掩模、掩模的制造方法和利用掩模的显示装置的制造方法与流程

1.本发明涉及一种掩模、掩模的制造方法以及利用掩模的显示装置的制造方法。


背景技术：

2.显示装置可以包括多个像素，所述像素中的每一个可以包括阳极电极、布置于所述阳极电极上的发光层以及布置于所述发光层上的阴极电极。在此情况下，所述阴极电极可以实现为整板电极。例如，所述阴极电极可以在所述发光层上形成为一体。通常，所述显示装置可以具有长方体形状。为了不仅在所述显示装置的前面部和边角部显示影像，在弯曲的拐角部也显示影像，有必要在所述拐角部也形成所述像素。据此，执行在所述前面部和所述边角部形成所述阴极电极的第一工艺以及紧跟于所述第一工艺并在所述拐角部形成所述阴极电极的第二工序。然而，随着作为共同层的所述阴极电极分为所述第一工艺以及所述第二工艺而形成，分别需要所述第一工艺以及所述第二工艺的掩模，并且工艺的生产性降低。


技术实现要素：

3.本发明的一目的是提供一种能够提升工艺的生产性的掩模。
4.本发明的另一目的是提供一种制造所述掩模的方法。
5.本发明的又一目的是提供一种利用所述掩模制造显示装置的方法。
6.然而，本发明的目的不限于上述的目的，并且可以在不脱离本发明的思想和范围的情况下进行各种扩展。
7.为实现上述的本发明的一目的，根据本发明的一实施例的一种掩模可以包括：第一开口部；第一遮蔽部，围绕所述第一开口部；第二遮蔽部，布置于所述第一开口部与所述第一遮蔽部之间，并且包括从所述第一开口部朝向所述第一遮蔽部延伸的多个狭缝；以及第三遮蔽部，布置于所述第一开口部与所述第二遮蔽部之间，并且与所述狭缝连接。
8.根据一实施例，所述第三遮蔽部的厚度可以小于所述第二遮蔽部的厚度。
9.根据一实施例，所述第三遮蔽部的上表面可以与所述第二遮蔽部的上表面位于同一高度。
10.根据一实施例，所述第三遮蔽部的厚度可以小于所述第三遮蔽部的宽度。
11.根据一实施例，所述第三遮蔽部可以在平面上是圆弧的形状。
12.根据一实施例，所述多个狭缝中的每一个可以在平面上是梯形形状。
13.根据一实施例，所述多个狭缝可以彼此相隔。
14.根据一实施例，所述第一开口部可以具有拐角为圆弧的矩形形状，所述第二遮蔽部可以布置于所述第一开口部的所述拐角与所述第一遮蔽部之间。
15.根据一实施例，还可以包括：第二开口部，布置于所述第一开口部的侧面与所述第一遮蔽部之间。
16.为实现上述的本发明的另一目的，根据本发明的一实施例的一种制造掩模的方法
可以包括如下步骤：准备定义有第一开口区域、围绕所述第一开口区域的第一遮蔽区域、布置于所述第一开口区域与所述第一遮蔽区域之间的第二遮蔽区域以及布置于所述第一开口区域与所述第二遮蔽区域之间的第三遮蔽区域的基层；去除所述基层的与所述第三遮蔽区域重叠的区域的一部分，来形成第三遮蔽部；去除所述基层的与所述第一开口区域重叠的区域，来形成第一开口部；以及在所述基层的与所述第二遮蔽区域重叠的区域形成包括从所述第一开口区域朝向所述第一遮蔽区域延伸的多个狭缝的第二遮蔽部。
17.根据一实施例，形成所述第三遮蔽部的步骤中，可以去除所述基层的与所述第三遮蔽区域重叠的所述区域的下部的一部分。
18.根据一实施例，所述第三遮蔽部的上表面可以与所述第二遮蔽部的上表面位于同一高度。
19.根据一实施例，所述第三遮蔽部的厚度可以小于所述第三遮蔽部的宽度。
20.根据一实施例，所述第三遮蔽部可以在平面上是圆弧的形状。
21.根据一实施例，所述多个狭缝中的每一个可以在平面上是梯形形状。
22.根据一实施例，所述多个狭缝可以彼此相隔。
23.根据一实施例，所述第一开口部可以具有拐角为圆弧的矩形形状，所述第二遮蔽部可以布置于所述第一开口部的所述拐角与所述第一遮蔽区域对应的第一遮蔽部之间。
24.根据一实施例，还可以包括如下步骤：在所述第一开口部的侧面与所述第一遮蔽部之间形成第二开口部。
25.为实现上述的本发明的另一目的，根据本发明的一实施例的一种利用掩模制造显示装置的方法可以包括如下步骤：将沉积对象基板排列为与沉积源对向并将掩模置于其之间；从所述沉积源发射沉积物质；以及在所述沉积对象基板形成沉积物质图案，其中，所述掩模可以包括：第一开口部；第一遮蔽部，围绕所述第一开口部；第二遮蔽部，布置于所述第一开口部与所述第一遮蔽部之间，并且包括从所述第一开口部朝向所述第一遮蔽部延伸的多个狭缝；以及第三遮蔽部，布置于所述第一开口部与所述第二遮蔽部之间，并且与所述狭缝连接。
