用于处理集成电路版图的方法、电子设备和存储介质与流程

摘要: 本公开主要涉及集成电路领域,尤其涉及一种用于处理包括多个图形的集成电路版图的方法、电子设备和计算机可读存储介质。背景技术:1、在电子设计自动化(electron...
用于处理集成电路版图的方法、电子设备和存储介质与流程

本公开主要涉及集成电路领域,尤其涉及一种用于处理包括多个图形的集成电路版图的方法、电子设备和计算机可读存储介质。

背景技术:

1、在电子设计自动化(electronic design automation,eda)领域中,集成电路版图用于描述芯片中晶体管、电容、电阻等器件以及多层互连结构的几何布局信息。随着集成电路集成度不断提高,集成电路版图中包含的几何图形数量呈指数级增长,使得版图数据规模不断扩大,并给后续的版图验证、物理设计优化以及相关数据处理过程带来了较大的计算和存储压力。

2、因此,为提高版图处理效率、缩短设计周期,会对版图中的图形数据进行适当的简化处理。然而,如何在版图简化过程中,在降低数据处理复杂度的同时保证版图信息的完整性,成为亟待解决的技术问题。

技术实现思路

1、本公开提供了一种用于处理包括多个图形的集成电路版图的方法、电子设备和计算机可读存储介质。

2、根据本公开的第一方面,提供了一种用于处理包括多个图形的集成电路版图的方法。该方法包括基于集成电路版图确定第一分组区域。第一分组区域包括多个第一分组单元区域。该多个第一分组单元区域包括该多个图形的相应几何顶点作为几何中心而覆盖的多个矩形区域。该方法还包括将集成电路版图中未被第一分组区域覆盖的区域确定为遗漏区域。该方法还包括基于遗漏区域生成多个分组中心点。该方法还包括使用该多个分组中心点来确定第二分组区域。第二分组区域与第一分组区域的组合覆盖集成电路版图的多个图形。该方法通过针对未被第一分组区域覆盖的遗漏区域生成多个分组中心点,并基于该多个分组中心点生成第二分组区域,从而对遗漏区域进行有效补充覆盖,避免仅采用第一分组区域对集成电路版图进行区域划分时产生的图形遗漏问题。在保证集成电路版图中的多个图形被完整覆盖的基础上,实现了分组数量、分组规律性以及分组处理效率之间的优化平衡。

3、在第一方面的一些实现方式中,在基于遗漏区域生成多个分组中心点的过程中,基于遗漏区域生成多个正方形,以及将该多个正方形分别对应的多个几何中心分别确定为该多个分组中心点。

4、在第一方面的一些实现方式中,第一分组单元区域包括沿第一方向延伸的第一边和沿第二方向延伸的第二边。第一方向与第二方向在集成电路版图所在的平面内相互垂直。该多个图形包括第一图形。第一图形包括沿第一方向延伸的第三边和沿第二方向延伸的第四边。该多个正方形包括第一正方形和第二正方形中的至少一者。在基于遗漏区域生成多个正方形的过程中,如果第三边的长度大于第一边的长度,则在第一图形内生成第一正方形,和/或如果第四边的长度大于第二边的长度,则在第一图形内生成第二正方形。

5、在第一方面的一些实现方式中,第二分组区域包括第一补充分组区域和第二补充分组区域。该多个正方形还包括第三正方形。在基于遗漏区域生成多个正方形的过程中,基于第一正方形和第二正方形中的至少一者生成第一补充分组区域。第一补充分组区域包括多个第二分组单元区域。第一正方形或第二正方形与相应的第二分组单元区域具有相同的几何中心。第二分组单元区域与第一分组单元区域具有相同的尺寸。在基于遗漏区域生成多个正方形的过程中,将遗漏区域中的未被第一补充分组区域覆盖的区域确定为中间遗漏区域,以及基于中间遗漏区域生成第三正方形。

6、在第一方面的一些实现方式中,在基于中间遗漏区域生成第三正方形的过程中,基于集成电路版图生成版图边界矩形框。版图边界矩形框为覆盖集成电路版图的最小矩形框。在基于中间遗漏区域生成第三正方形的过程中,使用多条切割线将版图边界矩形框分割为多个分割区域,以及基于该多个分割区域中的至少一个分割区域来确定第三正方形。

