一种铜带清洗结构的制作方法

摘要: 本技术涉及铜带清洗,具体为一种铜带清洗结构。背景技术:1、目前,用户对铜板带材表面洁净度的要求越来越高,如某些框架材料表面残油含量甚至要求达到5mg/m2,因此...
一种铜带清洗结构的制作方法

本技术涉及铜带清洗,具体为一种铜带清洗结构。

背景技术:

1、目前,用户对铜板带材表面洁净度的要求越来越高,如某些框架材料表面残油含量甚至要求达到 5mg/m2,因此,对于表面洁净度要求较高的产品,在加工过程中必须进行清洗处理,除去残留油分、金属氧化物及其他污染物;而铜带在生产中,需要经过粗品清洗和成品清洗;

2、目前的清洗方式为,通过多个导向辊让铜带转向进入到清洗箱内,然后再从清洗箱内走出,这种清洗方式让铜带需要经过多次90°转向,会导致铜带的表面有一定的受损、氧化。

3、因此,为了改正上述的缺陷,我们提出了一种铜带清洗结构。

技术实现思路

1、本实用新型解决的技术问题提出一种铜带清洗结构。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种铜带清洗结构,包括清洗液箱,清洗液箱上安装有进液阀和排液阀箱门,所述清洗液箱上方设有浸泡箱,浸泡箱通过支撑架支撑在清洗液箱上,浸泡箱的两侧中部设有开口,铜带通过开口贯穿浸泡箱,浸泡箱、清洗液箱均安装有连接阀,浸泡箱上的连接阀对接有软管,清洗液箱上的连接阀对接有硬管,软管与硬管对接,清洗液箱内安装有泵体,泵体与清洗液箱上的连接阀对接,所述浸泡箱长度、宽度均小于清洗液箱长度、宽度,所述开口内镶嵌有密封条。

3、进一步的,所述浸泡箱包括上半箱和下半箱,上半箱叠插在下半箱上,开口开设在上半箱的两侧,下半箱的侧壁上安装有定位螺丝,定位螺丝支撑上半箱。

4、进一步的,所述上半箱和下半箱叠合部分均设有密封垫。

5、进一步的,所述浸泡箱的两侧设有导流板,导流板处于开口的下方。

6、进一步的,所述清洗液箱的内部两侧安装有导流组件,导流组件处于开口的下方,导流组件包括竖框,竖框内安装有附框,附框内嵌入有过滤棉。

7、进一步的,所述竖框的内部两端开设有内凹槽,所述附框的两端具有凸条,附框置于在竖框内时,凸条活动嵌入在内凹槽内,所述竖框与清洗液箱的内壁固定。

8、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型中的清洗结构可以让铜带在清洗箱内的行走路径为直线型,无需经过多次转向,防止铜带的表面受损和氧化,且可以让清洗箱内的清洗液实时循环起来。

1.一种铜带清洗结构,包括清洗液箱(1),清洗液箱(1)上安装有进液阀(8)和排液阀箱门(13),其特征在于:所述清洗液箱(1)上方设有浸泡箱(3),浸泡箱(3)通过支撑架(2)支撑在清洗液箱(1)上,浸泡箱(3)的两侧中部设有开口(4),铜带通过开口(4)贯穿浸泡箱(3),浸泡箱(3)、清洗液箱(1)均安装有连接阀(5),浸泡箱(3)上的连接阀(5)对接有软管(6),清洗液箱(1)上的连接阀(5)对接有硬管(7),软管(6)与硬管(7)对接,清洗液箱(1)内安装有泵体,泵体与清洗液箱(1)上的连接阀(5)对接,所述浸泡箱(3)长度、宽度均小于清洗液箱(1)长度、宽度,所述开口(4)内镶嵌有密封条。

2.根据权利要求1所述的铜带清洗结构,其特征在于:所述浸泡箱(3)包括上半箱(31)和下半箱(32),上半箱(31)叠插在下半箱(32)上,开口(4)开设在上半箱(31)的两侧,下半箱(32)的侧壁上安装有定位螺丝,定位螺丝支撑上半箱(31)。

3.根据权利要求2所述的铜带清洗结构,其特征在于:所述上半箱(31)和下半箱(32)叠合部分均设有密封垫。

4.根据权利要求1所述的铜带清洗结构,其特征在于:所述浸泡箱(3)的两侧设有导流板(9),导流板(9)处于开口(4)的下方。

5.根据权利要求1所述的铜带清洗结构,其特征在于:所述清洗液箱(1)的内部两侧安装有导流组件,导流组件处于开口(4)的下方,导流组件包括竖框(10),竖框(10)内安装有附框(11),附框(11)内嵌入有过滤棉(12)。

6.根据权利要求5所述的铜带清洗结构,其特征在于:所述竖框(10)的内部两端开设有内凹槽,所述附框(11)的两端具有凸条,附框(11)置于在竖框(10)内时,凸条活动嵌入在内凹槽内,所述竖框(10)与清洗液箱(1)的内壁固定。