26.根据一实施例，所述掩模还可以包括：第二开口部，布置于所述第一开口部的侧面与所述第一遮蔽部之间，其中，所述沉积对象基板可以包括：平面部，与所述第一开口部对应而排列；第一弯曲部，与所述第二开口部对应而排列；以及第二弯曲部，与所述第二遮蔽部对应而排列，其中，所述沉积物质图案可以在所述平面部、所述第一弯曲部以及所述第二弯曲部上同时形成。
27.根据一实施例，所述沉积物质图案的与所述第三遮蔽部重叠的区域的厚度可以小于所述沉积物质图案的与所述第一开口部重叠的区域的厚度。
28.根据本发明的实施例的掩模可以包括：第一开口部；第二遮蔽部，包括多个狭缝；第三遮蔽部，布置于所述第一开口部和所述第二遮蔽部之间。所述第三遮蔽部可以与所述狭缝连接，从而所述第三遮蔽部可以维持所述狭缝的形状。并且，所述第三遮蔽部可以具有比所述第一遮蔽部以及第二遮蔽部薄的厚度，从而可以同时形成布置于沉积对象基板上的沉积物质图案。
29.然而，本发明的效果不限于上述的效果，并且可以在不脱离本发明的思想和范围的情况下进行各种扩展。
附图说明
30.图1是用于说明根据本发明的一实施例的利用掩模而在沉积对象基板形成沉积物质图案的一示例的图。
31.图2是用于说明根据本发明的一实施例的掩模的平面图。
32.图3是放大图2的a区域的放大图。
33.图4是沿图2的i
‑
i'线截取的剖视图。
34.图5至图8是用于说明制造图2的掩模的方法的平面图以及剖视图。
35.图9是示出利用图2的掩模而制造的显示装置处于弯曲的状态的立体图。
36.图10是示出图9的显示装置处于弯曲的状态的剖视图。
37.图11是示出包括于图9的显示装置的沉积对象基板处于展开的状态的平面图。
38.图12是放大图11的b区域的放大图。
39.图13以及图14是用于说明利用掩模而在沉积对象基板上形成沉积物质图案的方法的剖视图。
40.附图标记说明：
41.100：掩模
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200：沉积对象基板
42.300：沉积源
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110：第一开口部
43.120：第二开口部
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130：第一遮蔽部
44.140：第二遮蔽部
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150：第三遮蔽部
45.140a：狭缝
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100'：基层
46.dm：沉积物质
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dmp：沉积物质图案
47.1300a：显示块
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1300b：开口
48.1000：显示装置
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10：前面部
49.20：边角部
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30：拐角部
具体实施方式
50.以下，将参照附图更加详细地说明本发明的实施例。针对附图上的相同的构成要素将使用相同的附图标记，并且将省略针对相同的构成要素的重复说明。
51.图1是用于说明根据本发明的一实施例的利用掩模而在沉积对象基板形成沉积物质图案的一例的图。
52.参照图1，沉积物质图案dmp可以形成于沉积对象基板200的一面。具体地，在腔体cb内部可以布置发射沉积物质dm的沉积源300以及选择性地使所述沉积物质dm通过的掩模100，并且所述沉积对象基板200可以排列为与所述沉积源300对向且将掩模100置于其之间。
53.所述掩模100可以包括至少一个开口部以及至少一个遮蔽部。例如，所述掩模100可以加工基层而形成，所述基层被贯通的部分可以被定义为所述开口部，残存有所述基层的部分可以被定义为遮蔽部。