7、在第一方面的一些实现方式中,在使用多条切割线将版图边界矩形框分割为多个分割区域的过程中,从版图边界矩形框的一个顶点开始,沿第一方向以第一间距生成贯穿版图边界矩形框的多条第一切割线并且沿第二方向以第二间距生成贯穿版图边界矩形框的多条第二切割线,以将版图边界矩形框分割为多个分割区域。第一切割线和第二切割线中的任一者的线宽等于该多个正方形中的正方形的边长。第一间距等于第一边的长度。第二间距等于第二边的长度。第一切割线沿第二方向延伸,并且第二切割线沿第一方向延伸。

8、在第一方面的一些实现方式中,在基于该多个分割区域中的至少一个分割区域来确定第三正方形的过程中,确定版图边界矩形框中的覆盖中间遗漏区域的至少一部分的分割区域的中心位置,以及将该中心位置作为几何中心生成第三正方形。

9、在第一方面的一些实现方式中,如果第三边的长度大于第一边的长度,则在第一图形内生成第一正方形的过程包括基于集成电路版图生成版图边界矩形框。版图边界矩形框为覆盖集成电路版图的最小矩形框。如果第三边的长度大于第一边的长度,则在第一图形内生成第一正方形的过程还包括使用多条切割线对版图边界矩形框进行分割,以及基于该多条切割线来确定第一正方形。

10、在第一方面的一些实现方式中,在使用多条切割线对版图边界矩形框进行分割的过程中,从版图边界矩形框的一个顶点开始,沿第一方向以第一间距生成贯穿版图边界矩形框的多条第一切割线,以对版图边界矩形框进行分割。第一切割线的线宽等于该多个正方形中的正方形的边长。第一间距等于第一边的长度。第一切割线沿第二方向延伸。

11、在第一方面的一些实现方式中,在基于该多条切割线来确定第一正方形的过程中,基于第三边的长度大于第一边的长度,在第一图形内生成宽度为预定值的第一矩形。该预定值等于该多个正方形中的正方形的边长。在基于该多条切割线来确定第一正方形的过程中,基于第一矩形与多条第一切割线的多个交集区域来确定第一正方形。

12、在第一方面的一些实现方式中,在基于第一矩形与多条第一切割线的多个交集区域来确定第一正方形的过程中,基于该多个交集区域中的被遗漏区域覆盖的交集区域来确定第一正方形。

13、在第一方面的一些实现方式中,如果第四边的长度大于第二边的长度,则在第一图形内生成第二正方形的过程包括基于集成电路版图生成版图边界矩形框。版图边界矩形框为覆盖集成电路版图的最小矩形框。如果第四边的长度大于第二边的长度,则在第一图形内生成第二正方形的过程还包括使用多条切割线对版图边界矩形框进行分割,以及基于该多条切割线来确定第二正方形。

14、在第一方面的一些实现方式中,在使用多条切割线对版图边界矩形框进行分割的过程中,从版图边界矩形框的一个顶点开始,沿第二方向以第二间距生成贯穿版图边界矩形框的多条第二切割线,以对版图边界矩形框进行分割。第二切割线的线宽等于该多个正方形中的正方形的边长。第二间距等于第二边的长度。第二切割线沿第一方向延伸。

15、在第一方面的一些实现方式中,在基于该多条切割线来确定第二正方形的过程中,基于第四边的长度大于第二边的长度,在第一图形内生成宽度为预定值的第二矩形。该预定值等于该多个正方形中的正方形的边长。在基于该多条切割线来确定第二正方形的过程中,基于第二矩形与第二切割线的多个交集区域来确定第二正方形。

16、在第一方面的一些实现方式中,在基于第二矩形与第二切割线的多个交集区域来确定第二正方形的过程中,基于该多个交集区域中的被遗漏区域覆盖的交集区域来确定第二正方形。

17、根据本公开的第二方面,提供了一种电子设备。该电子设备包括存储装置和至少一个处理器。存储装置耦合至该至少一个处理器并且具有存储于其上的指令,指令在由该至少一个处理器执行时使电子设备执行根据本公开的第一方面所述的方法。

18、根据本公开的第三方面,提供了一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序。该程序被处理器执行时实现根据本公开的第一方面所述的方法。

19、可以理解地,关于上述提供的第二方面的电子设备和第三方面的计算机可读存储介质具有与第一方面的方法相同的有益效果。因此,关于第一方面的解释或者说明同样适用于第二方面和第三方面。