1.本实用新型涉及陶瓷球清洗领域，更具体地说，涉及一种氮化硅陶瓷球清洗装置。
背景技术：
2.在陶瓷制备过程中，陶瓷原料混合的主要工艺是球磨，陶瓷球作为磨介球有很高的使用频率，陶瓷球的用量很大，对清洁度的要求也比较高。
3.但是，多数的氮化硅陶瓷球清洗装置，存在一定的缺陷，清洗效果不佳，且浪费清洗剂，不能有效的对球体进行限位，避免球体的弹出。
技术实现要素：
4.针对现有技术中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种氮化硅陶瓷球清洗装置，它通过半圆槽的设置，可对球体进行放置，并在漏水孔的作用下，保证清洁剂的回流，且压盘的设置，可对球体进行限位，并在弹性环、凸起的作用下，使得压盘处于稳定，避免振荡清洗时，球体的弹出，通过电磁铁接通脉冲电流，使得电磁铁对铁环进行间断性吸附，并配合弹簧的形变作用，可带动支撑板进行上下移动，从而对球体进行振荡清洗。
5.为解决上述问题，本实用新型采用如下的技术方案。
6.一种氮化硅陶瓷球清洗装置，包括立柱和压盘，所述立柱的表面滑动安装有支撑板，所述支撑板的表面对称固定安装有铁环，所述铁环与立柱之间滑动连接，所述立柱的表面固定安装有电磁铁，所述立柱之间固定安装有清洗槽，所述清洗槽的内壁固定安装有限位块，且限位块为橡胶材质，所述支撑板的表面固定安装有连接柱，所述连接柱的表面固定安装有支撑盘，所述支撑盘的表面等距半圆槽，所述半圆槽的内壁设有漏水孔，所述半圆槽的内壁放置有球体，所述压盘的内壁固定安装有弹性环，它通过半圆槽的设置，可对球体进行放置，并在漏水孔的作用下，保证清洁剂的回流，且压盘的设置，可对球体进行限位，并在弹性环、凸起的作用下，使得压盘处于稳定，避免振荡清洗时，球体的弹出，通过电磁铁接通脉冲电流，使得电磁铁对铁环进行间断性吸附，并配合弹簧的形变作用，可带动支撑板进行上下移动，从而对球体进行振荡清洗。
7.进一步的，所述清洗槽与支撑板之间固定安装有弹簧，且弹簧的形变耐久度足够，便于在弹簧的作用下，可拉动支撑板保持稳定。
8.进一步的，所述连接柱与限位块之间滑动连接，所述连接柱的端面与限位块的表面全面接触，便于在限位块的作用下，可对连接柱进行限位。
9.进一步的，所述压盘与球体之间滑动连接，且压盘整体呈梯形，便于在压盘的作用下，可对球体进行压紧限位，并利于清洁剂的回流。
10.进一步的，所述弹性环的内壁等距固定安装有凸起，所述凸起与连接柱之间滑动连接，便于在凸起的作用下，提高压盘的安装稳定。
11.相比于现有技术，本实用新型的优点在于：
12.(1)本方案通过半圆槽的设置，可对球体进行放置，并在漏水孔的作用下，保证清
洁剂的回流，且压盘的设置，可对球体进行限位，并在弹性环、凸起的作用下，使得压盘处于稳定，避免振荡清洗时，球体的弹出，通过电磁铁接通脉冲电流，使得电磁铁对铁环进行间断性吸附，并配合弹簧的形变作用，可带动支撑板进行上下移动，从而对球体进行振荡清洗。
13.(2)清洗槽与支撑板之间固定安装有弹簧，且弹簧的形变耐久度足够，便于在弹簧的作用下，可拉动支撑板保持稳定。
14.(3)连接柱与限位块之间滑动连接，连接柱的端面与限位块的表面全面接触，便于在限位块的作用下，可对连接柱进行限位。
15.(4)压盘与球体之间滑动连接，且压盘整体呈梯形，便于在压盘的作用下，可对球体进行压紧限位，并利于清洁剂的回流。
16.(5)弹性环的内壁等距固定安装有凸起，凸起与连接柱之间滑动连接，便于在凸起的作用下，提高压盘的安装稳定。
附图说明
17.图1为本实用新型的整体结构示意图；
18.图2为本实用新型图1处a的放大图；
19.图3为本实用新型的支撑盘俯视结构剖面图；
20.图4为本实用新型的压盘俯视结构示意图。
21.图中标号说明：
22.1立柱、2压盘、3支撑板、4铁环、5电磁铁、6清洗槽、7弹簧、8限位块、9连接柱、10支撑盘、11半圆槽、12漏水孔、13球体、14弹性环、15凸起。
具体实施方式
23.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述；显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
24.请参阅图1
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4，一种氮化硅陶瓷球清洗装置，包括立柱1和压盘2，请参阅图1