54.一实施例中，所述沉积对象基板200可以是包括于显示装置(例如，图9以及图10的显示装置1000)的构成。所述沉积对象基板200可以借由移送部而移送至所述腔体cb的内部，并且可以通过形成于所述沉积对象基板200的对准键排列。
55.所述沉积源300可以将所述沉积物质dm气化。例如，所述沉积源300可以是用于形成阴极电极用金属膜的沉积源。在此情况下，所述沉积物质dm可以是用于形成阴极电极用金属膜的金属、合金等。例如，所述沉积物质dm可以包括银(ag)、含有银的合金、钼(mo)、含有钼的合金、铝(al)、含有铝的合金、氮化铝(aln)、钨(w)、氮化钨(wn)、铜(cu)、镍(ni)、铬(cr)、氮化铬(crn)、钛(ti)、钽(ta)、铂金(pt)、钪(sc)、氧化铟锡(ito)、氧化铟锌(izo)等。所述沉积源300可以利用加热器加热所述沉积物质dm，加热的所述沉积物质dm可以气化，气化的所述沉积物质dm可以凝聚于所述沉积对象基板200而形成金属膜。
56.图2是用于说明根据本发明的一实施例的掩模的平面图，图3是放大图2的a区域的放大图，图4是沿图2的i
‑
i'线截取的剖视图。
57.参照图2以及图3，所述掩模100可以包括第一开口部110、第二开口部120、第一遮蔽部130、第二遮蔽部140以及第三遮蔽部150。
58.所述第一开口部110可以布置于所述掩模100的中央区域。一实施例中，所述第一开口部110可以具有拐角为圆弧的矩形形状。据此，所述第一开口部110可以具有至少一个侧面110a以及至少一个拐角110b。例如，所述第一开口部110可以具有4个侧面110a以及4个拐角110b。所述第一开口部110被贯通，并且可以使所述沉积物质dm通过。
59.所述第二开口部120可以相邻于所述第一开口部110的所述侧面110a。例如，所述掩模100可以包括分别相邻于所述第一开口部110的4个所述侧面110a的4个所述第二开口部120。所述第二开口部120被贯通，并且可以使所述沉积物质dm通过。
60.所述第一遮蔽部130可以布置为在平面上围绕所述第一开口部110以及所述第二开口部120。一实施例中，所述第一遮蔽部130可以具有拐角为直角的矩形形状。所述第一遮蔽部130可以布置于所述掩模100的最外围而维持所述掩模100的形状。所述第一遮蔽部130没有被贯通，并且可以使所述沉积物质dm不通过。
61.所述第二遮蔽部140可以布置于所述第一开口部110的所述拐角110b与所述第一遮蔽部130之间。例如，所述掩模100可以包括相邻于所述第一开口部110的4个所述拐角110b的4个所述第二遮蔽部140。
62.一实施例中，所述第二遮蔽部140可以包括多个狭缝140a。所述狭缝140a可以从所述第一开口部110朝向所述第一遮蔽部130延伸。据此，所述狭缝140a中的每一个可以在平面上是梯形形状。
63.并且，一实施例中，所述狭缝140a可以彼此相隔。据此，在所述多个狭缝140a之间可以定义多个开口140b。所述狭缝140a没有被贯通，并且可以使所述沉积物质dm不通过，而所述开口140b被贯通，并且可以使所述沉积物质dm通过。
64.所述第三遮蔽部150可以布置于所述第一开口部110的所述拐角110b与所述第二遮蔽部140之间。例如，所述掩模100可以包括相邻于所述第一开口部110的4个所述拐角110b的4个所述第三遮蔽部150。
65.一实施例中，所述第三遮蔽部150可以与所述狭缝140a连接。例如，所述狭缝140a中的每一个的一端部可以与所述第一遮蔽部130连接，所述狭缝140a中的每一个的另一端部可以与所述第三遮蔽部150连接。所述第三遮蔽部150将所述狭缝140a中的每一个的所述另一端部连接，从而可以维持所述狭缝140a的形状。为此，所述第三遮蔽部150可以在平面上是圆弧的形状。例如，所述第三遮蔽部150可以具有与所述第一开口部110的所述拐角
110b的形状相同的形状。
