树脂层的形成＞
[0820]
在厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜(临时支承体，16qs62，toray industries,inc.制)上，利用狭缝状喷嘴，将下述配方102即感光性树脂层用涂布液调整并涂布至干燥后的厚度成为5.5μm，利用具有75℃至120℃的温度梯度的热风对流式干燥机进行干燥并去除溶剂，由此形成了感光性树脂层。
[0821]
＜折射率调整层的形成＞
[0822]
接着，在上述感光性树脂层上，利用狭缝状喷嘴，将实施例1的组合物(上述配方201即折射率调整层用涂布液)调整并涂布至干燥后的厚度成为70nm，利用具有40℃至95℃的温度梯度的热风对流式干燥机进行干燥并去除溶剂，由此形成了与感光性树脂层直接接触配置的折射率调整层。折射率调整层的折射率在25℃、波长550nm下为1.68。
[0823]
＜保护膜的形成＞
[0824]
对如上获得的在临时支承体上依次设置有感光性树脂层和与感光性树脂层直接接触配置的折射率调整层的层叠体，向其折射率调整层压接厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜(保护膜，16qs62，toray industries,inc.制)，由此制作了实施例16的转印膜。
[0825]
[实施例17]
[0826]
将感光性树脂层的干燥后的厚度调整成4.5μm，除此以外，以与实施例16相同的方式制作了转印膜。
[0827]
[实施例18]
[0828]
将感光性树脂层的干燥后的厚度调整成8.8μm，除此以外，以与实施例16相同的方式制作了转印膜。
[0829]
各实施例中使用的胺化合物的结构为如下。另外，在下述表1中记载了各胺化合物的氮原子的取代基所包含的连接基的连结链长(最大值)和各胺化合物的重均分子量。
[0830]
[化学式26]
[0831]
n-1：n-甲基二乙醇胺
[0832][0833]
n-2：3-(二乙基氨基)-1，2-丙二醇
[0834][0835]
n-3：2-[2-(二甲基氨基)乙氧基]乙醇
[0836][0837]
n-4：n，n，n’，n
’‑
四(2-羟丙基)乙二胺
[0838][0839]
各比较例中使用的胺化合物的结构为如下。
[0840]
[化学式27]
[0841]
n-5：异丙醇胺
[0842][0843]
n-6：二异丙胺
[0844][0845]
实施例11中使用的金属氧化物粒子及实施例12中使用的烯属不饱和化合物为如下。
[0846]
·
金属氧化物粒子(二氧化钛粒子，ts-020，含有氧化锡及二氧化硅，不挥发成分25.8％，tayca corporation制)
[0847]
·
烯属不饱和化合物(2-羟基乙基甲基丙烯酸酯，light ester ho-250(n)，kyoeisha chemical co.,ltd.制)
[0848]
[评价]
[0849]
使用所获得的转印膜，进行了如下评价。将所获得的结果记载于下述表1中。
[0850]
〔弯曲性的评价〕
[0851]
关于所获得的转印膜，用具有超高压汞灯的接近式曝光机(hitachi high-tech fine systems corporation制)，经由保护膜，以120mj/cm2曝光量(i射线)从保护膜的上方
进行了整面曝光。
[0852]
之后，剥离保护膜，在直径1mm的棒上以接触临时支承体的方式缠绕180
°
，并静放了5分钟。
[0853]
之后，用光学式显微镜观察折射率调整层的表面，确认了有无破裂。
[0854]
在下述评价基准中，弯曲性a最佳，d最差。优选为a或b，更优选为a。
[0855]
a：完全未发生破裂。
[0856]
b：发生了些许破裂。
[0857]
c：整个表面发生了破裂。
[0858]
d：整个表面发生了破裂，有些部分的树脂层被剥落。
[0859]
〔防锈性的评价〕
[0860]
对所获得的感光性转印材料剥离保护膜之后，将折射率调整层层压于铜板上。层压的条件设为：层压辊温度100℃、线压3n/cm、传送速度4m/分钟。
[0861]
之后，用具有超高压汞灯的接近式曝光机(hitachi high-tech fine systems corporation制)，将曝光掩模(1mm宽度的线与空间图案：5条线)面与临时支承体之间的距离设定为125μm，经由临时支承体，以120mj/cm2曝光量(i射线)，对所获得的曝光前的层叠体进行了图案曝光。剥离临时支承体后，将图案曝光后的层叠体浸渍于33℃的碳酸钠1％水溶液中，静放45秒并进行了显影处理。通过从超高压清洗喷嘴向显影处理后的铜基板喷射超纯水来去除了残渣。接着，吹送空气去除铜基板上的水分，进行140℃、30分钟的后烘烤处理，作为防锈性的评价样品。
[0862]
之后，将上述防锈性的评价样品在85℃、相对湿度85％的环境下静放了24小时。
[0863]
目视确认了该图案的空间部分的铜的变色。
[0864]
在下述评价基准中，防锈性a最佳，d最差。优选为a、b及c中的任一个，更优选为a或b，尤其优选为a。
[0865]
a：与处理前的铜颜色相同，完全没有发生变色。
[0866]
b：些许变成红色。
[0867]
c：变成红色。
[0868]
d：变成蓝色。
[0869]
[表1-1]
[0870][0871]
[表1-2]
corporation制)，使曝光掩模(具有外涂层形成用图案的石英曝光掩模)面与临时支承体密合，经由临时支承体，以100mj/cm2曝光量(i射线)进行了图案曝光。
[0883]
剥离临时支承体后，将图案曝光后的层叠体浸渍于33℃的碳酸钠1％水溶液中，静放45秒钟并实施了显影处理。
[0884]
之后，通过从超高压清洗喷嘴向显影处理后的透明膜基板喷射超纯水来去除了残渣。接着，吹送空气去除透明膜基板上的水分，进行145℃、30分钟的后烘烤处理，形成了在透明膜基板上依次层叠有第二折射率调整层及ito透明电极图案、铜的迂回布线、固化膜(折射率调整层的固化物)及感光性树脂层的固化物的透明层叠体。
[0885]
〔显示装置的制作〕
[0886]
用所制作的透明层叠体，通过公知的方法制造了静电容量型触摸面板部件(输入装置)。
[0887]
将所制造的触摸面板部件与通过日本特开2009-047936号公报的0097～0119段中记载的方法制造的液晶显示元件贴合，由此制造了具备作为输入装置的触摸面板部件、作为显示装置的液晶显示装置的触摸面板。
[0888]
[实施例107]
[0889]
使用实施例7的转印膜来代替实施例1的转印膜，除此以外，以与实施例101相同的方式形成了在透明膜基板上依次层叠有第二折射率调整层及ito透明电极图案、铜的迂回布线、固化膜(单层的折射率调整层的固化物)的透明层叠体。
[0890]
[触摸面板的评价]
[0891]
确认到各实施例的触摸面板的显示特性优异，正常工作。
[0892]
符号说明
[0893]
10-转印膜，12-临时支承体，16-保护膜，18-触摸面板用电极保护膜，18a-感光性树脂层，20-第一折射率调整层，20a-折射率调整层，30-触摸面板，32-基板，34-透明电极图案，36-第二折射率调整层，40-存在透明电极图案的第1区域，42-不存在透明电极图案的第2区域，56-迂回布线，70-第1透明电极图案，72-第2透明电极图案，74-图像显示区域，75-图像非显示区域，90-触摸面板。