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图4，立柱1的表面滑动安装有支撑板3，支撑板3的表面对称固定安装有铁环4，铁环4与立柱1之间滑动连接，立柱1的表面固定安装有电磁铁5，立柱1之间固定安装有清洗槽6，清洗槽6与支撑板3之间固定安装有弹簧7，且弹簧7的形变耐久度足够，便于在弹簧7的作用下，可拉动支撑板3保持稳定，清洗槽6的内壁固定安装有限位块8，且限位块8为橡胶材质，支撑板3的表面固定安装有连接柱9，连接柱9与限位块8之间滑动连接，且连接柱9的端面与限位块8的表面全面接触，便于在限位块8的作用下，可对连接柱9进行限位，连接柱9的表面固定安装有支撑盘10，支撑盘10的表面等距半圆槽11，半圆槽11的内壁设有漏水孔12，半圆槽11的内壁放置有球体13，压盘2与球体13之间滑动连接，且压盘2整体呈梯形，便于在压盘2的作用下，可对球体13进行压紧限位，并利于清洁剂的回流，压盘2的内壁固定安装有弹性环14，弹性环14的内壁等距固定安装有凸起15，凸起15与连接柱9之间滑动连接，便于在凸起15的作用下，提高压盘2的安装稳定。
25.该氮化硅陶瓷球清洗装置，可将球体13放置于半圆槽11之内，并推动压盘2进行下移，使得压盘2与球体13之间紧密接触，保证球体13的放置稳定，并在弹性环14、凸起15的配合作用下，使得压盘2处于稳定状态，通过电磁铁5接通脉冲电流，使得电磁铁5间断性产生磁力，从而对铁环4进行间断性吸附，从而拉动支撑板3沿立柱1表面滑动，并配合弹簧7的形变作用，使得连接柱9带动支撑盘10进行上下振荡，在限位块8的作用下，对连接柱9进行限位支撑，通过清洗槽6内倾倒的清洗剂，可对球体13进行全面清洗，并在漏水孔12的作用下，且压盘2呈梯形设计，便于清洗剂的回流，避免清洗剂的四溅问题。
26.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式；但本实用新型的保护范围并不局限于此。任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其改进构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。
技术特征：
1.一种氮化硅陶瓷球清洗装置，包括立柱(1)和压盘(2)，其特征在于：所述立柱(1)的表面滑动安装有支撑板(3)，所述支撑板(3)的表面对称固定安装有铁环(4)，所述铁环(4)与立柱(1)之间滑动连接，所述立柱(1)的表面固定安装有电磁铁(5)，所述立柱(1)之间固定安装有清洗槽(6)，所述清洗槽(6)的内壁固定安装有限位块(8)，且限位块(8)为橡胶材质，所述支撑板(3)的表面固定安装有连接柱(9)，所述连接柱(9)的表面固定安装有支撑盘(10)，所述支撑盘(10)的表面等距半圆槽(11)，所述半圆槽(11)的内壁设有漏水孔(12)，所述半圆槽(11)的内壁放置有球体(13)，所述压盘(2)的内壁固定安装有弹性环(14)。2.根据权利要求1所述的一种氮化硅陶瓷球清洗装置，其特征在于：所述清洗槽(6)与支撑板(3)之间固定安装有弹簧(7)，且弹簧(7)的形变耐久度足够。3.根据权利要求1所述的一种氮化硅陶瓷球清洗装置，其特征在于：所述连接柱(9)与限位块(8)之间滑动连接，且连接柱(9)的端面与限位块(8)的表面全面接触。4.根据权利要求1所述的一种氮化硅陶瓷球清洗装置，其特征在于：所述压盘(2)与球体(13)之间滑动连接，且压盘(2)整体呈梯形。5.根据权利要求1所述的一种氮化硅陶瓷球清洗装置，其特征在于：所述弹性环(14)的内壁等距固定安装有凸起(15)，所述凸起(15)与连接柱(9)之间滑动连接。
技术总结
本实用新型公开了一种氮化硅陶瓷球清洗装置，属于陶瓷球清洗领域，包括立柱和压盘，立柱的表面滑动安装有支撑板，支撑板的表面对称固定安装有铁环，铁环与立柱之间滑动连接，立柱的表面固定安装有电磁铁，立柱之间固定安装有清洗槽，清洗槽的内壁固定安装有限位块，且限位块为橡胶材质，它通过半圆槽的设置，可对球体进行放置，并在漏水孔的作用下，保证清洁剂的回流，且压盘的设置，可对球体进行限位，并在弹性环、凸起的作用下，使得压盘处于稳定，避免振荡清洗时，球体的弹出，通过电磁铁接通脉冲电流，使得电磁铁对铁环进行间断性吸附，并配合弹簧的形变作用，可带动支撑板进行上下移动，从而对球体进行振荡清洗。从而对球体进行振荡清洗。从而对球体进行振荡清洗。
技术研发人员：王鑫利
受保护的技术使用者：山东鑫永恒新材料有限公司
技术研发日：2021.04.19
技术公布日：2021/11/15
再多了解一些
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