66.参照图2、图3以及图4，所述第三遮蔽部150的厚度150d可以小于所述第二遮蔽部140的厚度140d。在此，所述第二遮蔽部140的所述厚度140d也可以意味着所述狭缝140a中的每一个的厚度，也可以意味着所述开口140b中的每一个的厚度。例如，所述掩模100可以包括上表面以及与所述上表面相反的下表面。所述掩模100的所述上表面可以与所述沉积源300对向，所述掩模100的所述下表面可以与所述沉积对象基板200对向。在此情况下，所述第三遮蔽部150的上表面150t可以与所述第二遮蔽部140的上表面140t位于同一高度。相反，所述第三遮蔽部150的下表面150b可以位于比所述第二遮蔽部140的下表面140b高的高度。据此，所述第三遮蔽部150可以具有比第一遮蔽部130以及第二遮蔽部140薄的厚度。因此，所述沉积物质dm可以到达与所述第三遮蔽部150重叠的所述沉积对象基板200。并且，所述第三遮蔽部150的所述厚度150d可以比所述第三遮蔽部150的宽度150w小。所述第三遮蔽部150的所述厚度150d与所述宽度150w对应地被调节，从而所述沉积物质dm可以到达与所述第三遮蔽部150重叠的所述沉积对象基板200。
67.图5至图8是用于说明制造图2的掩模的方法的平面图以及剖视图。
68.参照图2以及图5，为了制造所述掩模100，可以准备定义有第一开口区域110'、第二开口区域120'、第一遮蔽区域130'、第二遮蔽区域140'以及第三遮蔽区域150'的基层100'。例如，所述第二开口区域120'可以与所述第一开口区域110'的侧面110'a相邻。所述第一遮蔽区域130'可以围绕所述第一开口区域110'。所述第二遮蔽区域140'可以布置于所述第一开口区域110'的拐角110'b与所述第一遮蔽区域130'之间。所述第三遮蔽区域150'可以布置于所述第一开口区域110'的所述拐角110'b与所述第二遮蔽区域140'之间。
69.参照图2以及图6，与所述第三遮蔽区域150'重叠的所述基层100'可以被去除一部分。据此，可以形成第三遮蔽部150。一实施例中，与所述第三遮蔽区域150'重叠的所述基层100'的下部可以被去除一部分。例如，可以朝向与所述第三遮蔽区域150'重叠的基层100'的下表面照射激光，从而所述基层100'的下部可以被去除一部分。据此，所述第三遮蔽部150的上表面可以与所述基层100'的上表面位于同一高度。相反，所述第三遮蔽部150的下表面可以位于比所述基层100'的下表面高的高度。
70.参照图2以及图7，与所述第一开口区域110'重叠的所述基层100'可以被去除。例如，可以朝向与所述第一开口区域110'重叠的所述基层100'的上表面(或者下表面)照射激光，从而与所述第一开口区域110'重叠的所述基层100'可以被完全去除。据此，可以形成第一开口部110。
71.参照图2以及图8，在与所述第二遮蔽区域140'重叠的所述基层100'可以形成有多个狭缝140a。例如，可以朝向与开口140b重叠的所述基层100'的上表面(或者下表面)照射激光，从而在与所述第二遮蔽区域140'重叠的所述基层100'可以形成多个狭缝140a。据此，可以形成第一遮蔽部130以及第二遮蔽部140。
72.图9是示出利用图2的掩模而制造的显示装置处于弯曲的状态的立体图，图10是示出图9的显示装置处于弯曲的状态的剖视图。例如，图10可以是沿图9的ii
‑
ii'线截取的剖视图。
73.参照图9以及图10，利用所述掩模100而制造的显示装置1000的边缘的至少一部分可以弯曲。例如，如图9所示，所述显示装置1000的边缘的全部可以沿背面方向弯曲。据此，
所述显示装置1000可以包括位于中央的前面部10、边角部20以及拐角部30。
74.具体地，在所述显示装置1000弯曲的情况下，所述前面部10可不会弯曲。据此，所述前面部10可以具有平面形状。
75.所述边角部20可以与所述前面部10的侧面相邻。例如，所述显示装置1000可以包括分别与4个侧面相邻的4个边角部20。
76.在所述显示装置1000弯曲的情况下，所述边角部20可以弯曲。例如，所述边角部20可以具有二维曲面形状。在此，所述二维曲面形状可以是平面沿一个方向弯曲的形状。例如，所述边角部20可以从所述前面部10朝所述边角部20的方向弯曲。
77.所述拐角部30可以与所述前面部10的拐角以及所述边角部20相邻。所述拐角部30可以布置于彼此垂直的所述边角部20之间。例如，所述显示装置1000可以包括分别相邻于4个拐角的4个拐角部30。
78.在所述显示装置1000弯曲的情况下，所述拐角部30可以弯曲。例如，所述拐角部30可以具有三维曲面形状。在此，所述三维曲面形状可以是平面沿两个以上的方向弯曲的形状。例如，所述拐角部30可以沿彼此垂直的两个方向之间的多个方向弯曲。
79.所述显示装置1000可以在所述前面部10、所述边角部20以及所述拐角部30显示图像。因此，所述显示装置1000的死角可以减少，并且所述显示装置1000可以提供更加提升的美感。
80.如图10所示，所述显示装置1000可以包括所述沉积对象基板200、所述沉积物质图案dmp、窗口win以及框架frm。所述沉积物质图案dmp可以布置于所述沉积对象基板200上。所述窗口wim可以保护所述沉积对象基板200以及所述沉积物质图案dmp免受外部冲击。所述沉积对象基板200、所述沉积物质图案dmp以及所述窗口win可以以对应于所述显示装置1000的方式弯曲。所述框架frm可以布置于所述沉积对象基板200、所述沉积物质图案dmp以及所述窗口win的端部。所述框架frm可以支撑所述沉积对象基板200、所述沉积物质图案dmp以及所述窗口win。
81.图11是示出包括于图9的显示装置的沉积对象基板处于展开的状态的平面图，图12是放大图11的b区域的放大图。
82.参照图11以及图12，所述沉积对象基板200可以包括位于中央的平面部1100、第一弯曲部1200以及第二弯曲部1300。例如，所述平面部1100可以与所述显示装置1000的所述前面部10对应，所述第一弯曲部1200可以与所述显示装置1000的所述边角部20对应，所述第二弯曲部1300可以与所述显示装置1000的所述拐角部30对应。所述显示装置1000为了在所述前面部10、所述边角部20以及所述拐角部30显示图像，在所述平面部1100、所述第一弯曲部1200以及第二弯曲部1300可以配备有多个像素区域pxa。在所述像素区域pxa中的每一个可以布置有像素(例如，图14的px)。
83.在一实施例中，为了在所述沉积对象基板200上形成所述沉积物质图案dmp，所述平面部1100可以与所述掩模100的所述第一开口部110对应而排列，所述第一弯曲部1200可以与所述第二开口部120对应而排列，所述第二弯曲部1300可以与所述第二遮蔽部140对应而排列。
84.在所述显示装置1000弯曲的情况下，所述平面部1100可以不弯曲。据此，所述平面部1100可以具有平面形状。一实施例中，所述平面部1100可以具有拐角为圆弧的矩形形状。
据此，所述平面部1100可以包括4个侧面1100a以及4个拐角1100b。
85.所述第一弯曲部1200可以与所述平面部1100的所述侧面1100a相邻。例如，所述沉积对象基板200可以包括分别与4个侧面1100a相邻的4个第一弯曲部1200。
86.在所述显示装置1000弯曲的情况下，所述第一弯曲部1200可以弯曲。例如，所述第一弯曲部1200可以具有所述二维曲面形状。例如，所述第一弯曲部1200可以从所述平面部1100朝所述第一弯曲部1200的方向弯曲。
87.所述第二弯曲部1300可以与所述平面部1100的所述拐角1100b以及所述第一弯曲部1200相邻。所述第二弯曲部1300可以布置于彼此垂直的所述第一弯曲部1200之间。例如，所述沉积对象基板200可以包括分别与4个拐角1100b相邻的4个第二弯曲部1300。
88.在所述显示装置1000弯曲的情况下，所述第二弯曲部1300可以弯曲。例如，所述第二弯曲部1300可以具有所述三维曲面形状。例如，所述第二弯曲部1300可以沿彼此垂直的两个方向之间的多个方向弯曲。
89.所述第二弯曲部1300可以包括多个显示块1300a。所述显示块1300a可以彼此相隔，并且可以从所述平面部1100的所述拐角1100b沿所述第二弯曲部1300的边缘延伸。据此，在所述显示块1300a之间可以定义有多个开口1300b。
90.一实施例中，为了在所述沉积对象基板200上形成所述沉积物质图案dmp，所述显示块1300a可以与所述掩模100的所述开口140b对应而排列，所述第二弯曲部1300的所述开口1300b可以与所述掩模100的所述狭缝140a对应而排列。
91.图13以及图14是用于说明利用掩模而在沉积对象基板上形成沉积物质图案的方法的剖视图。例如，图13以及图14可以同时图示沿图3的iii
‑
iii'截取的剖视图以及沿图12的iv
‑
iv'截取的剖视图。
92.参照图1、图3、图12以及图13，所述沉积对象基板200可以被排列为与所述沉积源300对向且将所述掩模100置于其之间。例如，如上所述，所述沉积对象基板200的所述平面部1100可以与所述掩模100的所述第一开口部110对应而排列，所述第一弯曲部1200可以与所述第二开口部120对应而排列，所述第二弯曲部1300可以与所述第二遮蔽部140对应而排列。据此，所述沉积对象基板200可以排列为与所述第一遮蔽部130不重叠。一实施例中，所述沉积对象基板200可以排列为使所述平面部1100与所述第二弯曲部1300相接的区域与所述第三遮蔽部150重叠。例如，所述沉积对象基板200可以排列为所述沉积对象基板200的所述拐角1100b与所述第三遮蔽部150重叠。
93.所述沉积对象基板200可以包括支撑基板sub、元件层trl、像素定义膜pdl、阳极电极ane以及发光层el。所述支撑基板sub可以包括玻璃基板、石英基板、塑料基板等。所述元件层trl可以布置于所述支撑基板sub上。所述元件层trl可以包括多个晶体管。所述阳极电极ane可以布置于所述元件层trl上。所述阳极电极ane可以布置于所述像素区域pxa，并且可以彼此相隔。所述阳极电极ane可以与所述晶体管电连接。所述像素定义膜pdl可以布置于所述元件层trl上，在所述像素定义膜pdl可以形成有暴露所述阳极电极ane的上表面的开口。所述像素定义膜pdl的所述开口可以形成于所述像素区域pxa。所述发光层el可以布置于所述像素定义膜pdl的所述开口内。例如，所述发光层el可以布置于所述像素区域pxa。所述发光层el可以根据借由所述阳极电极ane以及所述沉积物质图案dmp而施加的驱动电流发出光。
94.参照图1、图2、图3、图11以及图14，从所述沉积源300可以发射所述沉积物质dm。所述沉积物质dm通过所述掩模100的所述开口部而通过，从而可以凝聚于所述沉积对象基板200上。据此，在所述沉积对象基板200上可以形成所述沉积物质图案dmp。例如，所述沉积物质dm可以是用于形成所述阴极电极用金属膜的金属、合金等。据此，所述沉积物质图案dmp可以是用于形成像素px的阴极电极。例如，所述像素px可以包括所述阳极电极ane、作为所述阴极电极的所述沉积物质图案dmp以及布置于所述阳极电极ane与所述阴极电极之间的发光层el。
95.一实施例中，如上所述，所述第三遮蔽部150可以具有比第一遮蔽部130以及第二遮蔽部140薄的厚度。据此，所述沉积物质dm可以到达与所述第三遮蔽部150重叠的所述沉积对象基板200上。因此，在与所述第三遮蔽部150重叠的所述沉积对象基板200上也可以形成有所述沉积物质图案dmp，布置于所述平面部1100上的所述沉积物质图案dmp与布置于所述显示块1300a上的所述沉积物质图案dmp可以彼此连接。因此，所述沉积物质图案dmp可以在所述沉积对象基板200上以单一工艺形成。换言之，布置于沉积对象基板上的沉积物质图案可以同时形成。另外，由于所述第三遮蔽部150以较薄的厚度残存，所以与所述第三遮蔽部150重叠的区域的所述沉积物质图案dmp的厚度可以比与所述第一开口部110重叠的区域的所述沉积物质图案dmp的厚度小。
96.根据本发明的一实施例的掩模可以包括第一开口部、包括多个狭缝的第二遮蔽部以及布置于所述第一开口部和所述第二遮蔽部之间的第三遮蔽部。所述第三遮蔽部与所述狭缝连接，从而所述第三遮蔽部可以维持所述狭缝的形状。并且，所述第三遮蔽部具有比所述第一遮蔽部以及所述第二遮蔽部薄的厚度，从而可以同时形成布置于沉积对象基板上的沉积物质图案。
97.如上所述，参照本发明的示例性的实施例进行了说明，然而本领域中具有普通知识的人员应当理解在不脱离上述的权利要求的范围所记载的本发明的思想以及范围的情况下，可以进行多种修改以及变更。
98.工业利用可能性
99.本发明可应用于显示装置以及包括其的电子设备。例如，本发明可应用于高清晰度智能电话、便携式电话、智能板、智能手表、平板电脑、车辆用导航系统、电视、计算机显示器、笔记本等。
100.以上，参照本发明的示例性的实施例进行了说明，然而领域中具有普通知识的人员应当理解在不脱离上述的权利要求的范围所记载的本发明的思想以及范围的情况下，可以进行多种修改以及变更。